超声波清洗模组的制作方法

本技术涉及清洗，具体涉及超声波清洗模组。

背景技术：

1、半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。硅片表面的清洁度是影响硅片合格率的关键因素。

2、目前大多数超声波清洗设备，多是直接将物料放置在超声波清洗槽内，以通过超声波和槽内的溶液对物料表面进行清理，如此清洗存在两个问题，其一，未被固定的物料容易在清洗槽内随意移动，不利于自动化设备对其进行抓取下料；其二，物料直接放置在清洗槽内，可能导致物料底面的溶液无法高效的流通，清洗效率无法进一步提升。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是解决以上缺陷，提供超声波清洗模组，以解决上述背景技术中提到的问题。

2、本实用新型的目的是通过以下方式实现的：

3、超声波清洗模组，包括超声波清洗槽，所述超声波清洗槽内设置有用于固定物料的限位治具，所述限位治具包括有承载底板以及安装于所述承载底板上的物料限位件，所述物料限位件上均匀设置有若干个用于容纳物料的限位腔体，所述限位腔体呈u形设置，所述限位腔体的下端面设置有承载凸起，使物料的下端面与所述限位腔体的下端形成可流通液体的通道。

4、进一步的，所述承载底板的四周通过对应的固定支耳安装有可旋转调节的定位螺丝，所述定位螺丝的一端具有用于与所述物料限位件进行抵接配合的抵接部。

5、进一步的，所述限位腔体的上端具有可供物料插接的开口。

6、进一步的，所述开口的上端具有向外倾斜的导向部。

7、进一步的，所述超声波清洗槽的下方设置有移动模块，所述移动模块包括有限位导轨和皮带驱动组，所述超声波清洗槽通过限位滑块安装于所述限位导轨上，所述超声波清洗槽通过同步带夹板与所述皮带驱动组进行连接，使皮带驱动组可带动超声波清洗槽沿限位导轨进行线性移动。

8、本实用新型通过将限位腔体设置成u形结构以及限位腔体下端承载凸起的设置，以通过这两项结构的改进，提高物料限位件与超声波清洗溶液的接触面积，使之提高超声波的清洗效果，通道的设置可提高超声波清洗溶液的流通效率，避免超声波清洗溶液长期淤积而影响清洗效率。

技术特征：

1.超声波清洗模组，包括超声波清洗槽（1），其特征在于：所述超声波清洗槽（1）内设置有用于固定物料（10）的限位治具（2），所述限位治具（2）包括有承载底板（3）以及安装于所述承载底板（3）上的物料限位件（4），所述物料限位件（4）上均匀设置有若干个用于容纳物料（10）的限位腔体（401），所述限位腔体（401）呈u形设置，所述限位腔体（401）的下端面设置有承载凸起（402），使物料（10）的下端面与所述限位腔体（401）的下端形成可流通液体的通道（403）。

2.根据权利要求1所述超声波清洗模组，其特征在于：所述承载底板（3）的四周通过对应的固定支耳（5）安装有可旋转调节的定位螺丝（6），所述定位螺丝（6）的一端具有用于与所述物料限位件（4）进行抵接配合的抵接部。

3.根据权利要求1所述超声波清洗模组，其特征在于：所述限位腔体（401）的上端具有可供物料（10）插接的开口（404）。

4.根据权利要求3所述超声波清洗模组，其特征在于：所述开口（404）的上端具有向外倾斜的导向部。

5.根据权利要求1所述超声波清洗模组，其特征在于：所述超声波清洗槽（1）的下方设置有移动模块，所述移动模块包括有限位导轨（7）和皮带驱动组（8），所述超声波清洗槽（1）通过限位滑块安装于所述限位导轨（7）上，所述超声波清洗槽（1）通过同步带夹板与所述皮带驱动组（8）进行连接，使皮带驱动组（8）可带动超声波清洗槽（1）沿限位导轨（7）进行线性移动。

技术总结
本技术涉及清洗技术领域的超声波清洗模组，包括超声波清洗槽，超声波清洗槽内设置有用于固定物料的限位治具，限位治具包括有承载底板以及安装于承载底板上的物料限位件，物料限位件上均匀设置有若干个用于容纳物料的限位腔体，限位腔体呈U形设置，限位腔体的下端面设置有承载凸起，使物料的下端面与限位腔体的下端形成可流通液体的通道，本技术通过将限位腔体设置成U形结构以及限位腔体下端承载凸起的设置，以通过这两项结构的改进，提高物料限位件与超声波清洗溶液的接触面积，使之提高超声波的清洗效果，通道的设置可提高超声波清洗溶液的流通效率，避免超声波清洗溶液长期淤积而影响清洗效率。

技术研发人员：邱鑫,杨荣
受保护的技术使用者：深圳市鑫汇铖自动化技术有限公司
技术研发日：20231123
技术公布日：2024/10/10