本发明涉及硅片抛光,特别涉及一种清洁装置、设备及方法。
背景技术:
1、抛头对晶圆完成抛光后,抛头边缘以及抛头表面粘结的环氧树脂等粘结剂会存在沾污或颗粒等杂质,为了保证抛光的过程中不对晶圆带入新的杂质,需要对抛头进行清洁。现有的卡盘清洁器,通过支撑基质的旋转带动毛刷对抛头进行刷扫,并辅助具有一定水速的水流作用于毛刷和抛头之间,从而实现对抛头的清洁。但是抛头上沾污或颗粒的尺寸不同,且抛头表面粘结的环氧树脂等粘结剂导致粘结剂与抛头表面存在一定的高度差,因此,通过现有的卡盘清洁器无法对抛头进行彻底的清洁,从而影响晶圆的品质。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题,本发明提供一种清洁装置、设备及方法,能够解决现有技术中卡盘清洁器无法对抛头进行彻底的清洁,从而影响晶圆的品质的问题。
2、为了解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:
3、一种清洁装置,包括:
4、支撑件和支撑基质;
5、所述支撑件与所述支撑基质固定连接;
6、所述支撑基质上设置有至少一个第一毛刷以及至少一个第二毛刷,且所述第一毛刷与所述第二毛刷间隔设置;
7、所述第一毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接,且所述第二毛刷与所述支撑基质固定连接;或者,所述第二毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接,且所述第一毛刷与所述支撑基质固定连接;或者,所述第一毛刷和所述第二毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接。
8、进一步地,所述旋转轴为可伸缩旋转轴;
9、在所述旋转轴处于伸长状态时,所述第一毛刷和/或所述第二毛刷远离所述支撑基质;
10、在所述旋转轴处于缩短状态时,所述第一毛刷和/或所述第二毛刷靠近所述支撑基质。
11、进一步地,所述第一毛刷上的刷毛远离所述支撑基质的一端与所述支撑基质的距离为第一距离,所述第二毛刷上的刷毛远离所述支撑基质的一端与所述支撑基质的距离为第二距离;
12、所述第一距离与所述第二距离不同。
13、进一步地,所述第一毛刷上的刷毛与所述第二毛刷上的刷毛长度不同。
14、进一步地,所述第一毛刷与所述第二毛刷的刷毛设置密度不同。
15、进一步地,所述第一毛刷与所述第二毛刷均为三个,且所述第一毛刷与所述第二毛刷呈六十度设置。
16、本发明实施例还提供了一种清洁设备,包括:冲洗装置以及如上所述的清洁装置;
17、在所述清洁设备工作过程中,所述冲洗装置为所述清洁设备提供预设流速的清洗液对待清洁物品以及所述第一毛刷和所述第二毛刷进行清洗。
18、本发明实施例还提供了一种清洁方法,应用于如上所述的清洁装置,包括:
19、通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行第一方向的旋转的同时,通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行第二方向的旋转,并对待清洁物品进行清洁;或者,
20、通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行第一方向的旋转,对待清洁物品进行第一清洁;通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行第二方向的旋转,对待清洁物品进行第二清洁。
21、本发明的有益效果是:
22、本发明实施例的清洁装置,通过旋转轴将第一毛刷和/或第二毛刷设置于支撑基质上,使得所述第一毛刷和/或所述第二毛刷能够在所述旋转轴的带动下相对于所述支撑基质转动,能够对抛头表面不同尺寸的沾污或颗粒进行清洗。
1.一种清洁装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述旋转轴为可伸缩旋转轴;
3.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述第一毛刷上的刷毛远离所述支撑基质的一端与所述支撑基质的距离为第一距离,所述第二毛刷上的刷毛远离所述支撑基质的一端与所述支撑基质的距离为第二距离;
4.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述第一毛刷上的刷毛与所述第二毛刷上的刷毛长度不同。
5.根据权利要求1或4所述的清洁装置,其特征在于,所述第一毛刷与所述第二毛刷的刷毛设置密度不同。
6.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述第一毛刷与所述第二毛刷均为三个,且所述第一毛刷与所述第二毛刷呈六十度设置。
7.一种清洁设备,其特征在于,包括:冲洗装置以及如权利要求1至6任一项所述的清洁装置;
8.一种清洁方法,应用于如权利要求1至6任一项所述的清洁装置,其特征在于,包括: