一种双弧形磁瓦制备装置的制作方法

本申请涉及磁瓦的，尤其是涉及一种双弧形磁瓦制备装置。

背景技术：

1、磁瓦是永磁体中的一种，主要用在永磁电机上的瓦状磁铁，磁瓦根据其原材料的不同主要有三大类：铁氧体磁瓦、钕铁硼磁瓦和铝镍钴磁铁，磁瓦在永磁直流电机中的应用，与电磁式电机通过励磁线圈产生磁势源不同，永磁电机是以永磁材料产生恒定磁势源，永磁磁瓦代替电励磁具有很多优点，可使电机结构简单、维修方便、重量轻、体积小、使用可靠、用铜量少、铜耗低、能耗小等。

2、目前双弧形磁瓦是磁瓦中最常见的一种，双弧形磁瓦在加工生产过程中，需要通过磁瓦制备装置进行加工，磁瓦制备装置通常包括机架和设置于机架上的输送机构，输送机构通常采用电机带动输送辊转动，进而带动输送皮带转动，将输送皮带上的磁瓦进行输送的结构，对磁瓦加工时，将磁瓦放置到输送机构上进行输送，输送过程中，工作人员需要对输送机构上的磁瓦的内外表面进行清理，以将磁瓦加工过程中产生的杂物进行清理，清理完成后将磁瓦输送出去。

3、发明人认为：该现有技术存在有对磁瓦的内外表面的清理不便捷的缺陷。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足，本实用新型提出一种双弧形磁瓦制备装置。该一种双弧形磁瓦制备装置具有能够提升对磁瓦的内外表面的清理的便捷性的效果。

2、本申请提供的一种双弧形磁瓦制备装置，采用如下的技术方案：

3、一种双弧形磁瓦制备装置，包括机架和设置于机架上且用于对磁瓦进行输送的输送机构，所述机架上设置有清理装置，所述清理装置包括用于对磁瓦的内外表面进行清理的清理辊组和设置于机架上且用于带动清理辊组沿着磁瓦的外表面进行转动的转动机构。

4、通过采用上述技术方案，通过清理装置的设置，将清理辊组放置于磁瓦处，并通过转动机构带动清理辊组转动，清理辊组能够沿着磁瓦的表面进行转动，对磁瓦的内外表面进行清理，能够提升对磁瓦的内外表面的清理的便捷性。

5、可选的，所述清理辊组包括用于对磁瓦的外表面进行清理的清理辊一和用于对磁瓦的内表面进行清理的清理辊二。

6、通过采用上述技术方案，通过清理辊一对磁瓦的外表面进行清理，通过清理辊二对磁瓦的内表面进行清理，实现对磁瓦的清理。

7、可选的，所述转动机构包括设置于清理辊一与清理辊二上的转动板和用于带动转动板转动的转动组件。

8、通过采用上述技术方案，启动转动组件，带动转动板转动，进而实现清理辊一和清理辊二的转动。

9、可选的，所述转动组件包括用于带动转动板转动的转动杆和用于带动转动杆转动的驱动件。

10、通过采用上述技术方案，启动驱动件，能够带动转动杆转动，进而带动转动板转动，操作便捷。

11、可选的，所述清理辊一和清理辊二上均开设有吸尘孔和吸尘腔，吸尘孔与吸尘腔连通，所述转动板上设置有吸尘管道，所述吸尘管道的一端伸入转动板内且与两个吸尘腔均连通。

12、通过采用上述技术方案，通过吸尘管道的设置，吸尘管道可与吸尘风机相连，通过吸尘管道、吸尘腔和吸尘孔，能够在清理辊一和清理辊二沿着磁瓦转动时，对磁瓦上的杂物进行清理，使得磁瓦上的杂物的清理更加高效、便捷。

13、可选的，所述机架上设置有用于对磁瓦沿着机架的宽度方向的两端进行限位的限位装置，所述限位装置包括设置于机架上用于对磁瓦的一端进行抵接的固定板和用于对磁瓦的另一端进行限位的滑动板。

14、通过采用上述技术方案，通过限位装置的设置，能够对磁瓦的两端进行限位，进而使得磁瓦在输送过程中更加精确，减少磁瓦在输送过程中容易发生偏移的现象。

15、可选的，所述机架上设置有用于推动滑动板滑动调节的驱动器。

16、通过采用上述技术方案，启动驱动器，能够带动滑动板滑动，进而实现滑动板的便捷滑动调节。

17、可选的，所述滑动板上设置有联动板，所述联动板的一端与驱动件相连接。

18、通过采用上述技术方案，通过联动板的设置，使得滑动板在向磁瓦处滑动过程中，能够同时带动驱动件和清理装置向磁瓦处滑动，进而带动清理装置运动到磁瓦处，方便对磁瓦进行清理作业，使得磁瓦的清理作业更加高效。

