陶瓷盘清洗装置的制作方法

本实用新型涉及电子产品加工技术领域，尤其涉及一种陶瓷盘清洗装置。

背景技术：

中国半导体市场装机量需求增长迅猛，劳动力短缺、人工成本不断攀升，导致厂商对自动化设备需求提升，对降低生产成本、提高产品良率有着显著的效果。

现有的晶圆片(蓝宝石片、硅片等)在进行加工时需要进行多道工序，如清洗、涂胶、贴片、铲片、存放等。晶圆片在贴片前需要对陶瓷盘进行清洗，现有技术中一般都是采用超声波清洗。清洗时，陶瓷盘水平进入清洗装置内进行清洗，然而由于陶瓷盘尺寸较大，水平清洗需要占用较大的空间，因此，现有的陶瓷盘超声波清洗设备的结构较为复杂，清洗效率较低，且清洗后陶瓷盘上表面依然会存有少量杂物或液体。

技术实现要素：

为了克服现有技术的缺点，本实用新型提供一种占地面积小、清洗效率高、清洗效果好的陶瓷盘清洗装置。

本实用新型是通过如下技术方案实现的：一种陶瓷盘清洗装置，包括清洗槽、轨道及清洗机械手，所述清洗槽具有多个，用于清洗陶瓷盘，所述清洗机械手设置在轨道上并可沿轨道上下升降或左右移动，用于送入或取出清洗槽内的陶瓷盘，清洗机械手包括升降动力件、升降导轨、移动托架及托块，所述移动托架设置在升降导轨上，所述升降动力件与移动托架连接，所述托块为一对，两托块固定在移动托架底端，两托块之间形成用于垂直托起陶瓷盘边缘并避免其掉落的通道。

由于陶瓷盘首先需要送入清洗槽内进行清洗，而清洗完成的陶瓷盘需要从清洗槽内取出送入下一工位，为了保证清洗效率，所述轨道上设置有两组清洗机械手。

为了能够垂直托起陶瓷盘，并避免其掉落，所述托块上开设有可使陶瓷盘边缘嵌入的弧形槽。

为了感应移动托架上是否有陶瓷盘，移动托架一侧设置有侧挡杆，所述侧挡杆底端固定有用于感应陶瓷盘的感应器。

为了保证清洗时的稳定性，所述清洗槽内设置有可使陶瓷盘垂直插入的嵌入式托架。

本实用新型的有益效果是：该陶瓷盘清洗装置能够自动抓取或存放陶瓷盘，实现陶瓷盘的垂直清洗，清洗效率较高，清洗后由于重力作用，杂质能自动从陶瓷盘表面脱落，从而保证了产品质量。

附图说明

图1为本实用新型的陶瓷盘清洗装置的立体结构示意图；

图2为本实用新型的移动托架的结构示意图；

图3为本实用新型的清洗槽的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易被本领域人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

如图1所示的一种陶瓷盘清洗装置，包括清洗槽1、轨道2及清洗机械手，所述清洗槽1具有多个，各清洗槽1内设有超声波清洗机构，所述轨道2上设置有两组清洗机械手，水平动力件7可驱动清洗机械手沿轨道水平移动，用于送入或取出清洗槽1内的陶瓷盘，清洗机械手包括升降动力件6、升降导轨3、移动托架5及托块4，所述移动托架5设置在升降导轨3上，所述升降动力件6与移动托架5连接，升降动力件6可驱动移动托架5沿升降导轨3上下移动，所述托块4为一对，两托块4固定在移动托架5底端，两托块4之间形成用于垂直托起陶瓷盘边缘并避免其掉落的通道。

如图2所示，所述移动托架5大致上呈门字型，其底端固定一对托块4，两托块4的相对面上分别开设有可使陶瓷盘边缘嵌入的弧形槽41，两弧形槽41相配合即可将陶瓷盘托起。而移动托架5的一侧固定有侧挡杆8，侧挡杆8底端固定有用于感应陶瓷盘的感应器。

