专利名称：行星式旋转摆动式振动装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及具有旋转容器和振动机构的混合或研磨设备的组体，特别是指一种行星式旋转摆动式振动装置。
背景技术：
物料(包括粉末、液体、膏状物等)的混合或研磨是将物料形成均一性混合物或将物料按要求进行研磨。
为增加物料的混合、研磨效果，在物料混合、研磨的加工操作中，单纯双向旋转混合、研磨装置，单纯行星式旋转混合研磨装置以及单纯振动式混合、研磨装置已得到广泛的应用。又如2005年6月15日公告的中国专利中也揭露了一种旋转振动装置，其是一种新型的将双向旋转与振动相叠加的有效混合、研磨装置，但该装置的双向旋转是容器在围绕水平轴进行公转的同时围绕垂直轴进行自转，这种旋转方式有一定的局限性，由于多种物料之间比重的不同会引起离心力不同，导致存在一定的分层现象，虽然加上振动功能可以使分层的现象大幅减低，其效果已取得了突破，但此种容器分别绕自身的水平轴及垂直轴双向旋转的方式始终存在着会因物料比重不同导致离心力不同，而引起分层的倾向。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种行星式旋转摆动式振动装置，其能使容器同时进行公转及自转，并结合有摆动式振动，妥善解决分层现象，混合、研磨效果很好。
为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案提供一种行星式旋转摆动式振动装置，其包括机台、动力源、与动力源相连的第一旋转机构、第二旋转机构、摆动式振动机构及安装于摆动式振动机构内以容纳待混合或研磨物料的容器。其中，该第一旋转机构包括一与动力源输出端传动配合的第一旋转轴、若干以第一旋转轴为中心呈放射状分布的支撑臂，每一支撑臂的一端固设于第一旋转轴上，另一端设有一中轴线平行于第一旋转轴的安装孔；该第二旋转机构包括若干借助于轴承穿设于对应的支撑臂的安装孔内的第二旋转轴、传动连接该第一旋转轴与第二旋转轴的传动件；摆动式振动机构的底部借助于一枢轴枢设于第二旋转轴的顶端，且枢轴垂直于第二旋转轴，在该摆动式振动机构下方的第二旋转轴上适当位置还固设一限位挡板。
本实用新型的有益效果是该安装于摆动式振动机构内的容器不仅可以连同摆动式振动机构绕第一旋转轴公转，而且可以绕第二旋转轴进行自转，同时还会绕枢轴进行摆动式振动，使得容纳于其内的物料能迅速、充分地互相渗混均匀，高度分散，而且质量柔韧、细腻；同时亦可对物料进行有效的研磨。本实用新型确实是一种高效核心技术，可广泛用于混合或研磨设备中。
以下结合附图对本实用新型作进一步的详细描述。
图1是本实用新型行星式旋转摆动式振动装置的结构示意图。
图2、图3分别是本实用新型行星式旋转摆动式振动装置的容器不同角度的安装示意图。
具体实施方式如图1所示，本实用新型提供一种行星式旋转摆动式振动装置，其包括机台1、动力源2、与动力源2相连的第一旋转机构3、第二旋转机构4、摆动式振动机构5、安装于摆动式振动机构5内的用来容纳待混合或研磨物料的容器(图未示出)及外壳6。
其中，该机台1主要是提供一个各组件的安装平台。
该动力源2装设于机台1下方，其主要是提供摆动式振动机构5进行旋转及振动所需的动力，在本实用新型中，该动力源2采用一电机。
该第一旋转机构3包括一与动力源2的输出端传动配合的第一旋转轴30、若干以第一旋转轴30为中心呈放射状分布的支撑臂31，为保证平衡，支撑臂31应对称分布。每一支撑臂31的一端固设于第一旋转轴30上，另一端设有一中轴线平行于第一旋转轴30的安装孔32。该第一旋转轴30与动力源2的输出端之间可以采用皮带、齿轮组等方式进行传动配合。