19、综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

20、1.通过清理装置的设置，将清理辊组放置于磁瓦处，并通过转动机构带动清理辊组转动，清理辊组能够沿着磁瓦的表面进行转动，对磁瓦的内外表面进行清理，能够提升对磁瓦的内外表面的清理的便捷性；

21、2.通过吸尘管道的设置，吸尘管道可与吸尘风机相连，通过吸尘管道、吸尘腔和吸尘孔，能够在清理辊一和清理辊二沿着磁瓦转动时，对磁瓦上的杂物进行清理，使得磁瓦上的杂物的清理更加高效、便捷；

22、3.通过限位装置的设置，能够对磁瓦的两端进行限位，进而使得磁瓦在输送过程中更加精确，减少磁瓦在输送过程中容易发生偏移的现象；

23、4.通过联动板的设置，使得滑动板在向磁瓦处滑动过程中，能够同时带动驱动件和清理装置向磁瓦处滑动，进而带动清理装置运动到磁瓦处，方便对磁瓦进行清理作业，使得磁瓦的清理作业更加高效。

技术特征：

1.一种双弧形磁瓦制备装置，包括机架(1)和设置于机架(1)上且用于对磁瓦(2)进行输送的输送机构(3)，其特征在于：所述机架(1)上设置有清理装置(4)，所述清理装置(4)包括用于对磁瓦(2)的内外表面进行清理的清理辊组(41)和设置于机架(1)上且用于带动清理辊组(41)沿着磁瓦(2)的外表面进行转动的转动机构(42)。

2.根据权利要求1所述的一种双弧形磁瓦制备装置，其特征在于：所述清理辊组(41)包括用于对磁瓦(2)的外表面进行清理的清理辊一(411)和用于对磁瓦(2)的内表面进行清理的清理辊二(412)。

3.根据权利要求2所述的一种双弧形磁瓦制备装置，其特征在于：所述转动机构(42)包括设置于清理辊一(411)与清理辊二(412)上的转动板(421)和用于带动转动板(421)转动的转动组件(422)。

4.根据权利要求3所述的一种双弧形磁瓦制备装置，其特征在于：所述转动组件(422)包括用于带动转动板(421)转动的转动杆(423)和用于带动转动杆(423)转动的驱动件(424)。

5.根据权利要求4所述的一种双弧形磁瓦制备装置，其特征在于：所述清理辊一(411)和清理辊二(412)上均开设有吸尘孔和吸尘腔，吸尘孔与吸尘腔连通，所述转动板(421)上设置有吸尘管道(5)，所述吸尘管道(5)的一端伸入转动板(421)内且与两个吸尘腔均连通。

6.根据权利要求5所述的一种双弧形磁瓦制备装置，其特征在于：所述机架(1)上设置有用于对磁瓦(2)沿着机架(1)的宽度方向的两端进行限位的限位装置(6)，所述限位装置(6)包括设置于机架(1)上用于对磁瓦(2)的一端进行抵接的固定板(61)和用于对磁瓦(2)的另一端进行限位的滑动板(62)。

7.根据权利要求6所述的一种双弧形磁瓦制备装置，其特征在于：所述机架(1)上设置有用于推动滑动板(62)滑动调节的驱动器(7)。

8.根据权利要求7所述的一种双弧形磁瓦制备装置，其特征在于：所述滑动板(62)上设置有联动板(8)，所述联动板(8)的一端与驱动件(424)相连接。

技术总结
本申请涉及磁瓦的技术领域，尤其是涉及一种双弧形磁瓦制备装置，包括机架和设置于机架上且用于对磁瓦进行输送的输送机构，所述机架上设置有清理装置，所述清理装置包括用于对磁瓦的内外表面进行清理的清理辊组和设置于机架上且用于带动清理辊组沿着磁瓦的外表面进行转动的转动机构。该一种双弧形磁瓦制备装置具有能够提升对磁瓦的内外表面的清理的便捷性的效果。

技术研发人员：戴何军
受保护的技术使用者：宁波精求磁电有限公司
技术研发日：20230823
技术公布日：2024/3/24