如图3所示的清洗槽1，其内部底端固定有两个嵌入式托架10，嵌入式托架10上开设有插槽，陶瓷盘可插接入插槽内实现垂直定位。而嵌入式托架10的周围为空腔，移动托架进入超声波放置槽内后也可作前后或上下移动，从而将嵌入式托架10上的陶瓷盘托出。

另外，本实用新型在清洗槽1一侧还设置有中转箱9，清洗好的陶瓷盘首先送入中转箱9内，需要使用时再从中转箱9内取出。

加工时，前部的清洗机械手将工作台上的陶瓷盘托起，然后沿着轨道2移动至对应位置，升降动力件6带动移动托架5沿升降导轨3下降，移动托架5上的陶瓷盘逐渐插入嵌入式托架10的插槽内，移动托架5继续下降，则陶瓷盘完全从托块4内脱出，此时，移动托架5后移即可逐渐上升，前部的清洗机械手即可将陶瓷盘依次放入不同的超声波放置槽内清洗，而清洗好的陶瓷盘由前部的清洗机械手送入中转箱9内暂存，当后一工位需要用到陶瓷盘时，后部的清洗机械手即可将中转箱9内的陶瓷盘取出。

需要说明的是，本实用新型的动力件等可以是气缸、电缸、电机、油缸等相关动力元件的替换，也可采用相应的连杆机构实现动力输出，并不局限于其名称或结构。

在本实用新型实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”、“设有”等应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“侧”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

最后应说明的是：以上上述的实施例，仅为本实用新型的具体实施方式，用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制，本实用新型的保护范围并不局限于此，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改或可轻易想到变化，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改、变化或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型实施例技术方案的精神和范围，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种陶瓷盘清洗装置，其特征在于：包括清洗槽、轨道及清洗机械手，所述清洗槽具有多个，用于清洗陶瓷盘，所述清洗机械手设置在轨道上并可沿轨道上下升降或左右移动，用于送入或取出清洗槽内的陶瓷盘，清洗机械手包括升降动力件、升降导轨、移动托架及托块，所述移动托架设置在升降导轨上，所述升降动力件与移动托架连接，所述托块为一对，两托块固定在移动托架底端，两托块之间形成用于垂直托起陶瓷盘边缘并避免其掉落的通道。

2.根据权利要求1所述的陶瓷盘清洗装置，其特征在于：所述轨道上设置有两组清洗机械手。

3.根据权利要求1所述的陶瓷盘清洗装置，其特征在于：所述托块上开设有可使陶瓷盘边缘嵌入的弧形槽。

4.根据权利要求1所述的陶瓷盘清洗装置，其特征在于：所述移动托架一侧固定有用于感应陶瓷盘的感应器。

5.根据权利要求1所述的陶瓷盘清洗装置，其特征在于：所述清洗槽内设置有可使陶瓷盘垂直插入的嵌入式托架。

技术总结
本实用新型涉及一种陶瓷盘清洗装置，包括清洗槽、轨道及清洗机械手，清洗槽包括多个用于垂直放置陶瓷盘的超声波放置槽，清洗机械手设置在轨道上并可沿轨道上下升降或左右移动，用于送入或取出清洗槽内的陶瓷盘，清洗机械手包括升降动力件、升降导轨、移动托架及托块，移动托架设置在升降导轨上，升降动力件与移动托架连接，托块为一对，两托块固定在移动托架底端，两托块之间形成用于垂直托起陶瓷盘边缘并避免其掉落的通道。该陶瓷盘清洗装置能够自动抓取或存放陶瓷盘，实现陶瓷盘的垂直清洗，清洗效率较高，清洗后由于重力作用，杂质能自动从陶瓷盘表面脱落，从而保证了产品质量。

技术研发人员：李继忠;李述周;朱春
受保护的技术使用者：常州科沛达清洗技术股份有限公司
技术研发日：2019.08.14
技术公布日：2020.05.26