本实用新型属于测试仪器设备技术领域,具体涉及一种原位搅拌反应样品台,尤其适用于紫外可见近红外分光光度计和荧光光谱仪的原位搅拌反应样品台。
背景技术:
紫外可见近红外分光光度计是根据物质的吸收光谱研究物质的成分、结构和物质间相互作用的有效手段,依据朗伯-比耳定律可以实现定量分析。荧光光谱仪是通过检测物质的荧光、磷光光谱研究物质的荧光、磷光性能,并可推断其内部结构等相关信息。在大部分情况下,该类仪器通过比色皿装载液体样品进行测试,如通过该类仪器研究两种或多种物质反应过程,通常方法有二:其一、将反应物混合后加入比色皿进行检测;其二、将一种或多种物质加入比色皿置于仪器样品仓中,而后再加入另一种物质。前一种方法在开始测试前待检测化学反应可能已经完成,无法研究其反应过程中的动力学过程,后一种方法可能面临反应物混合不完全从而导致反应不均一情况,监测的结果会与实际过程不一致。
技术实现要素:
为解决上述技术问题,本实用新型提供原位搅拌反应样品台,实现反应物质快速均一混合,且可通过控制混合速度从而实现反应中间过程的实时在线监测,以方便化学反应中间过程的实时有效检测。
为了达到上述目的,本实用新型提供一种原位搅拌反应样品台,包括底座、底座支架、比色皿定位架和磁力搅拌台;所述底座支架固定在底座上,比色皿定位架固定在底座支架上,所述磁力搅拌台位于比色皿正下方,所述磁力搅拌台通过外接导线与电源及控制器连接。
所述比色皿定位架一侧开口,开口与固定插件竖直滑动连接,所述导线穿过开口底部,固定插件的底部与比色皿定位架开口处底部相配合,开口闭合时(固定插件关闭),导线夹在比色皿定位架以及固定插件之间,固定插件的顶部与比色皿定位架的顶部齐平。
当导线为细导线时,导线容易稳定,但是当导线为排线时,导线不容易稳定,为了保证排线稳定,开口宽度匹配排线宽度(开口的横向距离与导线的宽度相等)。
当放置磁力搅拌台及导线时,将固定插件向上滑动,将磁力搅拌台放置好,然后将固定插件向下滑动与导线接触并压紧,固定插件的顶部与比色皿定位架的顶部齐平,保证导线稳定,进一步保持磁力搅拌台稳定。当取出磁力搅拌台及导线时,将固定插件向上滑动。
更进一步地,为了增大导线与比色皿定位架以及固定插件的接触面积,导线弯曲成类台阶结构,所述固定插件的底部为台阶结构,与比色皿定位架开口处底部的台阶结构相配合。
所述固定插件包括内、中、外三层结构,固定插件内层和中层的底部同高。
开口两侧分别设有凹槽(两凹槽近比色皿放置区一侧边之间的距离匹配导线宽度),固定插件的两侧为凸槽,与凹槽配合,进行上、下滑动。
比色皿定位架的底部可以是镂空的也可以是实心的,当比色皿定位架为几字型结构,其底部为空心时,磁力搅拌台置于底座支架上;当比色皿定位架底部为实心时,磁力搅拌台置于比色皿定位架的底部。
本实用新型的有益效果是本实用新型提供的原位搅拌反应样品台,通过在比色皿正下方设置磁力搅拌台,磁力搅拌台通过外接导线与电源及控制器连接,以实现反应物质快速均一混合,且可通过控制混合速度从而实现反应中间过程的实时在线监测,以方便化学反应中间过程的实时有效检测。拔插固定插件装入、取出导线及磁力搅拌台,使用便捷,并保证导线和磁力搅拌台的稳定性。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型的俯视图;
图3为本实用新型的前视图;
图4为本实用新型的后视图;
图5为本实用新型的等轴测剖视图;
图6为本实用新型的固定插件的俯视图、左视图和等轴测视图;
图7为本实用新型的比色皿定位架的俯视图和前视图;
其中,1为底座,2为底座螺孔,3为圆孔,4为底座支架,5为比色皿定位架螺孔,6为比色皿定位架,7为凹槽,8为磁力搅拌台,9为导线,10为拔出固定插件。
