一种吸气剂盖板片清洗工装的制作方法

本技术涉及激光陀螺吸气剂室，特别是一种吸气剂盖板片清洗工装。

背景技术：

1、激光陀螺是用于探测角运动的传感器，是一类特殊的真空电子器件，由低膨胀微晶玻璃(20-100℃热膨胀系数几乎不变)构成腔体，密封后形成环形氦氖激光器，激光在其内部按顺逆时针方向运行。激光陀螺要求有十年或更长的寿命，作为一类真空器件，其吸气剂室内部放置了非蒸散型或者蒸散型的吸气剂，以期吸收长时间存储过程中内部释放出的杂气或者由外部进入的少量杂质气体(主要为h2)。

2、吸气剂室通常通过吸气剂盖板片上的光胶来实现密封效果，且吸气剂盖板片需放入盛有专用化学试剂的烧杯中，使用超声波清洗机进行清洗后才能保证光胶的密封效果。

3、现有的吸气剂盖板片清洗工装的盖板片置放槽是为清洗圆形盖板片设计，一次清洗数量较少，清洗效率不高，且不同清洗液的化学试剂很容易出现交叉污染。

技术实现思路

1、本实用新型所要解决的技术问题是，针对现有吸气剂盖板片清洗工装易导致不同清洗液交叉污染的不足，本实用新型提供一种不易导致不同清洗液交叉污染的吸气剂盖板片清洗工装。

2、为解决上述技术问题，本实用新型采用了如下技术方案：

3、一种吸气剂盖板片清洗工装，包括底座和提杆，所述底座固定连接所述提杆，所述底座上设有多个盖板片置放槽，各盖板片置放槽的底部分别设置多个排液通孔。

4、本实用新型通过在盖板片置放槽的底部设置多个排液通孔，从而使得每次从清洗液中取出本实用新型工装时，清洗液都能从排液通孔内及时流出，从而避免本实用新型工装放入不同清洗液时，造成不同清洗液之间的交叉污染。

5、为使盖板片清洗槽中各处的清洗液及时流出，多个所述排液通孔在所述盖板片置放槽的底部沿盖板片置放槽的长度方向均布。

6、为方便矩形吸气剂盖板片的清洗，所述盖板片置放槽为矩形槽。

7、为方便矩形吸气剂盖板片的规律放置，所述盖板片置放槽的宽度略大于所述吸气剂盖板片的厚度，长度略大于所述吸气剂盖板片的长度或宽度。

8、为在相同尺寸的底座上设计尽可能多的盖板片置放槽，多个所述盖板片置放槽在所述底座上平行布置或呈直线布置。

9、在一具体实施中，所述提杆置于所述底座的中心，且所述提杆与所述底座螺纹连接。

10、为避免手持提杆时提杆滑落，所述提杆的顶端设有环形槽。

11、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

12、1、本实用新型清洗工装与现有的圆形吸气剂盖板片清洗工装相比，虽然使用了相同尺寸的底座，但设计了更多工位，保证了一次清洗的数量，使得吸气剂盖板片的清洗效率提高20％。

13、2、本实用新型在盖板片置放槽的底部设置排液通孔，保证了从不同清洗液中取出工装时，清洗液能够通过排液通孔流出，避免不同清洗液化学试剂的交叉污染。

14、3、本实用新型适用矩形吸气剂盖板片的批量清洗。

15、4、本实用新型能有效避免提杆的滑落。

技术特征：

1.一种吸气剂盖板片清洗工装，包括底座(1)和提杆(2)，所述底座固定连接所述提杆，其特征在于：所述底座上设有多个盖板片置放槽(11)，各盖板片置放槽(11)的底部分别设置多个排液通孔(12)。

2.根据权利要求1所述的吸气剂盖板片清洗工装，其特征在于，多个所述排液通孔在所述盖板片置放槽的底部沿盖板片置放槽的长度方向均布。

3.根据权利要求1所述的吸气剂盖板片清洗工装，其特征在于，所述盖板片置放槽为矩形槽。

4.根据权利要求3所述的吸气剂盖板片清洗工装，其特征在于，所述盖板片置放槽的宽度大于所述吸气剂盖板片的厚度，长度大于所述吸气剂盖板片的长度或宽度。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的吸气剂盖板片清洗工装，其特征在于，多个所述盖板片置放槽在所述底座上平行布置或呈直线布置。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的吸气剂盖板片清洗工装，其特征在于，所述提杆置于所述底座的中心，且所述提杆与所述底座螺纹连接。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的吸气剂盖板片清洗工装，其特征在于，所述提杆的顶端设有环形槽(21)。

技术总结
本技术涉及激光陀螺吸气剂室，特别是一种吸气剂盖板片清洗工装，其包括底座（1）和提杆（2），所述底座固定连接所述提杆，所述底座上设有多个盖板片置放槽（11），各盖板片置放槽的底部分别设置多个排液通孔（12）。本技术能避免不同清洗液的交叉污染，还能提高吸气剂盖板片的一次清洗量，提高清洗效率。

技术研发人员：袁明娟,苏一德,谢志坚
受保护的技术使用者：华惯科技有限公司
技术研发日：20230630
技术公布日：2024/1/15