一种反应釜清洗装置的制作方法

1.本实用新型属于密封容器技术领域，具体是一种反应釜清洗装置。


背景技术：

2.现有反应釜的清洗过程是在反应釜内灌注预定量的清洗液进行搅拌清洗，仅能稀释清洗附着在反应釜内壁的产品溶液，当产品溶液在反应釜内壁上结块时无法将固态杂质清除。


技术实现要素：

3.发明目的：提供一种反应釜清洗装置，以解决现有技术存在的上述问题。
4.技术方案：一种反应釜清洗装置包括：空心管，用于与搅拌器的旋转轴固定连接，所述空心管的中心轴与搅拌器的旋转轴垂直配合，所述空心管绕搅拌器的中心轴螺旋分布。
5.喷头组件，每个空心管远离搅拌器的一端固定安装有至少一个喷头组件，所述喷头组件朝反应釜内壁方向喷射清洗液。
6.在进一步的实施例中，所述喷头组件包括主喷嘴，与空心管的中心轴平行配合。
7.侧喷嘴，固定安装在主喷嘴的外侧，所述侧喷嘴与主喷嘴的中心轴之间存在预定夹角，所述主喷嘴和侧喷嘴向远离搅拌器的旋转轴方向延伸，通过在主喷嘴的外壁上设置侧喷嘴，使侧喷嘴与主喷嘴的中心轴之间存在预定夹角，能够有效提高清洁范围。
8.在进一步的实施例中，所述喷头组件还包括向心喷嘴，固定安装在主喷嘴的外侧，所述向心喷嘴与主喷嘴的中心轴之间存在预定夹角，所述向心喷嘴向靠近搅拌器的旋转轴方向延伸，通过向靠近搅拌器的旋转轴方向延伸的向心喷嘴能够对搅拌器进行清洁。
9.在进一步的实施例中，所述搅拌器的旋转轴内部中空，所述旋转轴的顶端穿过反应釜的壳体，所述旋转轴穿过壳体的一端收容在供液系统的出液端内，所述旋转轴与供液系统的出液端转动连接，通过旋转轴与供液系统的出液端转动连接，能够解决当旋转角度超过预定值时液体输送管道会出现磨损的问题。
10.在进一步的实施例中，所述旋转轴收容在供液系统的出液端内的一端延伸有凸缘，所述凸缘与供液系统的出液端的底端抵接配合，通过在供液系统的出液端内设置凸缘，能够在保证旋转轴与供液系统的出液端转动连接的同时提高旋转轴与供液系统的出液端的密封性。
11.在进一步的实施例中，所述凸缘的底端绕旋转轴开设有锥形槽，所述供液系统的出液端与凸缘抵接配合的一端设置有圆台部，所述圆台部与锥形槽的内壁抵接配合，所述旋转轴穿过圆台部与凸缘固定连接。
12.有益效果：本实用新型公开了一种反应釜清洗装置，该反应釜清洗装置通过喷头组件朝反应釜内壁方向喷射高压清洗液能够解决现有技术在反应釜内壁上结块时无法将固态杂质清除的问题，而且喷头组件沿搅拌器的中心轴螺旋分布能够避免搅拌器侧偏，还
能够提高喷头组件的清洁范围。
附图说明
13.图1是本实用新型的局部剖视示意图。
14.图2是本实用新型的喷头组件示意图。
15.图3是本实用新型的旋转轴局部示意图。
16.图1至图3所示附图标记为：壳体1、旋转轴2、空心管3、喷头组件4、供液系统5、驱动装置11、凸缘21、主喷嘴41、侧喷嘴42、向心喷嘴43。
具体实施方式
17.在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本实用新型更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本实用新型可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本实用新型发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。
18.现有反应釜的清洗过程是在反应釜内灌注预定量的清洗液进行搅拌清洗，仅能稀释清洗附着在反应釜内壁的产品溶液，当产品溶液在反应釜内壁上结块时无法将固态杂质清除，为了解决上述问题申请人研发了一种反应釜清洗装置。
19.反应釜包括壳体1和搅拌器，搅拌器包括固定安装在壳体1外的驱动装置11，以及与驱动装置11传动连接的旋转轴2，旋转轴2的另一端延伸至壳体1内，该驱动装置11可以是电动机或气马达等旋转动力源，旋转轴2延伸至壳体1内的一端外侧还固定安装有搅拌叶片等结构，在图1中为了显示空心管3和喷头组件4的分布方式已将搅拌叶片等隐去。
20.反应釜清洗装置包括：空心管3、喷头组件4和供液系统5。
21.空心管3用于与搅拌器固定连接，空心管3的中心轴与搅拌器的旋转轴2垂直配合，空心管3绕搅拌器的中心轴螺旋分布。
22.喷头组件4至少有五个，每个空心管3远离搅拌器的一端固定安装有至少一个喷头组件4，喷头组件4朝反应釜内壁方向喷射清洗液。
23.供液系统5通过空心管3与喷头组件4连通，将清洗液从喷头组件4喷出。
24.工作原理：通过喷头组件4朝反应釜内壁方向喷射高压清洗液能够解决现有技术在反应釜内壁上结块时无法将固态杂质清除的问题，而且喷头组件4沿搅拌器的中心轴螺旋分布能够避免搅拌器侧偏，还能够提高喷头组件4的清洁范围。
25.在进一步的实施例中，现有单个喷嘴的清洗面过小，而且无法对搅拌器的旋转轴2进行清洗，存在清洁死角的问题。
26.为了解决上述问题，喷头组件4包括主喷嘴41，与空心管3的中心轴平行配合。
27.侧喷嘴42，固定安装在主喷嘴41的外侧，侧喷嘴42与主喷嘴41的中心轴之间存在预定夹角，主喷嘴41和侧喷嘴42向远离搅拌器的旋转轴2方向延伸。
28.其中主喷嘴41和侧喷嘴42可以根据清洗面和清洗压力选择高压喷嘴或扇形喷嘴或圆锥喷嘴。
29.通过在主喷嘴41的外壁上设置侧喷嘴42，使侧喷嘴42与主喷嘴41的中心轴之间存在预定夹角，能够有效提高清洁范围。
30.在进一步的实施例中，现有喷嘴的设置方向无法对搅拌器进行清洁。
31.为了解决上述问题，喷头组件4还包括向心喷嘴43，固定安装在主喷嘴41的外侧，向心喷嘴43与主喷嘴41的中心轴之间存在预定夹角，向心喷嘴43向靠近搅拌器的旋转轴2方向延伸。
32.其中向心喷嘴43可以根据根据清洗面和清洗压力选择扇形喷嘴或圆锥喷嘴，不选择高压喷嘴的原因是向心喷嘴43与旋转轴2的位置固定，所以需要提高清洗面的面积，太大的清洗压强容易对旋转轴2造成损伤。
33.通过向靠近搅拌器的旋转轴2方向延伸的向心喷嘴43能够对搅拌器进行清洁。
34.在进一步的实施例中，现有液体输送管道会随旋转轴2旋转，当旋转角度超过预定值时会出现磨损的问题。
35.为了解决上述问题，搅拌器的旋转轴2内部中空，旋转轴2的顶端穿过反应釜的壳体1和驱动装置11，旋转轴2穿过壳体1的一端收容在供液系统5的出液端内，旋转轴2与供液系统5的出液端转动连接。
36.通过旋转轴2与供液系统5的出液端转动连接，能够解决当旋转角度超过预定值时液体输送管道会出现磨损的问题。
37.在进一步的实施例中，旋转轴2收容在供液系统5的出液端内的一端延伸有凸缘21，凸缘21与供液系统5的出液端的底端抵接配合。
38.在进一步的实施例中，凸缘21的底端绕旋转轴2开设有锥形槽，供液系统5的出液端与凸缘21抵接配合的一端设置有圆台部，圆台部与锥形槽的内壁抵接配合，旋转轴2穿过圆台部与凸缘21固定连接。


