一种水选除杂设备的制作方法

文档序号:38457725发布日期:2024-06-24 14:44阅读:19来源:国知局
一种水选除杂设备的制作方法

本技术涉及硅石生产,具体为一种水选除杂设备。


背景技术:

1、在硅的生产加工过程中,需要将原料硅石经过洗选、筛分通过自动配料秤,石油焦经过破碎机进行破碎磁选通过自动配料秤,木炭、煤、木片等原料均通过自动配料秤,选用计算机plc模块等程序控制各料比例,分别从料仓汇集到一条皮带运输机上,通过送料过程进行混匀,进入电炉内,而人工洗选、筛分效率低下,并且会造成极大的人力浪费,因此生产厂家往往会使用专门的硅石水选除杂设备来对硅石原料进行洗选筛分。

2、中国授权的公告号为cn215844452u,名为硅石清洗筛选及出料装置的专利,该装置包括筛选部件、驱动部件、冲洗部件,筛选部件设置于驱动部件正上方,冲洗部件设置于筛选部件内部,所述驱动部件包括支撑座、传动件,传动件设置于支撑座上,所述传动件包括电动机、传动轴、限位轮、轴座、链轮、链条,电动机固定设置于支撑座侧边,轴座固定设置于支撑座两端靠近边侧位置,传动轴两端穿过轴座,传动轴的两个端部固定设置有驱动导轮,且位于两个轴座之间,链轮套装于轴端,并与链轮连接,限位轮固定在支撑座两端中间位置,筛选部件包括筛筒、引导板,筛筒设置于传动轴上方,引导板固定设置于所述筛筒内壁。增加了引导板和分水件,使硅石原料得到充分水洗筛选,提高了生产效率。

3、上述装置虽然使硅石原料得到充分水洗筛选,但是该装置在使用时还存在一些问题:

4、1.该装置不具备超声波清洗机构,仅能够对硅石进行冲洗,而冲洗往往只能够清除掉硅石表面粘附较为疏松的杂质,无法对顽固杂质和污物进行清洗,导致其清洗效果较差。

5、2.该装置不具备烘干机构,当其对硅石清洗完成后,硅石需要经过长时间晾干才能进入下一道工序,因此对生产效率产生了一定影响。

6、针对上述情况,在现有的硅石水选除杂设备基础上进行技术创新。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种水选除杂设备,以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种水选除杂设备,包括清洗槽和清洗框,所述清洗槽的底端中部安装有超声波换能器,且超声波换能器的内部顶端固定有辐射面盖,所述辐射面盖的底端设置有压电陶瓷片一,且压电陶瓷片一的底端设置有电极环一,所述电极环一的底端设置有压电陶瓷片二,且压电陶瓷片二的底端设置有电极环二,所述电极环二的底端设置有底盖,且底盖的底端安装有预应力螺栓,所述清洗框设置于清洗槽的内部。

3、进一步的,所述清洗槽的一侧固定有立管,且立管的底端连接有外接水管。

4、进一步的,所述立管定顶端连接有喷管,且喷管的一端底部设置有加压喷头。

5、进一步的,所述清洗槽远离立管的一侧外壁安装有鼓风机,且鼓风机的顶端连接有加热器。

6、进一步的,所述加热器的内部设置有加热管,且加热管的内部设置有发热丝。

7、进一步的,所述加热器的顶端连接有风管,且风管的末端固定有吹风头。

8、进一步的,所述清洗槽的底端左右两侧均固定有支撑组件,且支撑组件包括支撑腿和横撑,所述支撑腿的内侧连接有横撑。

9、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该装置设置有超声波清洗机构,能够对硅石进行超声波清洗,从而清除硅石比表面粘附较紧的顽固杂质,有利于提高该装置的清洗效果,同时该装置设置有烘干机构,在对硅石清洗后能够直接对硅石烘干,从而减少硅石进入下一步加工的等待时间,有利于提高生产效率。

