一种水质传感器防护清洗装置的制作方法

本技术涉及水质监测，尤其涉及一种水质传感器防护清洗装置。

背景技术：

1、一般将水质监测站设置于浮标上，从而实现对定点水质的实时监测。目前水质监测指标主要包括ph值、溶解氧、电导率、浊度和温度等常规参数，以及orp、氨氮、余氯、cod、bod、重金属、亚硝酸-硝酸盐指数、总磷及叶绿素等对水自然环境影响较大监测因子。现有技术中，多种类型的传感器一般通过升降机构设置于水质监测站内，使用时，传感器下放至水体中进行水质监测；不使用时，传感器隐藏于水质监测站内。但这种水质监测站缺少传感器清洗设备，导致传感器上残留的以往液体或污秽影响到监测数据的真实可靠性。

技术实现思路

1、为解决现有技术不足，本实用新型提供一种水质传感器防护清洗装置，具有清洗传感器的功能。

2、为了实现本实用新型的目的，拟采用以下方案：

3、一种水质传感器防护清洗装置，设于浮标内，包括伸缩杆、上框、下框、若干升降杆、多个水喷头。

4、浮标底部设有通槽，通槽底面覆盖有挡板，挡板宽度与通槽宽度一致，挡板长度小于通槽长度；

5、伸缩杆水平设于通槽内，其活动端连接上框，上框底部通过若干升降杆连接下框，下框底部分布有多个传感器，上框、下框、传感器均位于通槽内，且位于挡板上方，挡板与浮标之间空隙的尺寸以允许下框通过为准；

6、多个水喷头对称设于通槽两侧，水喷头对着传感器设置，用于清洗传感器。

7、进一步的，通槽内沿其长度方向设有t字形框，上框为ㅠ字形，ㅠ字形上框的横部滑动配合于t字形框的横部。

8、进一步的，下框为倒立ㅠ字形，倒立ㅠ字形下框的横部滑动配合于t字形框底部。

9、进一步的，倒立ㅠ字形下框的横部超出t字形框的横部。

10、进一步的，通槽两侧壁设有滑槽，倒立ㅠ字形下框的横部滑动配合于对应的滑槽。

11、进一步的，通槽两侧壁设有凹槽，凹槽位于滑槽下方，多个水喷头分布于凹槽内。

12、进一步的，凹槽底面为朝传感器方向倾斜向下的斜面。

13、进一步的，挡板顶面低于凹槽底面，挡板朝挡板与浮标之间的空隙方向倾斜向下设置。

14、本实用新型的有益效果在于：具有清洗传感器的功能；为了将传感器隐藏于浮标内，本实用新型中的传感器先向上，再水平移动，通过这种方式可以将传感器隐藏于浮标更深处，提升对传感器的防护，也可以防止水体中的液体飞溅至传感器上，影响到传感器的清洁效果。

技术特征：

1.一种水质传感器防护清洗装置，其特征在于，设于浮标（1）内，包括伸缩杆（3）、上框（31）、下框（32）、若干升降杆（4）、多个水喷头（5）；

2.根据权利要求1所述的水质传感器防护清洗装置，其特征在于，通槽（11）内沿其长度方向设有t字形框（7），上框（31）为ㅠ字形，ㅠ字形上框（31）的横部滑动配合于t字形框（7）的横部。

3.根据权利要求2所述的水质传感器防护清洗装置，其特征在于，下框（32）为倒立ㅠ字形，倒立ㅠ字形下框（32）的横部滑动配合于t字形框（7）底部。

4.根据权利要求3所述的水质传感器防护清洗装置，其特征在于，倒立ㅠ字形下框（32）的横部超出t字形框（7）的横部。

5.根据权利要求4所述的水质传感器防护清洗装置，其特征在于，通槽（11）两侧壁设有滑槽（13），倒立ㅠ字形下框（32）的横部滑动配合于对应的滑槽（13）。

6.根据权利要求5所述的水质传感器防护清洗装置，其特征在于，通槽（11）两侧壁设有凹槽（14），凹槽（14）位于滑槽（13）下方，多个水喷头（5）分布于凹槽（14）内。

7.根据权利要求6所述的水质传感器防护清洗装置，其特征在于，凹槽（14）底面为朝传感器（6）方向倾斜向下的斜面。

8.根据权利要求7所述的水质传感器防护清洗装置，其特征在于，挡板（12）顶面低于凹槽（14）底面，挡板（12）朝挡板（12）与浮标（1）之间的空隙方向倾斜向下设置。

技术总结
本技术公开了一种水质传感器防护清洗装置，涉及水质监测技术领域，设于浮标内，防护清洗装置包括伸缩杆、上框、下框、若干升降杆、多个水喷头。浮标底部设有通槽，通槽底面覆盖有挡板，挡板宽度与通槽宽度一致，挡板长度小于通槽长度；伸缩杆水平设于通槽内，其活动端连接上框，上框底部通过若干升降杆连接下框，下框底部分布有多个传感器，上框、下框、传感器均位于通槽内，且位于挡板上方，挡板与浮标之间空隙的尺寸以允许下框通过为准；多个水喷头对称设于通槽两侧，水喷头对着传感器设置，用于清洗传感器。本方案具有清洗传感器的功能。

技术研发人员：杨君谦,杨宇,王旭,尹昌松
受保护的技术使用者：四川中资时代科技有限公司
技术研发日：20230321
技术公布日：2024/1/13