具体实施方式
实施例1
如图1-7所示,一种原位搅拌反应样品台,包括底座1、底座支架4、比色皿定位架6和磁力搅拌台8;所述底座1通过对角线两个底座螺孔2用螺丝固定在仪器的样品仓内,底座1上中间两个圆孔3用于匹配仪器样品仓内的定位销,底座支架4通过螺丝固定在底座1上,比色皿定位架6通过对角线两个比色皿定位架螺孔5用螺丝固定在底座支架4上,所述比色皿定位架6为几字型结构,磁力搅拌台8置于底座支架4上,位于比色皿正下方,所述磁力搅拌台8通过外接导线9与电源及控制器连接。磁力搅拌棒放入比色皿中放入该实用新型支架即可使用。
为了保证外接导线9稳定,所述比色皿定位架6一侧开口,开口与固定插件10竖直滑动连接,所述导线9为排线,穿过开口底部,开口的横向距离与排线的宽度相等,导线9弯曲成类台阶结构(部分导线与比色皿定位架开口处的底部接触)。
所述固定插件10包括内、中、外三层结构,开口闭合时(固定插件10关闭),固定插件10的顶部与比色皿定位架6的顶部齐平,固定插件10的底部为台阶结构,与比色皿定位架6开口处底部的台阶结构相配合,比色皿定位架开口处底部的台阶结构,较低一层与固定插件10的内层和中层相配合,较高一层与固定插件10的外层相配合,导线9夹在比色皿定位架6以及固定插件10之间,固定插件10的内层和中层的底部同高。比色皿定位架6开口处较低一层的内侧为底座支架4。
开口两侧分别设有凹槽7,固定插件10的两侧为凸槽,与凹槽7配合,进行上、下滑动。
当放置磁力搅拌台8及导线9时,将固定插件10向上滑动或拔出,将磁力搅拌台8放置在底座支架4上,然后将固定插件10向下滑动或插入,与导线9接触并压紧,保证导线稳定,进一步保持磁力搅拌台8稳定。当取出磁力搅拌台8及导线9时,将固定插件10向上滑动或拔出。
可通过拔插(滑动)固定插件10装入取出磁力搅拌台8及导线9,如果取出磁力搅拌台8及导线9,该样品台也可作为普通的液体比色皿台使用。
所述比色皿定位架6前、后两侧设有光孔(固定插件10和它对面的一侧不透光),适用于紫外可见近红外分光光度计。光孔设计与参比侧相同,保证样品侧与参比侧光通量完全一致。
所述比色皿定位架6三侧设有光孔(固定插件10的一侧不透光),适用于荧光光谱仪。
本实施例中磁力搅拌台8购自starna公司。
1.一种原位搅拌反应样品台,其特征在于:包括底座(1)、底座支架(4)、比色皿定位架(6)和磁力搅拌台(8);所述底座支架(4)固定在底座(1)上,比色皿定位架(6)固定在底座支架(4)上,所述磁力搅拌台(8)位于比色皿正下方,所述磁力搅拌台(8)通过外接导线(9)与电源及控制器连接。
2.如权利要求1所述的一种原位搅拌反应样品台,其特征在于:所述比色皿定位架(6)一侧开口,开口与固定插件(10)竖直滑动连接,所述导线(9)穿过开口底部,固定插件(10)的底部与比色皿定位架(6)开口处底部相配合,开口闭合时,导线(9)夹在比色皿定位架(6)以及固定插件(10)之间,固定插件(10)的顶部与比色皿定位架(6)的顶部齐平。
3.如权利要求2所述的一种原位搅拌反应样品台,其特征在于:所述导线(9)为排线,开口宽度匹配排线的宽度。
4.如权利要求2或3所述的一种原位搅拌反应样品台,其特征在于:所述导线(9)弯曲成类台阶结构,所述固定插件(10)的底部为台阶结构,与比色皿定位架(6)开口处底部的台阶结构相配合。
5.如权利要求4所述的一种原位搅拌反应样品台,其特征在于:所述固定插件(10)包括内、中、外三层结构,固定插件(10)内层和中层的底部同高。
6.如权利要求5所述的一种原位搅拌反应样品台,其特征在于:所述比色皿定位架(6)开口两侧分别设有凹槽(7),固定插件(10)的两侧为凸槽,与凹槽配合,进行上、下滑动。