一种工业用水防垢除垢装置的制作方法

本技术属于工业用水处理设备，尤其涉及一种工业用水防垢除垢装置。

背景技术：

1、在工业用水通常会进行循环使用，其常用作降温或加热介质使用，随着温度的变化及长期的循环使用，则容易在水管的管壁上形成大量的水垢，水垢不仅影响水的流动，而且会影响热能交换，降低设备的工作性能，严重影响用水设备的运行性能。目前多数采用投放化学制剂的方式进行除垢，但是此种方法不仅使用成本较高，而且需要定期、定量投放，增加了管理上的风险，而且由此产生的废水中也将残留部分化学成分，容易造成土壤及地下水污染。

技术实现思路

1、为解决现有技术不足，本实用新型提供一种工业用水防垢除垢装置，可有效去除水管内壁的结构，并能防止水管内壁结垢，无需投放化学制剂，从而避免造成环境污染。

2、为了实现本实用新型的目的，拟采用以下方案：

3、一种工业用水防垢除垢装置，包括：箱体、电磁管组及铜基箱体。

4、箱体前端用于连接进水管，后端用于连接出水管；

5、电磁管组设于箱体内部的前端，其包括呈矩形阵列布置的套管，且套管之间呈间隔设置，套管的轴线方向平行于箱体前后端的连线，位于阵列矩形中间一层的套管同轴设置有绕组线圈，用于产生直流磁场，绕组线圈的外部具有防水层，其余套管的内部均同轴穿设有电极棒，用于产生交变磁场，且电极棒与套管的内壁之间具有间隔，绕组线圈与电极棒均与控制系统相连；

6、铜基箱体设于箱体内部的后端，铜基箱体包括多块平行且相互间隔设置的铜基板，且铜基板平行于箱体前后端的连线，铜基板的侧面均开设有过个惯穿孔。

7、本实用新型的有益效果在于：通过设置电磁管组可破坏了生垢的条件，防止在管壁上生垢；通过铜基箱体的铜基材料向流体持续释放自由电子，改变水体静电位，使水体产生极化现象，阻止水体中的正负离子成垢，同时使已经板结的垢层逐渐脱落，溶解，从而实现除垢的目的，并且无需添加化学制剂，能有效避免环境污染。

技术特征：

1.一种工业用水防垢除垢装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种工业用水防垢除垢装置，其特征在于，电极棒（23）外部具有密封层。

3.根据权利要求1所述的一种工业用水防垢除垢装置，其特征在于，套管（21）为双层结构，其内壁与外壁之间具有管状空腔，管状空腔内填充有海绵。

4.根据权利要求1或3所述的一种工业用水防垢除垢装置，其特征在于，绕组线圈（22）呈螺旋结构，其卡设于套管（21）的内部。

5.根据权利要求1所述的一种工业用水防垢除垢装置，其特征在于，铜基板（31）之间采用多根导杆（32）相连。

6.根据权利要求1所述的一种工业用水防垢除垢装置，其特征在于，箱体（1）顶部设有维修门（11）。

7.根据权利要求1所述的一种工业用水防垢除垢装置，其特征在于，箱体（1）的底部设有排渣管（12），其底部设有可拆卸的挡板（13），挡板（13）贯穿设有一排水管（14），排水管（14）设有阀门（15）。

技术总结
本申请提供一种工业用水防垢除垢装置，包括：箱体、电磁管组及铜基箱体。电磁管组设于箱体内部的前端，其包括呈矩形阵列布置的套管，套管之间具有间隔，套管的轴线方向平行于箱体前后端的连线，位于阵列矩形中间一层的套管同轴设置有绕组线圈，用于产生直流磁场，绕组线圈的外部具有防水层，其余套管的内部均同轴穿设有电极棒，用于产生交变磁场，且电极棒与套管的内壁之间具有间隔。铜基箱体设于箱体内部的后端，铜基箱体包括多块平行且相互间隔设置的铜基板，且铜基板平行于箱体前后端的连线，铜基板的侧面均开设有过个惯穿孔。可有效去除水管内壁的结构，并能防止水管内壁结垢，无需投放化学试剂，从而避免造成环境污染。

技术研发人员：王竹斌,董晓华
受保护的技术使用者：成都东和昌科技有限公司
技术研发日：20230717
技术公布日：2024/1/15