一种带支架的磁力搅拌水浴锅的制作方法

文档序号:4925768阅读:148来源:国知局
一种带支架的磁力搅拌水浴锅的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种带支架的磁力搅拌水浴锅,包括:水浴锅(1),其特征在于:所述水浴锅(1)包括位于上层的水箱层(2)和位于下层的驱动层(3),所述水箱层(2)和驱动层(3)由隔板(4)隔开,所述水箱层(2)设置有支架(5),所述驱动层(3)设置有磁力搅拌驱动系统(6),所述磁力搅拌驱动系统(6)位于所述支架(5)的正下方。本发明提供的一种带支架的磁力搅拌水浴锅,结构简单,设计合理,能够同时实现大型容器和小型容器的加热等操作,且均能够实现供试品溶液的搅拌功能,适合在实验室广泛推广应用。
【专利说明】一种带支架的磁力搅拌水浴锅
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种带支架的磁力搅拌水浴锅,属于化学实验仪器【技术领域】。
【背景技术】
[0002]水浴锅主要用于实验室中蒸馏、干燥、浓缩及提取化学药品或生物制品,也可用于恒温加热和其它温度试验,是化学实验室的必备工具。传统的水浴锅包括水箱及温控仪,现在也出现了一些具备搅拌功能的水浴锅,而此种搅拌一般为电动搅拌水浴锅中的水,使水温保持均一恒定,不能够搅拌供试品溶液;另外,目前的水浴锅一般无支架,当加热一些小型容器中的供试品时,存在小型容器无固定支撑点,需人工拿着保持加热或使用铁夹固定,即使使用铁夹固定,小型容器的底部仍然处于悬空状态,小型容器易滑落,导致实验失败。

【发明内容】

[0003]本发明所要解决的技术问题是,提供一种带支架的磁力搅拌水浴锅,该种装置即使引入了支架也能够对供试品溶液进行磁力搅拌,使供试品溶液加热更均匀。
[0004]为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:
一种带支架的磁力搅拌水浴锅,包括:水浴锅,其特征在于:所述水浴锅包括位于上层的水箱层和位于下层的驱动层,所述水箱层和驱动层由隔板隔开,所述水箱层设置有支架,所述驱动层设置有磁力搅拌驱动系统,所述磁力搅拌驱动系统位于所述支架的正下方。
[0005]所述支架包括至少3个支脚、位于所述支脚上面的圆环、固定在所述圆环上的支撑网和位于所述支撑网下面且与所述支撑网一体连接的磁力搅拌装置。
[0006]所述磁力搅拌装置包括与所述支撑网一体连接的固定柱和固定在所述固定柱上的转轴,所述转轴包括用于环抱所述固定柱的抱环和位于所述抱环上的转臂,所述转臂个数为2个且左右对称,所述转臂的末端设置有第一磁铁,所述第一磁铁的个数为2个,所述固定柱的末端设置有堵头。
[0007]所述磁力搅拌驱动系统包括电机和位于所述电机上方的第二磁铁。
[0008]所述隔板上设置有用于放置支脚的凹槽。
[0009]所述水浴锅的形状为方形或长方形或圆形,所述水浴锅还设置有温度控制仪、水位监测仪和报警器。
[0010]所述圆环内、支撑网上用于放置待加热的小型容器,所述小型容器内放置磁性转子后即可实现小型容器内的供试品溶液的搅拌。
[0011]本发明提供的一种带支架的磁力搅拌水浴锅,支架的设置保证了小型容器的方便安全加热,避免了小型容器滑落至水浴锅导致的实验失败;另外,当位于驱动层的第二磁铁在电机的驱动下旋转时,带动位于支架上的第一磁铁的旋转,继而带动位于小型容器内的磁性转子的转动,从而实现了对供试品溶液的搅拌,使供试品溶液不管是加热还是提取都能够温度均一,加热或提取均充分,使实验结果更加准确;当加热大型容器时,只需取出支架,将大型容器直接放入水浴锅,在大型容器的供试品溶液中同样放入磁性转子,也能够实现供试品溶液的搅拌。本发明提供的一种带支架的磁力搅拌水浴锅,结构简单,设计合理,能够同时实现大型容器和小型容器的加热等操作,且均能够实现供试品溶液的搅拌功能,适合在实验室广泛推广应用。
【专利附图】

