一种强化铬渣在光照环境下稳定性的方法

文档序号:38219436发布日期:2024-06-06 18:54阅读:12来源:国知局
一种强化铬渣在光照环境下稳定性的方法

本发明属于铬渣的污染治理,特别涉及一种强化铬渣在光照环境下稳定性的方法。


背景技术:

1、含铬废渣作为一种典型的工业固废,在雨雪淋浸等环境因素的作用下,会溶出大量具有生物致癌性的六价铬,渗透并污染河流、湖泊和地下水,危害生态环境。因此,开展铬渣的安全处置对于矿冶行业的绿色可持续发展具有重要意义。

2、现如今的铬渣在排放之前需经过还原处理,保证其中的铬元素主要以cr(iii)形式存在,原因在于三价铬(cr(iii))的生物毒性和流动性均弱于cr(vi)。近年来,研究者设计了多种处理工艺用于提升铬渣在实际环境中的稳定性。例如,cn109316703b公开了一种铬渣钝化预处理方法,将胰蛋白胨、蛋白胨、牛肉膏、酵母提取物、nacl、葡萄糖混合液作为添加剂,用于增强铬渣在环境中的稳定性,降低铬离子的溶出速率。cn103233130b公开了一种铬渣的处理方法,采用氯化钾、氯化钠、磷酸二氢钾、亚硫酸钠、硫酸铝钾、氯化钙和氯化镁等作为固化剂,对铬渣进行固化处理,能够在铬渣颗粒间发生物理化学作用,促进钙钒晶体的生成,可有效防止滤渣的再次氧化和浸出,使得铬渣满足排放标准并增强其在环境中的稳定性。

3、然而,近年来不断有研究表明,处理后的铬渣长期堆放在环境中,其中的cr(iii)会逐渐转化为cr(vi),原因在于铬渣在日照辐射下会发生界面催化反应,促进氧化性物种的生成,并加速cr(iii)的氧化进程。因此,如何抑制铬渣表界面处的光催化反应,提升铬渣在环境中的长期稳定性,是亟待解决的技术问题。


技术实现思路

1、为了克服上述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,以降低铬渣在光照激发下的cr(vi)溶出速率,提高铬渣在日照环境下的稳定性。

2、为了实现上述目的,本发明采用的技术方案是:

3、一种强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,将铬渣加水搅拌得到悬浮液,随后加入铁盐得到混合液,于180~200℃下水热反应8~24小时,反应结束后冷却至室温,收集沉淀即为处理铬渣。

4、本发明的一个实施例,所述悬浮液中,铬渣与水的质量体积比为1:200~400,单位g/ml。

5、本发明的一个实施例,所述铁盐为氯化亚铁等二价铁盐。

6、本发明的一个实施例,所述铬渣与铁盐的质量比为1:0.1~0.5。

7、本发明的一个实施例,所述混合液于高压反应釜中进行所述反应,釜中的压力范围为20~200mpa。

8、本发明的一个实施例,所述混合液也可由铬渣、铁盐和水直接混合得到。

9、与现有技术相比,经本发明固化处理后的铬渣在光照激发下的cr(vi)溶出速率大幅下降,典型实施例中可由0.2mg/l/h下降至0.02mg/l/h,可见本发明方法对铬渣在日照环境下的稳定性具有明显的增强效果。



技术特征:

1.一种强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,其特征在于,将铬渣加水搅拌得到悬浮液,随后加入铁盐得到混合液,于180~200℃下水热反应8~24小时,反应结束后冷却至室温,收集沉淀即为处理铬渣。

2.根据权利要求1所述强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,其特征在于,所述铬渣为电镀污泥,来自于含铬废水通过沉淀工艺形成的废渣,主要成分为铬铁氢氧化物。

3.根据权利要求1所述强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,其特征在于,所述悬浮液中,铬渣与水的质量体积比为1:200~400,单位g/ml。

4.根据权利要求1所述强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,其特征在于,所述铁盐为二价铁盐。

5.根据权利要求1所述强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,其特征在于,所述铁盐为氯化亚铁。

6.根据权利要求1至5任一项所述强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,其特征在于,所述铬渣与铁盐的质量比为1:0.1~0.5。

7.根据权利要求1所述强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,其特征在于,所述混合液于高压反应釜中进行所述反应,釜中的压力范围为1~200mpa。

8.根据权利要求1所述强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,其特征在于,所述混合液由铬渣、铁盐和水直接混合得到。


技术总结
本发明公开了一种强化铬渣在光照环境下稳定性的方法,属于铬渣的污染治理领域。具体是对铬渣进行水热处理,在水热过程中添加二价铁离子,以促进铬铁氢氧化物的晶体生长过程。待反应结束后,收集反应釜中的沉淀物,即为固化处理后的铬渣。研究结果显示,经固化处理后的铬渣在光照激发下的Cr(VI)溶出速率由0.2mg/L/h下降至0.02mg/L/h,极大地提升了铬渣在日照环境下的长期稳定性。本方法首创性地提出通过水热处理工艺提升铬渣在光照环境下的稳定性,且该方法操作简单、成本低、处理效果明显,具有良好的推广和应用前景。

技术研发人员:雷大士,王宇斌,彭祥玉
受保护的技术使用者:西安建筑科技大学
技术研发日:
技术公布日:2024/6/5
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1