技术总结
本实用新型公开了一种碳化硅晶片刷洗装置，包括底板，本实用新型一种碳化硅晶片刷洗装置，通过设置一组在刷洗前可以放大倍率的CCD检测仪，使晶片在检测后及时反馈讯号到下道刷洗工序，下道工序可以依照CCD反馈的区域进行重点刷洗，另外，在刷洗装置上设计有别于传统的左右单一方向来回刷，而是以同心圆轨道由内圈往外圈刷洗，此设计一方面可以在刷洗前先将晶片表面污染物进行初步检查，可以针对脏污区进行有效刷洗，另一方面可以增加摩擦力的方式刷洗，使晶片表面品质提升，最终达到晶片表面洁净技术要求。
技术研发人员：林武庆;张洁;赖柏帆;陈文鹏
受保护的技术使用者：福建北电新材料科技有限公司
技术研发日：2018.06.29
技术公布日：2019.04.26