技术特征：
1.一种反应釜清洗装置，其特征在于，包括：空心管，用于与搅拌器的旋转轴固定连接，所述空心管的中心轴与搅拌器的旋转轴垂直配合，所述空心管绕搅拌器的中心轴螺旋分布；喷头组件，每个空心管远离搅拌器的一端固定安装有至少一个喷头组件，所述喷头组件朝反应釜内壁方向喷射清洗液。2.根据权利要求1所述一种反应釜清洗装置，其特征在于，所述喷头组件包括主喷嘴，与空心管的中心轴平行配合；侧喷嘴，固定安装在主喷嘴的外侧，所述侧喷嘴与主喷嘴的中心轴之间存在预定夹角，所述主喷嘴和侧喷嘴向远离搅拌器的旋转轴方向延伸。3.根据权利要求2所述一种反应釜清洗装置，其特征在于，所述喷头组件还包括向心喷嘴，固定安装在主喷嘴的外侧，所述向心喷嘴与主喷嘴的中心轴之间存在预定夹角，所述向心喷嘴向靠近搅拌器的旋转轴方向延伸。4.根据权利要求2所述一种反应釜清洗装置，其特征在于，所述搅拌器的旋转轴内部中空，所述旋转轴的顶端穿过反应釜的壳体，所述旋转轴穿过壳体的一端收容在供液系统的出液端内，所述旋转轴与供液系统的出液端转动连接。5.根据权利要求4所述一种反应釜清洗装置，其特征在于，所述旋转轴收容在供液系统的出液端内的一端延伸有凸缘，所述凸缘与供液系统的出液端的底端抵接配合。6.根据权利要求5所述一种反应釜清洗装置，其特征在于，所述凸缘的底端绕旋转轴开设有锥形槽，所述供液系统的出液端与凸缘抵接配合的一端设置有圆台部，所述圆台部与锥形槽的内壁抵接配合，所述旋转轴穿过圆台部与凸缘固定连接。

技术总结
本实用新型公开了一种反应釜清洗装置，属于密封容器技术领域。该反应釜清洗装置包括：用于与搅拌器固定连接的空心管，空心管的中心轴与搅拌器的旋转轴垂直配合，空心管绕搅拌器的中心轴螺旋分布，每个空心管远离搅拌器的一端固定安装有至少一个喷头组件，喷头组件朝反应釜内壁方向喷射清洗液，本实用新型通过喷头组件朝反应釜内壁方向喷射高压清洗液能够解决现有技术在反应釜内壁上结块时无法将固态杂质清除的问题，而且喷头组件沿搅拌器的中心轴螺旋分布能够避免搅拌器侧偏，还能够提高喷头组件的清洁范围。头组件的清洁范围。头组件的清洁范围。


技术研发人员：王桂明 王晴晴 谭磊 成欣 张伟岸 王岳阳
受保护的技术使用者：南京华兴压力容器制造有限公司
技术研发日：2020.12.31
技术公布日：2021/10/8