一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备的制作方法

本实用新型涉及于硅溶胶精密铸造用的模组清洗领域，特别涉及一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备。

背景技术：

硅溶胶是粒径在1-100纳米范围的纳米二氧化硅在水或其他有机溶剂中的分散液，广泛应用于精密铸造、耐火材料、涂料、纺织、精密抛光等领域，国内的硅溶胶生产技术主要有离子交换法和硅粉水解法，其中硅粉水解法的生产工艺要主要是在反应釜中加入水，加入碱性催化剂，升温至合适温度后，加入硅粉，使硅粉在碱催化下进行水解，生成硅酸并聚合成二氧化硅粒子。

硅溶胶制壳做成的产品表面效果好，外表要求高的产品会需要使用，是精铸行业必须要使用的材料，硅溶胶的制壳模组在使用一段时间后通常需要进行清洗，现有的清洗方法通常是将其固定在夹具上进行冲洗，先冲洗表面，再翻转至背面清洗，但是，由于模组的重量通常较重，翻转清洗过程较为不易，因此，提供一种便于翻转清洗的用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备就成为急需解决的问题了。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是提供一种便于翻转清洗的用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备。

为了解决上述技术问题，本实用新型的技术方案为：

一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，包括清洗架，所述清洗架内壁底部架设有第一丝杆，所述第一丝杆上滑动安装有呈左右对称分布的第一滑动块，所述滑动块上焊接有固定块，所述固定块内转动安装有活动杆，所述活动杆的一端连接有固定夹具，所述活动杆的另一端穿设所述清洗架且延伸至所述清洗架外，所述清洗架在所述活动杆相对应的位置处设有紧固件；所述清洗架内壁上方相对设置有滑槽，所述滑槽内均滑动安装有滑板，所述滑板间架设有第二丝杆，所述第二丝杆上滑动安装有呈左右对称分布的第二滑动块，所述第二滑动块的底部均固定安装有伺服电机，所述伺服电机的输出端上设有清洁刷头。

优选的，所述清洗架的顶部设有水箱，所述水箱的两侧均通过软管连接喷嘴，所述喷嘴分别位于所述伺服电机的两侧。

优选的，所述水箱顶部设有进水口，所述水箱内设有液位计。

优选的，所述固定夹具包括固定架、调节螺栓和夹板，所述固定架的两侧均螺纹连接有所述调节螺栓，所述调节螺栓位于所述固定架内的一端上均安装有所述夹板。

优选的，所述滑板在液压缸的驱动下沿所述滑槽方向往返移动。

优选的，所述液压缸通过管箍固定安装于所述清洗架的内壁。

采用上述技术方案，将第一丝杆上的第一滑动块移动至理想位置后，配合固定夹具装夹待清洗模组，待清洗模组固定装夹后，再将第二丝杆上的第二滑动块移动至待清洗模组的正上方，配合滑槽向下移动，在伺服电机的驱动下通过清洁刷头对待清洗模组进行清洁，对待清洗模组的表面清洁过后，转动活动杆，直接将清洁过表面的清洗模组翻转过来，再次清洗，从而提供了一种便于翻转清洗的用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备。

附图说明

图1为一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备的结果示意图；

图2为图1中的a部放大示意图。

图中，1-第二滑动块，2-伺服电机，3-清洁刷头，4-紧固件，5-活动杆，6-第一丝杆，7-清洗架，8-第二丝杆，9-液压缸，10-水箱，11-固定夹具，111-调节螺栓，112-固定架，113-固定块，114-夹板。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本实用新型，但并不构成对本实用新型的限定。此外，下面所描述的本实用新型各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。

参考图1和图2，本实用新型提供一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，包括清洗架7，清洗架7内壁底部架设有第一丝杆6，第一丝杆6上滑动安装有呈左右对称分布的第一滑动块，滑动块上焊接有固定块113，固定块113内转动安装有活动杆5，活动杆5的一端连接有固定夹具11，第一滑动块可以在第一丝杆6上任意滑动，配合固定夹具11可以固定装夹不同大小的待清洗模组；活动杆5的另一端穿设清洗架7且延伸至清洗架7外，清洗架7在活动杆5相对应的位置处设有紧固件4；清洗架7内壁上方相对设置有滑槽，滑槽内均滑动安装有滑板，滑板间架设有第二丝杆8，第二丝杆8上滑动安装有呈左右对称分布的第二滑动块1，第二滑动块1的底部均固定安装有伺服电机2，伺服电机2的输出端上设有清洁刷头3，伺服电机2可以带动清洁刷头3转动，第二滑动块1可以在第二丝杆8上任意滑动，配合伺服电机2和清洁刷头3可以对待清洗模组进行清洗。

