一种纳米压印模板清洗除胶装置的制作方法

文档序号:38834077发布日期:2024-07-30 17:33阅读:27来源:国知局
一种纳米压印模板清洗除胶装置的制作方法

本发明涉及微纳结构器件,尤其涉及一种纳米压印模板清洗除胶装置。


背景技术:

1、随着科技的不断进步,微纳器件的研究和应用也在不断深入,例如,人工智能技术的进步可以为微纳电子器件的设计和制造提供更高效和智能的方法,减轻数据冗余和延迟的神经形态视觉传感器的研究也可以推动微纳光电器件的发展。同时,随着电子产品向小型化、微型化、轻量化、功能集成化方向的发展,微纳电子器件的发展速度也在加快。尽管微纳器件的研究和应用已经取得了很大的进展,但是还存在一些挑战和问题,例如生产技术的瓶颈、设备限制、纳米尺度的物理和化学效应等,纳米压印模板是一种重要的微纳器件,其制作需要高精度的电子束光刻、纳米压印或刻划等技术支持。这些技术的设备成本较高,同时制作过程复杂,导致模板的成本上升。

2、在进行纳米压印时,在完成刻蚀后,需要对纳米压印模板进行清洗去胶,然后进行多次刻蚀,每次刻蚀完成都需要对纳米压印模板进行清洗去胶操作,现有的压印模板清洗设备,是将压印模板放置在平面上,用化学药剂对压印模板进行浸泡或者液体冲洗进行,由于压印模板水平放置,导致化学药剂反应和液体冲洗时,会导致压印模板上残留液体,需要后续烘干才能进行后续作业,会延长作业效率,同时纳米压印精度要求高,平面浸泡或者液体冲洗,会有胶体未反应完全就取出,会导致胶体残留,影响后续制作。

3、因此,本领域技术人员就提出了一种纳米压印模板清洗除胶装置,解决上述问题。


技术实现思路

1、鉴于现有技术中存在的上述问题,本发明的主要目的在于提供一种纳米压印模板清洗除胶装置。

2、本发明的技术方案是这样的:一种纳米压印模板清洗除胶装置,包括除胶清洗箱体,所述除胶清洗箱体的上表面上固定设有固定玻璃,所述固定玻璃下方滑动连接移动玻璃窗,所述除胶清洗箱体一侧固定设有控制箱,所述除胶清洗箱体内部底面上固定连接分隔板,所述分隔板将除胶清洗箱体内部分割成两个储液空间,所述分隔板之间设有防水套筒,所述防水套筒内部固定设有压印模板支撑机构,所述储液空间中固定设有潜水泵,所述潜水泵的输出端通过管道连接分流盒,所述分流盒上方设有转动喷头机构,所述压印模板固定机构上设有压印模板固定机构;

3、所述压印模板支撑机构包括电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的输出端上设有转动球,所述转动球上固定设有吸盘结构,所述电动伸缩杆的输出端一侧固定设有转动电机,所述转动电机的输出端贯穿电动伸缩杆和转动球,所述转动球固定连接转动电机的输出端。

4、作为一种优选的实施方式,所述转动喷头机构包括梯形喷头盒,所述梯形喷头盒一侧固定设有从动转轴,所述梯形喷头盒远离从动转轴的一侧固定设有主动轴,所述从动转轴和所述主动轴均转动连接梯形喷头盒,所述主动轴远离梯形喷头盒的一端固定连接驱动电机,所述驱动电机固定连接除胶清洗箱体的外表面,所述梯形喷头盒一侧开设出水口。

5、作为一种优选的实施方式,所述压印模板固定机构包括固定空心板和固定柱,所述固定空心板上设有若干固定孔,所述固定空心板的内部底面上铺设磁性条,所述固定柱插接固定孔。

6、作为一种优选的实施方式,所述固定柱包括铁柱芯,所述铁柱芯外侧包裹一层橡胶。

7、作为一种优选的实施方式,所述储液空间的底面为倾斜面,所述倾斜面向潜水泵固定位置倾斜,所述储液空间内,位于除胶清洗箱体的壁面上设有液面高度感应器。

8、作为一种优选的实施方式,所述分流盒固定在除胶清洗箱体的壁面上,所述分流盒内部设有流量感应器。

9、作为一种优选的实施方式,所述控制箱的顶部设有控制面板,所述控制箱内部设有电源和电路板,所述电动伸缩杆、转动电机、潜水泵、驱动电机、液面高度感应器和流量感应器电性连接电路板。

