一种EDI水处理装置的制作方法

文档序号:36038089发布日期:2023-11-17 17:14阅读:37来源:国知局
一种EDI水处理装置的制作方法

本技术涉及水处理,具体为一种edi水处理装置。


背景技术:

1、edi为电化学去离子技术,是一种高科技水处理技术,利用特殊的电极和离子交换膜将水中的离子分离并去除,从而得到高纯度的水。它比其他传统的离子交换和反渗透技术具有更高的效率和更低的成本,因此在纯水生产、制药、电子、化工等领域得到广泛应用;

2、现有edi水处理装置在制备超纯水的操作过程中会产生大量的水垢,而水垢的形成是由于在edi水处理装置工作时浓水被电离的某些带正电的无机盐离子与浓水另一侧纯水中带负电的无机盐离子相结合形成,而这些水垢沉淀形成后会粘附在纯水室中,时间一长这些沉淀物则会影响edi处理装置制备超纯水的质量,因此本实用新型提供一种edi水处理装置。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种edi水处理装置,解决了背景技术中现有edi水处理装置在制备超纯水的操作过程中会产生大量的水垢,而这些水垢沉淀形成后会粘附在纯水室中,时间一长这些沉淀,就会影响edi处理装置制备超纯水的质量的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种edi水处理装置,包括用于生产高浓度水源的浓水罐和其两侧生产高纯度水源的纯水罐,以及用于盖装纯水罐的可拆罐盖和清理纯水罐内部的清理组件,可拆罐盖包括:

3、内盖,位于所述纯水罐正上方;

4、第二进水管,固定安装在所述内盖上方,并与所述纯水罐内部相连通;

5、固定片,装配于所述内盖两侧,且高度为所述内盖的二分之一;

6、外环盖,套设于所述内盖外围,并通过所述固定片与所述内盖固定连接。

7、所述清理组件包括:

8、刮环,位于所述纯水罐内部,且与其底端和内壁相贴合,其材质为轻质塑料;

9、连接片,固定装配于所述刮环内侧,且装配有两组;

10、挡环,固定安装于所述刮环内部;

11、导向杆,装配于所述内盖上,且与所述连接片滑动连接。

12、优选的,所述刮环内部开设有空腔,且空腔内部可放置产生电场的元器件。

13、优选的,所述浓水罐上端固定安装有第一进水管,第一进水管与所述浓水罐相连通,浓水罐一侧固定设置有出水管,出水管与所述浓水罐相连通。

14、优选的,所述纯水罐外侧固定安装有废水管。

15、优选的,所述浓水罐内部设置有阴膜和阳膜,并与所述纯水罐相连通,一组所述纯水罐的废水管处设置有阴膜,另一组所述纯水罐的废水管处设置有阳膜。

16、与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:

17、本实用新型提供的一种edi水处理装置,通过纯水罐、刮环、导向杆、内盖和外环盖的设置,实现了向纯水罐中注水使得刮环沿其内壁上升,并将水垢刮除,此过程中导向杆保证了刮环的稳定性,刮环内部制造电场的电子元件顺带将纯水罐内壁上残余的离子捕获,当注水完成后可通过内盖与外环盖之间形成的环槽将水垢取出。



技术特征:

1.一种edi水处理装置,包括用于生产高浓度水源的浓水罐(1)和其两侧生产高纯度水源的纯水罐(2),以及用于盖装纯水罐(2)的可拆罐盖(3)和清理纯水罐(2)内部的清理组件(4),其特征在于:所述可拆罐盖(3)包括:

2.根据权利要求1所述的一种edi水处理装置,其特征在于:所述刮环(41)内部开设有空腔(411),且空腔(411)内部可放置产生电场的元器件。

3.根据权利要求1所述的一种edi水处理装置,其特征在于:所述浓水罐(1)上端固定安装有第一进水管(11),第一进水管(11)与所述浓水罐(1)相连通,浓水罐(1)一侧固定设置有出水管(12),出水管(12)与所述浓水罐(1)相连通。

4.根据权利要求1所述的一种edi水处理装置,其特征在于:所述纯水罐(2)外侧固定安装有废水管(21)。

5.根据权利要求4所述的一种edi水处理装置,其特征在于:所述浓水罐(1)内部设置有阴膜(13)和阳膜(14),并与所述纯水罐(2)相连通,一组所述纯水罐(2)的废水管(21)处设置有阴膜(13),另一组所述纯水罐(2)的废水管(21)处设置有阳膜(14)。


技术总结
本技术公开了一种EDI水处理装置,涉及水处理技术领域,包括用于生产高浓度水源的浓水罐和其两侧生产高纯度水源的纯水罐,以及用于盖装纯水罐的可拆罐盖和清理纯水罐内部的清理组件,本技术解决了现有EDI水处理装置在制备超纯水的操作过程中会产生大量的水垢,而这些水垢沉淀形成后会粘附在纯水室中,时间一长这些沉淀,就会影响EDI处理装置制备超纯水的质量的问题,本实用通过向纯水罐中注水使得刮环沿其内壁上升,并将水垢刮除,此过程中导向杆保证了刮环的稳定性,刮环内部制造电场的电子元件顺带将纯水罐内壁上残余的离子捕获,当注水完成后可通过内盖与外环盖之间形成的环槽将水垢取出。

技术研发人员:于学梅,戈晓飞,于冰,陈飞,沈忠亮,于晓春,姜华,刘忠武,赵鑫,官斌
受保护的技术使用者:沈阳美星水处理设备有限公司
技术研发日:20230615
技术公布日:2024/1/15
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