该第二旋转机构4包括若干借助于轴承7穿设于第一旋转机构3上对应的支撑臂31的安装孔32内的第二旋转轴40、传动连接该第一旋转轴30与第二旋转轴40的传动件41，该传动件41可以是皮带或齿轮组，该第一旋转轴30与第二旋转轴40之间有一定的传动比关系，此传动比可据工作需要而作适当调整。在本实施方式中，第一旋转轴30与第二旋转轴40之间的传动比为2∶1，例如，第一旋转轴30的转速为400转/分，而第二旋转轴40的转速为200转/分。如图2及图3所示，在每一第二旋转轴40的顶部两侧还各向上延伸设一支架42，该支架42的顶部设有轴孔55，该轴孔55的中轴线垂直于第二旋转轴40。
该摆动式振动机构5的底部还向下延伸形成一支承板50，该支承板50上开设有穿孔53，另有一枢轴54穿过该穿孔53，在枢轴54与穿孔53之间固定连接；且枢轴54的两端分别借助于轴承7装设于该第二旋转轴40顶部支架42上的轴孔55内。这样，即将该摆动式振动机构5底部的支承板50枢设于第二旋转轴40的顶端，且支承板50与枢轴54固定连接，枢轴54通过轴承7固定于支架42上，使得摆动式振动机构5与支承板50通过轴承7绕枢轴54转动。另外，在该摆动式振动机构5下方的第二旋转轴40上适当位置还固设一限位挡板52，该限位挡板52的侧缘呈斜面状，这样，在摆动式振动机构5转动到此处时，该斜面与摆动式振动机构5的表面撞击，产生一定的振动力，并且可以防止尖角撞击摆动式振动机构5使其受损。该斜面的倾斜角度则与摆动式振动的幅度有关，在设计时根据所欲采用的摆动式振动的幅度加以确定。
该容器安装于摆动式振动机构5内，主要用来容纳各种待混合或研磨物料，该容器能与摆动式振动机构5同步进行公转、自转以及振动等各种运动。
该外壳6主要是将各组件均包容于其内，一方面可使整个装置具有一美观的外型；另一方面也具有安全防护的作用，以防止在发生机械故障时造成意外事故。
在使用本实用新型行星式旋转摆动式振动装置时，电机带动第一旋转轴30旋转从而带动摆动式振动机构5以及其内的容器绕第一旋转轴30进行公转；还有，通过传动件41的传动，还带动第二旋转轴40旋转，从而还可带动摆动式振动机构5以及其内的容器绕第二旋转轴40进行自转；同时，摆动式振动机构5连同其内的容器还会绕枢轴54进行摆动式振动。使摆动式振动机构5产生摆动的最主要的力量是来自因公转而产生的摆动力矩，该摆动力矩大小为离心力P与离心力P偏离枢轴54中轴线的距离h的乘积P·h。产生摆动力矩的离心力P(如图3所示)的方向对于公转而言，是始终指向公转的径向方向，而对于自转而言，公转离心力P方向与枢轴54的轴线夹角是不断变化的，其变化的角速度等于自转机构的角速度。当公转离心力P的方向与54轴的轴线方向相垂直时，摆动式振动机构5产生的摆动阻力非常小，仅需克服轴承转动摩擦力而已，而此时的偏心力矩最大，当公转转速大到某一数值以后，所产生的偏心力矩就足以使摆动式振动机构5迅速转动，直到被限位挡板52挡住不能再转动为止。随着自转运动，枢轴54的轴线方向转到另一侧与公转离心力P的方向相垂直时，摆动式振动机构5又发生新一次的转动，直到被限位挡板52挡住不能再转动为止。从而形成了摆动式振动机构5的摆动式振动。自转机构每转一周，摆动式振动机构5连同其内的容器摆动两次。即摆动式振动的每分钟振动次数是自转的每分钟转速的两倍。摆动式振动机构5内部的容器内的物料随着摆动式振动而振松并有规律地来回摆动。
本装置仅需一部电机作动力源，而能够产生尽可能多的运动状态及作用力。包括1、公转产生的物料各质点的离心力，公转半径比自转半径大两倍以上，同时公转速度通常是自转速度两倍，所以质点受公转而产生的离心力是自转产生的离心力的八倍以上。公转离心力使质点在公转时始终指向径向方向。