10、与现有技术相比,本发明的优点和积极效果在于,通过压印模板支撑机构,可以改变纳米压印模板冲洗的角度,使纳米压印模板处于倾斜状态下进行除胶清洗,液体会收到重力作用,向下流动,保证液体不残留,同时液体流动会将未反应的胶体冲击带走,保证纳米压印模板去胶清洗效果。



技术特征:

1.一种纳米压印模板清洗除胶装置,包括除胶清洗箱体(1),其特征在于:所述除胶清洗箱体(1)的上表面上固定设有固定玻璃(2),所述固定玻璃(2)下方滑动连接移动玻璃窗(3),所述除胶清洗箱体(1)一侧固定设有控制箱(4),所述除胶清洗箱体(1)内部底面上固定连接分隔板(5),所述分隔板(5)将除胶清洗箱体(1)内部分割成两个储液空间(6),所述分隔板(5)之间设有防水套筒(7),所述防水套筒(7)内部固定设有压印模板支撑机构(8),所述储液空间(6)中固定设有潜水泵(9),所述潜水泵(9)的输出端通过管道(10)连接分流盒(11),所述分流盒(11)上方设有转动喷头机构(12),所述压印模板固定机构(8)上设有压印模板固定机构(13);

2.根据权利要求1所述的一种纳米压印模板清洗除胶装置,其特征在于:所述转动喷头机构(12)包括梯形喷头盒(121),所述梯形喷头盒(121)一侧固定设有从动转轴(122),所述梯形喷头盒(121)远离从动转轴(122)的一侧固定设有主动轴(123),所述从动转轴(122)和所述主动轴(123)均转动连接梯形喷头盒(121),所述主动轴(123)远离梯形喷头盒(121)的一端固定连接驱动电机,所述驱动电机固定连接除胶清洗箱体(1)的外表面,所述梯形喷头盒(121)一侧开设出水口(124)。

3.根据权利要求1所述的一种纳米压印模板清洗除胶装置,其特征在于:所述压印模板固定机构(13)包括固定空心板(131)和固定柱(132),所述固定空心板(131)上设有若干固定孔(1311),所述固定空心板(131)的内部底面上铺设磁性条(1312),所述固定柱(132)插接固定孔(1311)。

4.根据权利要求3所述的一种纳米压印模板清洗除胶装置,其特征在于:所述固定柱(132)包括铁柱芯(1321),所述铁柱芯(1321)外侧包裹一层橡胶(1322)。

5.根据权利要求1所述的一种纳米压印模板清洗除胶装置,其特征在于:所述储液空间(6)的底面为倾斜面,所述倾斜面向潜水泵(9)固定位置倾斜,所述储液空间(6)内,位于除胶清洗箱体(1)的壁面上设有液面高度感应器。

6.根据权利要求1所述的一种纳米压印模板清洗除胶装置,其特征在于:所述分流盒(11)固定在除胶清洗箱体(1)的壁面上,所述分流盒(11)内部设有流量感应器。

7.根据权利要求1所述的一种纳米压印模板清洗除胶装置,其特征在于:所述控制箱(4)的顶部设有控制面板,所述控制箱(4)内部设有电源和电路板,所述电动伸缩杆(81)、转动电机(83)、潜水泵(9)、驱动电机、液面高度感应器和流量感应器电性连接电路板。


技术总结
本发明涉及一种纳米压印模板清洗除胶装置,包括除胶清洗箱体,所述除胶清洗箱体的上表面上固定设有固定玻璃,所述固定玻璃下方滑动连接移动玻璃窗,所述除胶清洗箱体一侧固定设有控制箱,所述除胶清洗箱体内部底面上固定连接分隔板,所述分隔板将除胶清洗箱体内部分割成两个储液空间,所述分隔板之间设有防水套筒,所述防水套筒内部固定设有压印模板支撑机构,所述储液空间中固定设有潜水泵,通过压印模板支撑机构,可以改变纳米压印模板冲洗的角度,使纳米压印模板处于倾斜状态下进行除胶清洗,液体会收到重力作用,向下流动,保证液体不残留,同时液体流动会将未反应的胶体冲击带走,保证纳米压印模板去胶清洗效果。

技术研发人员:李嘉,华卫群
受保护的技术使用者:无锡中微掩模电子有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/7/29
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