单向撞击均质装置的制作方法

本发明涉及均质设备领域，尤其涉及一种单向撞击均质装置。

背景技术：

1、均质机常用于食品、化妆品及涂料等行业的生产之中，其主要使用高速运转的转子，将原料吸入均质头内部，并由内部的均质刀将料体进行分散及剪切，后将料体快速通过上方孔洞喷出，并冲击均质头上方的挡板，造成二次冲击，进而达到分散料体，使容液呈均匀状态之效果。

2、目前，市面上的均质机的挡板，均通过螺丝固定于均质头上方，若要进行调整，需将上方螺丝旋开，根据料体性质和液面高度调整位置后锁紧。由此可见，目前挡板的设置方式使得每次加入原料或改变料体，均需重新调整挡板的位置，该调整过程不仅费时费力，且在调整的过程中很容易出现污染料体的情况，影响最终所获料体的质量。

技术实现思路

1、针对上述技术中存在的不足之处，本发明提供一种单向撞击均质装置，应用于超高压灭菌设备上，通过利用对调节杆的位置进行调节，从而能有效对物料撞击至面座的距离进行调整，进而获得不同粒径的物料，满足使用需求。

2、为实现上述目的，本发明提供一种单向撞击均质装置，包括第一高压管、第二高压管和均质头，所述均质头包括壳体、调节杆和撞击部，所述壳体为中空结构，壳体内部设置有所述调节杆和撞击部，所述调节杆设置在所述壳体的一侧，所述调节杆的对侧设置有所述第一高压管，所述撞击部设置在调节杆与第一高压管之间，所述调节杆与撞击部的一侧相连接，所述第二高压管固定安装在所述壳体上。

3、作为优选，所述调节杆的一端深入至所述壳体内，另一端向外延伸，所述调节杆上设置有螺纹，所述壳体上固定安装有螺母，所述螺母固定在所述壳体的一侧，所述螺母上设置有与调节杆相适配的反向螺纹。

4、作为优选，所述壳体内还设置有限位套，所述限位套位于调节杆与壳体之间，限位套的外侧设有密封圈，所述限位套朝向所述第一高压管的一侧设有多个与第二高压管相连通的通孔。

5、作为优选，所述撞击部包括第一撞击部、第二撞击部和撞击腔，所述撞击腔位于第一撞击部和第二撞击部之间；所述第一撞击部与所述调节杆相连接，设置在限位套内，所述第二撞击部与第一撞击部平行设置，所述第二撞击部与限位套相抵接。

6、作为优选，所述第一撞击部包括底座和面座，所述底座和面座固定相连，所述面座朝向第二撞击部一侧设置，所述底座采用钨钢制成，所述面座采用钻石制成。

7、作为优选，所述第一高压管通过高压管帽与所述均质头相连，高压管帽一端深入至所述均质头内与壳体固定相连，另一端通过固定螺母与第一高压管旋接在一起。

8、作为优选，所述高压管帽的中部设有与第一高压管相连通的通孔，所述高压管帽与第二撞击部之间设置有挤压头，所述挤压头的中部设有微孔，所谓微孔的两端分别与高压管帽和撞击腔相连通。

9、作为优选，所述挤压头中部的微孔的孔径为0.3-0.7mm。

10、作为优选，所述第二高压管与所述第一高压管结构相同，与所述均质头固定相连，第一高压管中部设有液体通道。

11、作为优选，所述第一高压管和第二高压管中的液体通道的直径为1-2mm；

12、本发明的有益效果是：本发明提供的单向撞击均质装置，应用于超高压设备上，当与超高压设备的出口端相连接后，将位于超高压设备中的物料进行均质，通过对调节杆的位置进行调节，调节面座与挤压头之间的距离，从而获得不同粒径的物料，此外设置有密封圈和高压管帽等部件，从而能有效避免在物料在超高压的情况下对元部件进行冲击，使得元部件发生移位或者松动，确保使用安全，而承受物料冲击的面座采用钻石制成，能有效承受高强度的冲击力，使得物料进行有效均质。

技术特征：

1.一种单向撞击均质装置，其特征在于，包括第一高压管、第二高压管和均质头，所述均质头包括壳体、调节杆和撞击部，所述壳体为中空结构，壳体内部设置有所述调节杆和撞击部，所述调节杆设置在所述壳体的一侧，所述调节杆的对侧设置有所述第一高压管，所述撞击部设置在调节杆与第一高压管之间，所述调节杆与撞击部的一侧相连接，所述第二高压管固定安装在所述壳体上。

2.根据权利要求1所述的单向撞击均质装置，其特征在于，所述调节杆的一端深入至所述壳体内，另一端向外延伸，所述调节杆上设置有螺纹，所述壳体上固定安装有螺母，所述螺母固定在所述壳体的一侧，所述螺母上设置有与调节杆相适配的反向螺纹。

3.根据权利要求1所述的单向撞击均质装置，其特征在于，所述壳体内还设置有限位套，所述限位套位于调节杆与壳体之间，限位套的外侧设有密封圈，所述限位套朝向所述第一高压管的一侧设有多个与第二高压管相连通的通孔。

4.根据权利要求1所述的单向撞击均质装置，其特征在于，所述撞击部包括第一撞击部、第二撞击部和撞击腔，所述撞击腔位于第一撞击部和第二撞击部之间；所述第一撞击部与所述调节杆相连接，设置在限位套内，所述第二撞击部与第一撞击部平行设置，所述第二撞击部与限位套相抵接。

5.根据权利要求4所述的单向撞击均质装置，其特征在于，所述第一撞击部包括底座和面座，所述底座和面座固定相连，所述面座朝向第二撞击部一侧设置，所述底座采用钨钢制成，所述面座采用钻石制成。

6.根据权利要求1所述的单向撞击均质装置，其特征在于，所述第一高压管通过高压管帽与所述均质头相连，高压管帽一端深入至所述均质头内与壳体固定相连，另一端通过固定螺母与第一高压管旋接在一起。

7.根据权利要求6所述的单向撞击均质装置，其特征在于，所述高压管帽的中部设有与第一高压管相连通的通孔，所述高压管帽与第二撞击部之间设置有挤压头，所述挤压头的中部设有微孔，所谓微孔的两端分别与高压管帽和撞击腔相连通。

8.根据权利要求7所述的单向撞击均质装置，其特征在于，所述挤压头中部的微孔的孔径为0.3-0.7mm。

9.根据权利要求1所述的单向撞击均质装置，其特征在于，所述第二高压管与所述第一高压管结构相同，与所述均质头固定相连，第一高压管中部设有液体通道。

10.根据权利要求1所述的单向撞击均质装置，其特征在于，所述第一高压管和第二高压管中的液体通道的直径为1-2mm。

技术总结
本发明公开了一种单向撞击均质装置，包括第一高压管、第二高压管和均质头，均质头包括壳体、调节杆和撞击部，壳体为中空结构，壳体内部设置有调节杆和撞击部，调节杆设置在壳体的一侧，调节杆的对侧设置有第一高压管，撞击部设置在调节杆与第一高压管之间，调节杆与撞击部的一侧相连接，第二高压管固定安装在壳体上，本发明应用于超高压灭菌设备上，通过利用对调节杆的位置进行调节，从而能有效对物料撞击至面座的距离进行调整，进而获得不同粒径的物料，满足使用需求。

技术研发人员：请求不公布姓名
受保护的技术使用者：醉好科技运营（深圳）集团有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13