流体处理装置的制作方法

文档序号:38158266发布日期:2024-05-30 12:13阅读:20来源:国知局
流体处理装置的制作方法

本发明涉及流体处理装置,特别涉及向流体照射紫外线来进行处理的装置。


背景技术:

1、以往,为了分解流体所含的微量的有机成分(toc:total organic carbon,总有机碳),已知一种利用波长200nm以下的紫外线来分解溶液中的toc的装置。例如,在下述专利文献1中,记载有使被处理液体在准分子灯的内部流通,并从流通路的周围照射紫外线的处理装置。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特开2017-188264号公报


技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、专利文献1的准分子灯是在内管与外管之间形成放电空间,并使被处理流体在内管内部流通的构造,但由于紫外线的透射率低,因此难以效率地推进向被处理流体的紫外线照射。

3、本发明是鉴于上述课题而完成的,其目的在于提供一种流体处理装置,能够效率地推进向被处理流体的紫外线照射。

4、用于解决课题的技术方案

5、本发明所涉及的流体处理装置具备:

6、内管;

7、外管,设置成包围所述内管;

8、放电空间,在所述内管与所述外管之间所夹的空间内填充放电用气体而成;

9、第一电极和第二电极,用于向所述放电空间施加电压;及

10、流路,设置于所述内管的内部,供被处理流体流通,

11、所述流路具有流体控制部,该流体控制部以使所述被处理流体接近所述内管的内周壁的方式对所述被处理流体进行引导。

12、根据该结构,能够使被处理流体在内管的内周壁的附近流通,因此来自内管的紫外线容易照射到被处理流体。其结果是,能够效率地推进向被处理流体的紫外线照射。

13、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:所述流路由插通于所述内管的流路管构成。

14、根据该结构,由于流路管与内管构成为分体,因此被处理流体不会与内管接触,内管不易受到来自被处理流体的压力、热变化的影响。

15、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:所述流路在所述内管的管轴方向上延伸,所述流体控制部插通于所述流路,且在沿所述管轴方向观察时占所述流路的截面积的1/2以上。

16、根据该结构,流路内的被处理流体在流体控制部的周围流动,因此会在内管的内周壁的附近流动。

17、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:所述流体控制部设置于所述流路的与所述放电空间相对的区域中的所述管轴方向的20%以上的区域。

18、根据该结构,有效地发挥了作为流体控制部的功能。

19、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:所述流体控制部是在所述管轴方向上间歇地设置的挡板。

20、根据该结构,被处理流体因挡板而容易滞留在流路内,因此能够效率地推进向被处理流体的紫外线照射。

21、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:所述内管与所述流路管配置成具有间隙。

22、根据该结构,即使在内管热膨胀或流路管因水压而膨胀的情况下,也能够缓和对两者的负荷。

23、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:外管由紫外线反射部覆盖。

24、根据该结构,使从外管向外方辐射的紫外线向内管侧反射,能够提高紫外线的利用效率。

25、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:所述第一电极设置于所述外管,且所述第二电极设置于所述内管,对所述第二电极施加高电压,且对所述第一电极施加低电压。

26、由于第二电极被施加高电压,所以与第一电极相比温度高,但由于第二电极被在相对的流路内通过的被处理流体夺去热,所以能够得到使整体的温度平均化、降低由在内管产生的热膨胀引起的应力的效果。

27、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:所述流体控制部在所述管轴方向的端部形成有对所述被处理流体的流通进行维持的流通形成部。

28、根据该结构,能够连续地处理被处理流体。

29、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:所述流路管与所述内管相比尺寸长,且比所述内管的管轴方向的两端突出。

30、根据该结构,能够提高从内管辐射的紫外线的利用效率。另外,容易在内管的两端固定流路管。

31、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:所述流路管在两端部分别具备流体导入部和流体导出部,

32、所述流体导入部和流体导出部的流路直径小于所述流路管的流路直径。

33、根据该结构,即使在流路管内设置有能够在管轴方向上移动的流体控制部的情况下,也能够利用流体导入部和流体导出部的端部限制流体控制部的移动。

34、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:在所述流体导入部和流体导出部中的至少一方,形成有在与所述流路管的管轴方向正交的方向上凹陷而成的凹部。

35、根据该结构,即使在将接头部连接于流体导入部和流体导出部的情况下,也能够防止接头部因流体的压力而从流体导入部和流体导出部脱落的情况。

36、另外,在本发明所涉及的流体处理装置中,也可以为如下结构:在所述外管的外表面设有使臭氧生成光衰减的衰减部。

37、根据该结构,能够防止树脂制的接头部等由于臭氧生成光、因臭氧生成光生成的臭氧而劣化的情况。



技术特征:

1.一种流体处理装置,具备:

2.根据权利要求1所述的流体处理装置,其中,

3.根据权利要求1所述的流体处理装置,其中,

4.根据权利要求3所述的流体处理装置,其中,

5.根据权利要求3所述的流体处理装置,其中,

6.根据权利要求2所述的流体处理装置,其中,

7.根据权利要求1所述的流体处理装置,其中,

8.根据权利要求1所述的流体处理装置,其中,

9.根据权利要求3所述的流体处理装置,其中,

10.根据权利要求2所述的流体处理装置,其中,

11.根据权利要求2所述的流体处理装置,其中,

12.根据权利要求11所述的流体处理装置,其中,

13.根据权利要求1所述的流体处理装置,其中,


技术总结
本发明提供一种流体处理装置,能够效率地推进向被处理流体的紫外线照射。流体处理装置具备:内管;外管,设置成包围内管;放电空间,在内管与外管之间所夹的空间内填充放电用气体而成;第一电极和第二电极,用于向放电空间施加电压;及流路,设置于内管的内部,供被处理流体流通,流路具有将被处理流体引导成接近内管的内周壁的流体控制部。

技术研发人员:至极稔,藤泽繁树
受保护的技术使用者:优志旺电机株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/5/29
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