10、1.本实用新型通过清洗槽、超声波换能器、辐射面盖、压电陶瓷片一、电极环一、压电陶瓷片二、电极环二、底盖、预应力螺栓和清洗框的设置,超声波换能器设置有多个,当使用该装置进行清洗时,工作人员可将硅石放置在清洗框内,并向清洗槽内注入一定的清水,待清水没过硅石后,工作人员可开启超声波换能器开关,此时电极环一与电极环二通电,压电陶瓷片一与压电陶瓷片二会产生高频的震动,并产生超声波,超声波的能量会通过辐射面盖传导到水体中,并在空化作用、直进流作用和加速度作用等原理下将顽固的附着物打散、洗净,进而明显提高该装置的清洗效果,通过上述过程,该装置能够对硅石进行超声波清洗,从而清除硅石比表面粘附较紧的顽固杂质,有利于提高该装置的清洗效果。

11、2.本实用新型通过鼓风机、加热器、加热管、发热丝、风管和吹风头的设置,当该装置清洗完成后,工作人员可开启烘干开关,此时鼓风机与加热器开启,鼓风机能够将气流通过加热器、风管和吹风头吹向硅石表面,而在气流经过加热器时,会被发热丝和加热管加热成为热风,热风能够加速硅石表面水分的蒸发,从而使得硅石快速干燥,进而使得硅石能够尽快的投入下一个生产流程中,通过上述过程,该装置在对硅石清洗后能够直接对硅石烘干,从而减少硅石进入下一步加工的等待时间,有利于提高生产效率。



技术特征:

1.一种水选除杂设备,包括清洗槽(1)和清洗框(10),其特征在于,所述清洗槽(1)的底端中部安装有超声波换能器(2),且超声波换能器(2)的内部顶端固定有辐射面盖(3),所述辐射面盖(3)的底端设置有压电陶瓷片一(4),且压电陶瓷片一(4)的底端设置有电极环一(5),所述电极环一(5)的底端设置有压电陶瓷片二(6),且压电陶瓷片二(6)的底端设置有电极环二(7),所述电极环二(7)的底端设置有底盖(8),且底盖(8)的底端安装有预应力螺栓(9),所述清洗框(10)设置于清洗槽(1)的内部,所述清洗槽(1)远离立管(11)的一侧外壁安装有鼓风机(15),且鼓风机(15)的顶端连接有加热器(16),所述加热器(16)的内部设置有加热管(17),且加热管(17)的内部设置有发热丝(18),所述加热器(16)的顶端连接有风管(19),且风管(19)的末端固定有吹风头(20)。

2.根据权利要求1所述的一种水选除杂设备,其特征在于,所述清洗槽(1)的一侧固定有立管(11),且立管(11)的底端连接有外接水管(12)。

3.根据权利要求2所述的一种水选除杂设备,其特征在于,所述立管(11)的顶端连接有喷管(13),且喷管(13)的一端底部设置有加压喷头(14)。

4.根据权利要求1所述的一种水选除杂设备,其特征在于,所述清洗槽(1)的底端左右两侧均固定有支撑组件(21),且支撑组件(21)包括支撑腿(2101)和横撑(2102),所述支撑腿(2101)的内侧连接有横撑(2102)。


技术总结
本技术公开了一种水选除杂设备,包括清洗槽和清洗框,所述清洗槽的底端中部安装有超声波换能器,且超声波换能器的内部顶端固定有辐射面盖,所述辐射面盖的底端设置有压电陶瓷片一,且压电陶瓷片一的底端设置有电极环一,所述电极环一的底端设置有压电陶瓷片二,所述电极环二的底端设置有底盖,所述清洗框设置于清洗槽的内部。该水选除杂设备,与现有的硅石水选除杂设备相比,设置有超声波清洗机构,能够对硅石进行超声波清洗,从而清除硅石比表面粘附较紧的顽固杂质,有利于提高该装置的清洗效果,同时该装置设置有烘干机构,在对硅石清洗后能够直接对硅石烘干,从而减少硅石进入下一步加工的等待时间,有利于提高生产效率。

技术研发人员:张伟,屈春华
受保护的技术使用者:乌拉特前旗广同化工有限责任公司
技术研发日:20231120
技术公布日:2024/6/23
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