水处理系统以及水处理方法与流程

本发明涉及水处理系统以及水处理方法。

背景技术：

1、在由原水生成超纯水的超纯水制造系统等水处理系统中，也需要关注向水处理系统供给的原水的水质。例如在超纯水制造系统中，为了去除原水中所包含的有机物质（toc：total organic carbon（总有机碳））而进行了反渗透膜（ro）处理、紫外线（uv）氧化处理。然而，在成为去除的对象的有机物中，存在容易通过这些处理去除的成分和并非如此的成分。作为向超纯水制造系统供给的原水，迄今为止一直使用水龙头中的水、自来水、工业用水等。近年来，为了实现水资源的有效利用，对生活中产生的下水等进行处理而再利用的再生水、对工厂排水等进行处理而再利用的回收水被用作原水。这些再生水、回收水的水质与工业用水等水质相比，存在变得不稳定的倾向。另外，有时在再生水、回收水中突发性地包含未预期的有机物。若难以去除的有机物混入原水中，则有可能对从超纯水制造系统的出口供给的处理水的水质造成影响。因此，监视超纯水制造系统中的原水的水质，根据水质适当地管理超纯水制造系统的运转的重要性进一步提高。

2、随着对纯水水质的高度要求的显现，近年来，正在研究将纯水中所包含的微量有机物分解去除的各种方法。作为这样的方法的代表，可举出使用利用紫外线氧化处理的有机物的分解去除工序的方法。其中，考虑了通过将包含过氧化物基团的硫化合物添加到被处理水中，然后进行紫外线照射，从而促进被处理水中的toc氧化的技术。专利文献1中记载了基于与主系统分开设置的副超纯水制造系统的处理水toc值，来控制主系统的紫外线照射装置的照射量的技术。另外，专利文献2中记载了将硫化合物添加到被处理水中进行紫外线处理的技术。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2016-107249号公报

6、专利文献2：日本特开2008-229417号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、在专利文献1所记载的技术中，推测主系统的紫外线氧化装置是低压uv氧化装置。在仅检测到容易用低压uv去除的toc成分的情况下，该手段是有效的。副超纯水制造系统的被处理水中有可能包含难以用ro或低压uv氧化装置去除的难分解性toc。此时，若基于副超纯水制造系统的处理水toc值来控制主系统的uv照射量，则认为该照射量会成为不适当的（例如，过剩的）量。另外，即使过度照射也难以通过低压uv去除的toc成分（例如尿素等）会泄漏到处理水中。因此，引起水质降低。另外，专利文献2中没有对照射量、过硫酸浓度进行控制的记载。在专利文献2所记载的方法中，在被处理水中的toc存在变动时，相对于toc的照射量、添加量发生过剩、不足，难以进行稳定的处理。另外，过剩的照射量、添加量导致功耗增加，因此运用成本变高。

3、这样，在上述的技术中，存在无法稳定且高效地进行toc的去除的问题。

4、本发明的目的在于提供一种能够稳定且高效地进行toc的去除的水处理系统以及水处理方法。

5、用于解决课题的技术方案

6、本发明的水处理系统具有：

7、水处理设备，其具备多个水处理装置，对被处理水进行处理；

8、水处理管理装置，其被供给要向所述多个水处理装置中的任一个供给的所述被处理水；以及

9、控制装置，其控制所述水处理装置的运转条件，

10、所述水处理管理装置具有：

11、第一测定部，其对通水至所述水处理管理装置的通水管线的水的toc浓度进行测定；以及

12、第二测定部，其对通水至所述水处理管理装置的通水管线的水的特定有机物浓度进行测定，

13、所述控制装置基于由所述第一测定部测定出的toc浓度和由所述第二测定部测定出的特定有机物浓度，来控制所述水处理装置的运转条件。

14、另外，本发明的水处理系统具有：

15、水处理设备，其具备多个水处理装置，对被处理水进行处理；

16、水处理管理装置，其被供给要向所述多个水处理装置中的任一个供给的所述被处理水；

17、氧化剂添加单元，其向所述被处理水中添加氧化剂；以及

18、控制装置，其控制所述水处理装置的运转条件，

19、所述水处理管理装置具有对通水至所述水处理管理装置的通水管线的水的toc浓度进行测定的测定部，

20、所述控制装置基于由所述测定部测定出的toc浓度，来控制所述氧化剂添加单元所添加的氧化剂的添加量和所述多个水处理装置当中的紫外线照射装置对由所述氧化剂添加单元添加所述氧化剂后的被处理水进行照射的照射量中的至少一者。

21、另外，本发明的水处理方法包括如下工序：

22、对通水至水处理管理装置的通水管线的流通的水的toc浓度进行测定，其中，所述水处理管理装置被供给要向使用多个水处理装置对被处理水进行处理的水处理设备的所述多个水处理装置中的任一个供给的所述被处理水；

23、对通水至所述水处理管理装置的通水管线的水的特定有机物浓度进行测定；以及

24、基于所述测定出的toc浓度和所述测定出的特定有机物浓度，来控制所述水处理装置的运转条件。

25、发明效果

26、在本发明中，能够稳定且高效地去除toc。

技术特征：

1.一种水处理系统，具有：

2.根据权利要求1所述的水处理系统，其中，

3.根据权利要求2所述的水处理系统，其中，

4.根据权利要求2或3所述的水处理系统，其中，

5.根据权利要求2或3所述的水处理系统，其中，

6.根据权利要求5所述的水处理系统，其中，

7.根据权利要求2或3所述的水处理系统，其中，

8.根据权利要求7所述的水处理系统，其中，

9.一种水处理系统，具有：

10.一种水处理方法，包括如下工序：

技术总结
一种水处理系统，具有：水处理设备，其具备多个水处理装置，对被处理水进行处理；水处理管理装置（10），其被供给要向多个水处理装置中的任一个供给的被处理水；以及控制装置（30），其控制水处理装置的运转条件，水处理管理装置（10）具有：TOC测定部（16），其对通水至水处理管理装置（10）的通水管线的水的TOC浓度进行测定；以及特定有机物测定部（17），其对通水至水处理管理装置的通水管线的水的特定有机物浓度进行测定，控制装置（30）基于由TOC测定部（16）测定出的TOC浓度和由特定有机物测定部（17）测定出的特定有机物浓度，来控制水处理装置的运转条件。

技术研发人员：高桥悠介,中村勇规,吉永尚哉,高桥一重
受保护的技术使用者：奥加诺株式会社
技术研发日：
技术公布日：2025/4/7