一种清洗水刀的制作方法

文档序号:36583689发布日期:2024-01-06 22:55阅读:23来源:国知局
一种清洗水刀的制作方法

本技术涉及清洗水刀,具体为一种清洗水刀。


背景技术:

1、水刀,即以水为刀,本名高压水射流切割技术,这项技术最早起源于美国。用于航空航天军事工业。以其冷切割不会改变材料的物理化学性质而备受青睐。后经技术不断改进,在高压水中混入石榴砂、金刚砂等磨料辅助切割,极大的提高了水刀的切割速度和切割厚度。

2、在对半导体材料进行加工和生产时,也常常会用清洗水刀对半导体的表面进行冲洗,保证半导体表面的干净和整洁,但是在使用的清洗刀头中,不具有对水过滤的作用,导致水中杂质堆积在管道内,影响正常使用。

3、而公开号cn219025147u,一种清洗水刀,通过内部的过滤网便于对进入的水资源进行过滤,避免出现喷水孔被杂质堵塞而影响正常使用的情况,解决了因水未过滤而堵塞管道的问题。

4、但是在使用的清洗水刀时还存在着,刀头在长期使用下出现松动的问题,常用的刀头与管道的连接采用螺纹连接的方式,螺纹连接可以确保连接处密封性好,不易漏水,但是长期使用下,也会出现一些松动的情况,使刀头和管道的连接不够紧密,从而影响刀头喷水的质量,因此,设计了一种清洗水刀,以便于解决上述提出的问题。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种清洗水刀。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种清洗水刀,包括加工台,所述加工台上端固定连接固定架,所述固定架上固定连接滑架,所述滑架上滑动连接支撑台,所述支撑台上端设有清洗水刀组件,所述清洗水刀组件下端安装有管道,所述管道下端螺纹连接刀头,所述管道下端固定安装有限位环,所述刀头两侧滑动连接限位块,所述限位块和限位环卡接。

3、作为本实用新型的一种优选技术方案:所述刀头两侧均开设有滑槽,所述滑槽内滑动连接限位块。

4、作为本实用新型的一种优选技术方案:所述限位块上端一侧开设有凹槽,且凹槽内固定连接弹性片,所述弹性片一侧固定连接卡块,所述卡块和凹槽滑动连接。

5、作为本实用新型的一种优选技术方案:所述限位块一侧下端固定连接推板,所述推板和滑槽滑动连接。

6、作为本实用新型的一种优选技术方案:所述限位环两侧开设有卡槽,且卡槽和限位块相适配。

7、作为本实用新型的一种优选技术方案:所述清洗水刀组件由控制面板、水泵以及水箱组成。

8、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:通过在刀头与管道螺纹连接后,又使刀头与管道上设置的限位环卡接,使得刀头能够在使用时,防止与管道的螺纹连接出现松动,使得刀头能够稳定使用,在原有连接的基础上只增加限位的方式,也利于刀头的拆卸更换,结构简单实用。



技术特征:

1.一种清洗水刀,其特征在于,包括加工台(1),所述加工台(1)上端固定连接固定架(2),所述固定架(2)上固定连接滑架(21),所述滑架(21)上滑动连接支撑台(3),所述支撑台(3)上端设有清洗水刀组件(4),所述清洗水刀组件(4)下端安装有管道(5),所述管道(5)下端螺纹连接刀头(6),所述管道(5)下端固定安装有限位环(51),所述刀头(6)两侧滑动连接限位块(7),所述限位块(7)和限位环(51)卡接。

2.根据权利要求1所述的一种清洗水刀,其特征在于,所述刀头(6)两侧均开设有滑槽(61),所述滑槽(61)内滑动连接限位块(7)。

3.根据权利要求1所述的一种清洗水刀,其特征在于,所述限位块(7)上端一侧开设有凹槽,且凹槽内固定连接弹性片(71),所述弹性片(71)一侧固定连接卡块(72),所述卡块(72)和凹槽滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种清洗水刀,其特征在于,所述限位块(7)一侧下端固定连接推板(8),所述推板(8)和滑槽(61)滑动连接。

5.根据权利要求1所述的一种清洗水刀,其特征在于,所述限位环(51)两侧开设有卡槽,且卡槽和限位块(7)相适配。

6.根据权利要求1所述的一种清洗水刀,其特征在于,所述清洗水刀组件(4)由控制面板、水泵以及水箱组成。


技术总结
本技术公开了一种清洗水刀,包括加工台,加工台上端固定连接固定架,固定架上固定连接滑架,滑架上滑动连接支撑台,支撑台上端设有清洗水刀组件,清洗水刀组件下端安装有管道,管道下端螺纹连接刀头,管道下端固定安装有限位环,刀头两侧滑动连接限位块,限位块和限位环卡接,限位块上端一侧开设有凹槽,且凹槽内固定连接弹性片,弹性片一侧固定连接卡块,卡块和凹槽滑动连接,本技术的有益效果是:通过在刀头与管道螺纹连接后,又使刀头与管道上设置的限位环卡接,使得刀头能够在使用时,防止与管道的螺纹连接出现松动,使得刀头能够稳定使用,在原有连接的基础上只增加限位的方式,也利于刀头的拆卸更换。

技术研发人员:高瑞伯
受保护的技术使用者:世巨科技(合肥)有限公司
技术研发日:20230711
技术公布日:2024/1/5
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