一种水处理清理装置的制作方法

本申请涉及水处理，具体为一种水处理清理装置。

背景技术：

1、在对工业循环水以及工业污水处理的过程中，通过电化学水处理，在阴阳极之间形成电场而使水中离子分别向带电荷相反方向移动，处理随电极吸附能力及作业时间而沉积形成浓缩与结晶，即可将污垢取出。

2、目前在进行化学除垢时，电化学除垢设备的阴阳极处于固定状态，通过电化学技术将污水中的污垢以沉积的方式形成后，需要主动进行去除，且现有的电化学除垢设备其监测及除垢效能相对不足。

技术实现思路

1、有鉴于此，本实用新型的目的是解决背景技术中存在的缺点，而提出一种水处理清理装置，以解决现有技术中所存在的问题。

2、为达到以上目的，本实用新型提供了一种水处理清理装置，包括反应箱，所述反应箱的一端固定安装有第一轴承箱组，所述第一轴承箱组内设置有绝缘旋转电极组，所述反应箱远离第一轴承箱组的一端固定安装有第二轴承箱组，所述第一轴承箱组与第二轴承箱组的内表面均转动连接有传动轴，所述传动轴的外表面设置有阴极。

3、优选的，所述传动轴靠近第一轴承箱组的一端设置有联轴器，且联轴器与外部电机相连，外部电机启动后可经联轴器打动传动轴转动。

4、优选的，所述反应箱的内部设置有阳极，所述反应箱的内侧设置有除垢组，除垢组由耐磨材料以支持同轴度，以及铸钢削垢刀，削垢刀构架体组成，由此可以达到除垢去垢目标。

5、优选的，所述反应箱靠近除垢组的一侧设置有第一监测组，所述反应箱靠近除垢组的一侧中部设置有第二监测组。

6、优选的，所述阳极的端头处设置有阳极铜排，所述反应箱的内侧固定安装有除垢箱。

7、优选的，所述反应箱的端头处设置有密封垫片，所述反应箱的外表面固定安装有标准法兰件。

8、与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

9、1、该水处理清理装置，预处理溶液经反应箱循环处理，在阴极区域不断的沉积结垢，并经监测监控垢层的结晶状态，由阴极旋转运动与刮垢除垢组，两者相对圆周运动，产生剪切复合力可去除阴极表面污垢层，从而达到自动除去垢层的效果。

10、2、该水处理清理装置，装置中的第二监测组与第一监测组基本功能相似，均用于监控监测阴极产生垢层的装署，所监测及监控的处理溶体相同，能够得到不同形式的数据，供控制装备目标的使用，常用ph测定、浓度测定等，可有效减少污垢监测失真从及垢结晶层误差较大而带来的实际操作的困扰。

技术特征：

1.一种水处理清理装置，包括反应箱(1)，其特征在于：所述反应箱(1)的一端固定安装有第一轴承箱组(2)，所述第一轴承箱组(2)内设置有绝缘旋转电极组(3)，所述反应箱(1)远离第一轴承箱组(2)的一端固定安装有第二轴承箱组(12)，所述第一轴承箱组(2)与第二轴承箱组(12)的内表面均转动连接有传动轴(5)，所述传动轴(5)的外表面设置有阴极(6)。

2.根据权利要求1所述的一种水处理清理装置，其特征在于：所述传动轴(5)靠近第一轴承箱组(2)的一端设置有联轴器(4)，且联轴器(4)与外部电机相连。

3.根据权利要求1所述的一种水处理清理装置，其特征在于：所述反应箱(1)的内部设置有阳极(7)，所述反应箱(1)的内侧设置有除垢组(8)。

4.根据权利要求3所述的一种水处理清理装置，其特征在于：所述反应箱(1)靠近除垢组(8)的一侧设置有第一监测组(9)，所述反应箱(1)靠近除垢组(8)的一侧中部设置有第二监测组(10)。

5.根据权利要求3所述的一种水处理清理装置，其特征在于：所述阳极(7)的端头处设置有阳极铜排(11)，所述反应箱(1)的内侧固定安装有除垢箱(13)。

6.根据权利要求1所述的一种水处理清理装置，其特征在于：所述反应箱(1)的端头处设置有密封垫片(14)，所述反应箱(1)的外表面固定安装有标准法兰件(15)。

技术总结
本技术属于水处理技术领域，具体公开了一种水处理清理装置，包括反应箱，所述反应箱的一端固定安装有第一轴承箱组，所述第一轴承箱组内设置有绝缘旋转电极组，所述反应箱远离第一轴承箱组的一端固定安装有第二轴承箱组，所述第一轴承箱组与第二轴承箱组的内表面均转动连接有传动轴，所述传动轴的外表面设置有阴极，所述传动轴靠近第一轴承箱组的一端设置有联轴器，且联轴器与外部电机相连。该水处理清理装置，预处理溶液经反应箱循环处理，在阴极区域不断的沉积结垢，并经监测监控垢层的结晶状态，由阴极旋转运动与刮垢除垢组，两者相对圆周运动，产生剪切复合力可去除阴极表面污垢层，从而达到自动除去垢层的效果。

技术研发人员：王法衡,武宏让,孙寿强,伍晓宇,卢超,艾鹏飞,王锋涛,张涛
受保护的技术使用者：陕西优创环保科技有限公司
技术研发日：20230825
技术公布日：2024/5/8