本发明涉及一种使清洗用具与基板接触来进行清洗的基板处理装置。
背景技术:
1、为了对半导体基板、液晶显示装置或有机电致发光(electro luminescence,el)显示装置等的平板显示器(flat panel display,fpd)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳电池用基板等基板进行各种处理,而使用基板处理装置。
2、作为基板处理装置的一例,在日本专利特开平8-318226号公报中,记载了一种使用刷来清洗晶片(基板)的洗涤器清洗装置。所述洗涤器清洗装置具有刷及臂。臂的顶端部以能够装卸刷的方式构成。安装于臂的顶端部的刷移动到清洗位置,并在基板上滑动。由此,基板被清洗。
3、清洗中所使用的刷根据其使用状态而产生污染或磨耗。处于过度的污染状态或磨耗状态的刷无法适当地清洗基板。因此,在所述洗涤器清洗装置中,在与清洗位置不同的后退位置设置有刷保持框。
4、在刷保持框,保持有多个刷。由此,当安装于臂的顶端部的一个刷成为应更换的状态时,使所述一个刷移动到后退位置,并从臂的顶端部拆除。另外,将保持于刷保持框的其他刷安装于臂的顶端部。如此,更换基板的清洗中所使用的刷。
技术实现思路
1、根据作为处理对象的基板,需要使清洗中使用的刷预先湿润。在所述情况下,在日本专利特开平8-318226号公报的洗涤器清洗装置中,在更换安装于臂的顶端部的刷后,必须使新刷湿润到能够用于清洗的程度。此种刷的预处理作业会降低所述洗涤器清洗装置的运转效率。
2、本发明的目的在于提供一种基板处理装置,其能够缩短从更换清洗用具起到再次开始使用所述清洗用具的清洗处理为止所需的时间。
3、依照本发明的一方面的基板处理装置包括:基板保持部,保持基板;第一清洗用具及第二清洗用具,分别具有被连接部及清洗面;清洗用具保持部,具有能够装卸地连接于所述第一清洗用具及所述第二清洗用具的所述被连接部的连接部,并通过将所述连接部连接于所述被连接部而分别保持所述第一清洗用具及所述第二清洗用具;清洗用具保管部,设置于从由所述基板保持部保持的所述基板远离的位置,并在将所述第一清洗用具保持于所述清洗用具保持部的状态下,暂时保管所述第二清洗用具;清洗用具保持部移动装置,以使保持于所述清洗用具保持部的所述第一清洗用具或所述第二清洗用具的所述清洗面与所述基板接触的方式使所述清洗用具保持部移动,并且使所述清洗用具保持部移动到所述清洗用具保管部;处理液供给部,对所述清洗用具保管部供给规定的处理液;以及控制部,所述控制部在所述清洗用具保持部保持所述第一清洗用具的状态下控制所述清洗用具保持部移动装置,由此清洗由所述基板保持部保持的所述基板,并且在将所述基板的清洗中所使用的所述第一清洗用具从所述清洗用具保持部拆除后,控制所述清洗用具保持部移动装置,由此使所述清洗用具保持部的所述连接部连接于暂时保管于所述清洗用具保管部的所述第二清洗用具的所述被连接部,所述清洗用具保管部构成为经暂时保管的所述第二清洗用具的所述清洗面通过从所述处理液供给部供给的所述处理液而维持湿润的状态。
4、通过本发明,能够缩短从更换清洗用具起到再次开始使用所述清洗用具的清洗处理为止所需的时间。
1.一种基板处理装置,包括:
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中所述清洗用具保管部包括清洗用具保管槽,所述清洗用具保管槽具有朝向上方开放且能够通过收容所述第二清洗用具中的包含所述清洗面在内的至少一部分来保管所述第二清洗用具的保管空间,
3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中所述清洗用具保管槽构成为具有多个所述保管空间,且能够于在所述多个保管空间中的一个保管空间保管有所述第二清洗用具的状态下,将所述清洗用具保持部的所述连接部连接于所述第二清洗用具的所述被连接部,
4.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中所述位置变更部包括:
5.根据权利要求4所述的基板处理装置,其中所述升降移动部构成为能够使所述第二清洗用具在将所述第二清洗用具保管于所述多个保管空间中的任一者时的下部高度位置、与所述第二清洗用具位于较贮存于所述清洗用具保管槽的所述处理液的液面更靠上方处时的上部高度位置之间移动,
6.根据权利要求3至5中任一项所述的基板处理装置,其中所述多个保管空间以相互连通且在水平面内排列成一列的方式形成,
7.根据权利要求3至6中任一项所述的基板处理装置,其中所述清洗用具保持部移动装置在利用所述第一清洗用具或所述第二清洗用具进行的所述基板的清洗时,以在俯视时遵循穿过所述基板的中心的一条直线或一个圆弧的方式使所述清洗用具保持部移动,