2、自转运动使物料质点不断地绕第二旋转轴40转动，对于机构而言，由于自转的作用，物料质点的位置不断地变化，所以质点受公转离心力的作用力方向及作用力的大小也不断地变化，加上质点本身也受到因自转而产生的自转离心力的作用，自转离心力与公转离心力有时相叠加，有时相抵弱。因此，质点每一瞬间其受公转离心力的大小、方向是随时间变化的。从而导致物料各微粒之间的互相渗混、分散或研磨。
3、摆动式振动，使物料振松动并且有规律地在容器内部大幅度地来回运动。由于把物料颗粒振松动大大增加了物料微粒之间充分渗混、高度分散的容易程度，对粘稠度大的物料尤其有效，亦可加速物料的研磨。
上述三种运动的综合，使物料得到极其有效的混合、分散或研磨。而动力源仅仅是同一个电机。机构起步时仅需克服滚珠轴承等的静摩擦力。一旦起动，滚珠轴承滚动的摩擦阻力很小。整个装置的运转效率很高，产生公转、自转及振动的运动力度很大。所以，此技术是高效率、高效果混合、搅拌、分散及研磨工作的先进核心技术。对于粘稠度大的物料混合、搅拌、分散优势突出，对于物料的研磨亦会有很好的效果。
权利要求1.一种行星式旋转摆动式振动装置，其包括机台、动力源、与动力源相连的第一旋转机构、第二旋转机构、摆动式振动机构及安装于摆动式振动机构内供容纳待混合或研磨物料的容器，其特征在于该第一旋转机构包括一与动力源输出端传动配合的第一旋转轴、若干以第一旋转轴为中心呈放射状分布的支撑臂，每一支撑臂的一端固设于第一旋转轴上，另一端设有一中轴线平行于第一旋转轴的安装孔；该第二旋转机构包括若干借助于轴承穿设于对应的支撑臂的安装孔内的第二旋转轴、传动连接该第一旋转轴与第二旋转轴的传动件；该摆动式振动机构的底部借助于一枢轴枢设于第二旋转轴的顶端，且枢轴垂直于第二旋转轴，在该摆动式振动机构下方的第二旋转轴上适当位置还固设一限位挡板。
2.如权利要求1所述的行星式旋转摆动式振动装置，其特征在于该传动件是皮带或齿轮组。
3.如权利要求1或2所述的行星式旋转摆动式振动装置，其特征在于该第一旋转轴与第二旋转轴之间的传动比为2∶1。
4.如权利要求1所述的行星式旋转摆动式振动装置，其特征在于该限位挡板的侧缘成斜面状。
5.如权利要求1所述的行星式旋转摆动式振动装置，其特征在于该动力源装设于机台下方，而第一旋转轴穿设于机台中部，第一旋转轴的底部与动力源的输出端传动配合。
6.如权利要求1或5所述的行星式旋转摆动式振动装置，其特征在于该动力源为电机。
7.如权利要求1所述的行星式旋转摆动式振动装置，其特征在于每一第二旋转轴的顶部的两侧还各向上延伸设一支架，该支架的顶部设有轴孔，该枢轴的两端分别通过轴承装设于该轴孔内。
8.如权利要求7所述的行星式旋转摆动式振动装置，其特征在于该摆动式振动机构的底部还向下延伸形成一支承板，该支承板上开设有供枢轴穿过的穿孔，并且枢轴与穿孔之间固定连接。
9.如权利要求1所述的行星式旋转摆动式振动装置，其特征在于其还进一步包括一将各组件包容于其内的外壳。
专利摘要一种行星式旋转摆动式振动装置，包括机台、动力源、第一旋转机构、第二旋转机构、摆动式振动机构及设于摆动式振动机构内以容纳待混合或研磨物料的容器。第一旋转机构包括与动力源传动配合的第一旋转轴、若干一端固设于第一旋转轴上而另一端设有安装孔的支撑臂；第二旋转机构包括若干穿设于安装孔内的第二旋转轴、连接第一旋转轴与第二旋转轴的传动件；摆动式振动机构底部枢设于第二旋转轴顶端，摆动式振动机构下方的第二旋转轴上适当位置还设一限位挡板。摆动式振动机构不仅绕第一旋转轴公转及绕第二旋转轴自转，还绕枢轴摆动式振动，容器内的物料可迅速、高效混合或研磨。本实用新型是一种高效核心技术，可广泛用于混合或研磨设备。
文档编号B01F9/22GK2838749SQ20052006499
公开日2006年11月22日 申请日期2005年9月21日 优先权日2005年9月21日
发明者张天松 申请人:张天松