专利名称：均布流速气流分布器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种气流分布管，具体地说，是涉及一种运用于变压吸附气体分
离填料塔中的气流分布管。
背景技术：
在现有技术中，为了防止填料塔在进行填料的高强度均压或再生过程，一般需要在气流分布管的分布管外表面包裹一层丝网。由于多孔管孔口处在均压或再生过程中会局部形成高速气流，造成填料在分布管附近局部运动、摩擦，进而造成填料粉化，这不仅使与该填料塔相关联的气动阀门因填料粉末被吹出击打而引起泄漏，更严重的是填料粉化将会导致填料塔无法正常工作，严重影响制氮装置的产量及整机的稳定运行。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种气流分布器，确保分布管附近的气体流速在防止填料粉化的许可范围内，避免分布管附近产生局部高速气流，造成填料局部粉化。[0004] 为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下 均布流速气流分布器，包括法兰、主管、分布管、扩散体，所述分布管上设有数个排
气孔，且一端与主管连接，另一端与扩散体连接，法兰设置于主管的端头，所述分布管与扩
散体之间还设有用于均布流速的缓冲装置。 所述缓冲装置为长筒状。 所述缓冲装置套接于分布管外表面。 本实用新型主要利用缓冲装置来扩大气流的流通面积，并减缓气体流速，使气流的流通面积均匀分布于缓冲装置表面。当气体从分布管上的排气孔流出后，遇到缓冲装置，并沿着缓冲装置提供的气体流通面进行流动，由于缓冲装置使气体流通面得到了增加，因此气体在遇到缓冲装置后，其流速将会得到缓冲，并均匀地流入分布管附近的填料中，从而使气体在分布管表面的局部流速控制在引起填料粉化的临界流速以下，最终实现防止填料粉化、确保填料塔长期稳定工作的目的。 本实用新型结构简单，实施方便，安全可靠，使用效果好，具有很高的实用价值，主要用于变压吸附气体分离填料塔中。
图1为本实用新型的截面示意图。 图2为本实用新型中分布管的结构示意图。 图3为本实用新型-实施例的结构示意图。 附图中标号对应名称1-法兰，2-主管，3-分布管，4-扩散体，5-缓冲装置，6-排气孔，7-填料塔。
具体实施方式
以下结合附图进一步对本实用新型进行描述。 如图1、图2所示，一种均布流速气流分布器，包括有法兰1、主管2、分布管3、扩散体4和缓冲装置5。所述分布管3上设有数个排气孔6，分布器一端与主管2连接，另一端与扩散体4连接，法兰1安装于主管2的一端。缓冲装置为长筒状，套装于分布管3外表面。[0016] 由于气流分布器的四周被填料塔7内的细密填料紧紧包围，而该填料的耐冲刷强度有限，非常忌讳局部高速气流的冲刷，以致造成填料粉化。缓冲装置5通过将从排气孔6排出的气体分化，使之从一股变成多股并从不同角度到达分散体4，从分散体4进入填料，实现扩大气体流通面积、缓冲气体流速的目的。与现有技术相比，经过本实用新型的设置后，能有效避免填料塔7内的填料局部受到高速气流冲刷而导致的填料粉化，确保填料塔的长期稳定工作。
权利要求均布流速气流分布器，包括法兰(1)、主管(2)、分布管(3)、扩散体(4)，所述分布管(3)上设有数个排气孔(6)，且一端与主管(2)连接，另一端与扩散体(4)连接，法兰(1)设置于主管(2)的端头，其特征在于，所述分布管(3)与扩散体(4)之间还设有用于均布流速的缓冲装置(5)。
2. 根据权利要求l所述的均布流速气流分布器，其特征在于，所述缓冲装置(5)为长筒状。
3. 根据权利要求l所述的均布流速气流分布器，其特征在于，所述缓冲装置(5)套接于分布管(3)外表面。
专利摘要本实用新型公开了一种均布流速气流分布器，属于一种填料塔气流分布技术，解决了现有技术中气流分布器容易产生局部高压气流导致填料粉化的问题。均布流速气流分布器，包括法兰、主管、分布管、扩散体，所述分布管上设有数个排气孔，且一端与主管连接，另一端与扩散体连接，法兰设置于主管的端头，所述分布管与扩散体之间还设有用于均布流速的缓冲装置。所述缓冲装置为长筒状。所述缓冲装置套接于分布管外表面。本实用新型结构简单，实施方便，安全可靠，使用效果好，具有很高的实用价值。
文档编号B01D53/047GK201454351SQ20092008128
公开日2010年5月12日 申请日期2009年5月31日 优先权日2009年5月31日
发明者孟翰武, 张杨, 沈强 申请人:西梅卡亚洲气体系统成都有限公司