本实用新型的工作原理如下：将第一丝杆6上的第一滑动块移动至理想位置后，配合固定夹具11装夹待清洗模组，待清洗模组固定装夹后，再将第二丝杆8上的第二滑动块1移动至待清洗模组的正上方，配合滑槽向下移动，在伺服电机2的驱动下通过清洁刷头3对待清洗模组进行清洁，对待清洗模组的表面清洁过后，转动活动杆5，直接将清洁过表面的清洗模组翻转过来，再次清洗。

本实施例中，清洗架7的顶部设有水箱10，水箱10的两侧均通过软管连接喷嘴，喷嘴分别位于伺服电机2的两侧，喷嘴提供清洁时需要的水流，配合清洁刷头3对待清洗模组进行有效清洁。

本实施例中，水箱10顶部设有进水口，进水口用于向水箱10内注水，水箱10内设有液位计，液位计用于计量水箱10内的液位。

本实施例中，固定夹具11包括固定架112、调节螺栓111和夹板114，固定架112的两侧均螺纹连接有调节螺栓111，调节螺栓111位于固定架112内的一端上均安装有夹板114，通过转动调节螺栓111，将待清洗模组固定至夹板114间。

本实施例中，滑板在液压缸9的驱动下沿滑槽方向往返移动。

本实施例中，液压缸9通过管箍固定安装于清洗架7的内壁。

将第一丝杆6上的第一滑动块移动至理想位置后，配合固定夹具11装夹待清洗模组，待清洗模组固定装夹后，再将第二丝杆8上的第二滑动块1移动至待清洗模组的正上方，配合滑槽向下移动，在伺服电机2的驱动下通过清洁刷头3对待清洗模组进行清洁，对待清洗模组的表面清洁过后，转动活动杆5，直接将清洁过表面的清洗模组翻转过来，再次清洗，从而提供了一种便于翻转清洗的用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备。

以上结合附图对本实用新型的实施方式作了详细说明，但本实用新型不限于所描述的实施方式。对于本领域的技术人员而言，在不脱离本实用新型原理和精神的情况下，对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型，仍落入本实用新型的保护范围内。

技术特征：

1.一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，包括清洗架，其特征在于，所述清洗架内壁底部架设有第一丝杆，所述第一丝杆上滑动安装有呈左右对称分布的第一滑动块，所述滑动块上焊接有固定块，所述固定块内转动安装有活动杆，所述活动杆的一端连接有固定夹具，所述活动杆的另一端穿设所述清洗架且延伸至所述清洗架外，所述清洗架在所述活动杆相对应的位置处设有紧固件；所述清洗架内壁上方相对设置有滑槽，所述滑槽内均滑动安装有滑板，所述滑板间架设有第二丝杆，所述第二丝杆上滑动安装有呈左右对称分布的第二滑动块，所述第二滑动块的底部均固定安装有伺服电机，所述伺服电机的输出端上设有清洁刷头。

2.根据权利要求1所述的一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，其特征在于：所述清洗架的顶部设有水箱，所述水箱的两侧均通过软管连接喷嘴，所述喷嘴分别位于所述伺服电机的两侧。

3.根据权利要求2所述的一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，其特征在于：所述水箱顶部设有进水口，所述水箱内设有液位计。

4.根据权利要求1所述的一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，其特征在于：所述固定夹具包括固定架、调节螺栓和夹板，所述固定架的两侧均螺纹连接有所述调节螺栓，所述调节螺栓位于所述固定架内的一端上均安装有所述夹板。

5.根据权利要求1所述的一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，其特征在于：所述滑板在液压缸的驱动下沿所述滑槽方向往返移动。

6.根据权利要求5所述的一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，其特征在于：所述液压缸通过管箍固定安装于所述清洗架的内壁。

技术总结
本实用新型公开了一种用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备，包括清洗架，清洗架内壁底部架设有第一丝杆，第一丝杆上滑动安装有呈左右对称分布的第一滑动块，滑动块上焊接有固定块，固定块内转动安装有活动杆，采用上述技术方案，将第一丝杆上的第一滑动块移动至理想位置后，配合固定夹具装夹待清洗模组，待清洗模组固定装夹后，再将第二丝杆上的第二滑动块移动至待清洗模组的正上方，配合滑槽向下移动，在伺服电机的驱动下通过清洁刷头对待清洗模组进行清洁，对待清洗模组的表面清洁过后，转动活动杆，直接将清洁过表面的清洗模组翻转过来，再次清洗，从而提供了一种便于翻转清洗的用于硅溶胶精密铸造用的模组清洗设备。

技术研发人员：陆军
受保护的技术使用者：山东华美精密铸业有限公司
技术研发日：2020.04.15
技术公布日：2020.12.29