【附图说明】
[0012]图1为本发明的结构示意图;
图2为图1中A部分的放大图。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图对本发明作更进一步的说明。
[0014]如图1-2所示,一种带支架的磁力搅拌水浴锅,包括:水浴锅1,其特征在于:所述水浴锅I包括位于上层的水箱层2和位于下层的驱动层3,所述水箱层2和驱动层3由隔板4隔开,所述水箱层2设置有支架5,所述驱动层3设置有磁力搅拌驱动系统6,所述磁力搅拌驱动系统6位于所述支架5的正下方。
[0015]所述支架5包括3个支脚7、位于所述支脚7上面的圆环8、固定在所述圆环8上的支撑网9和位于所述支撑网9下面且与所述支撑网9 一体连接的磁力搅拌装置10。
[0016]所述磁力搅拌装置10包括与所述支撑网9 一体连接的固定柱11和固定在所述固定柱11上的转轴12,所述转轴12包括用于环抱所述固定柱11的抱环13和位于所述抱环13上的转臂14,所述转臂14个数为2个且左右对称,所述转臂14的末端设置有第一磁铁15,所述第一磁铁15的个数为2个,所述固定柱11的末端设置有堵头16。
[0017]所述磁力搅拌驱动系统6包括电机17和位于所述电机17上方的第二磁铁18。
[0018]所述隔板上设置有用于放置支脚7的凹槽19。
[0019]所述水浴锅I的形状为方形,所述水浴锅I还设置有温度控制仪、水位监测仪和报
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[0020]以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出:对于本【技术领域】的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1.一种带支架的磁力搅拌水浴锅,包括:水浴锅(I),其特征在于:所述水浴锅(I)包括位于上层的水箱层(2)和位于下层的驱动层(3),所述水箱层(2)和驱动层(3)由隔板(4)隔开,所述水箱层(2)设置有支架(5),所述驱动层(3)设置有磁力搅拌驱动系统(6),所述磁力搅拌驱动系统(6)位于所述支架(5)的正下方。
2.根据权利要求1所述的一种带支架的磁力搅拌水浴锅,其特征在于:所述支架(5)包括至少3个支脚(7)、位于所述支脚(7)上面的圆环(8)、固定在所述圆环(8)上的支撑网(9)和位于所述支撑网(9)下面且与所述支撑网(9) 一体连接的磁力搅拌装置(10)。
3.根据权利要求2所述的一种带支架的磁力搅拌水浴锅,其特征在于:所述磁力搅拌装置(10)包括与所述支撑网(9) 一体连接的固定柱(11)和固定在所述固定柱(11)上的转轴(12 ),所述转轴(12 )包括用于环抱所述固定柱(11)的抱环(13 )和位于所述抱环(13 )上的转臂(14),所述转臂(14)个数为2个且左右对称,所述转臂(14)的末端设置有第一磁铁(15),所述第一磁铁(15)的个数为2个,所述固定柱(11)的末端设置有堵头(16)。
4.根据权利要求1所述的一种带支架的磁力搅拌水浴锅,其特征在于:所述磁力搅拌驱动系统(6)包括电机(17)和位于所述电机(17)上方的第二磁铁(18)。
5.根据权利要求1所述的一种带支架的磁力搅拌水浴锅,其特征在于:所述隔板上设置有用于放置支脚(7)的凹槽(19)。
6.根据权利要求1所述的一种带支架的磁力搅拌水浴锅,其特征在于:所述水浴锅(I)的形状为方形或长方形或圆形,所述水浴锅(I)还设置有温度控制仪、水位监测仪和报警器。
【文档编号】B01F13/08GK103657760SQ201310618442
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年11月28日 优先权日:2013年11月28日
【发明者】汪雨 申请人:苏州原点工业设计有限公司
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