树脂玻璃用涂覆剂和树脂玻璃的制作方法

文档序号:34469883发布日期:2023-06-15 11:46阅读:37来源:国知局
树脂玻璃用涂覆剂和树脂玻璃的制作方法

本发明涉及树脂玻璃用涂覆剂和树脂玻璃。


背景技术:

1、以往,由无机玻璃构成汽车、火车等车辆的窗。近年来,以车辆的轻型化为目的,研究将构成窗等的无机玻璃替换成比无机玻璃更轻的由透明树脂构成的树脂玻璃。但是,与无机玻璃相比,树脂玻璃存在容易擦伤的问题。

2、为了解决上述问题,提高树脂玻璃的耐擦伤性,提出了在透明树脂的表面形成硬膜的技术。例如,专利文献1中,记载了一种涂层聚碳酸酯板状成型体的形成方法,上述涂层聚碳酸酯板状成型体具有聚碳酸酯的板状成型体、设置于该成型体的至少一面上的底漆层和形成于底漆层上的硬涂层。硬涂层是通过将含有胶体二氧化硅和三烷氧基硅烷的水解缩合物的硬涂涂覆液加热使其固化而形成的。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:日本特开平2004-27110号公报


技术实现思路

1、但是,形成像专利文献1的涂层聚碳酸酯板状成型体这种由底漆层和硬涂层2层结构构成的膜时,需要依次进行下述工序:在板状成型体上涂布底漆的工序,使底漆干燥而形成底漆层的工序,在底漆层上涂布涂覆剂的工序,以及使涂覆剂固化而形成硬涂层的工序。因此,皮膜的形成操作繁琐,并且导致皮膜的形成操作所需的成本增大。

2、本发明是鉴于上述背景而进行的,提供以简便的方法形成不易擦伤的涂覆膜的树脂玻璃用涂覆剂和使用该树脂玻璃用涂覆剂所制作的树脂玻璃。

3、本发明的一个方式涉及一种树脂玻璃用涂覆剂,含有膜形成成分和由光自由基聚合引发剂构成的d成分,

4、上述膜形成成分含有:

5、由具有异氰脲酸环骨架的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯构成的a成分,

6、由具有异氰脲酸环骨架且不具有氨基甲酸酯键的三(甲基)丙烯酸酯构成的b成分,以及

7、由具有(甲基)丙烯酰基和碳原子数3~13的烃基的胶体二氧化硅构成的c成分,

8、并且,相对于合计为100质量份的膜形成成分,上述d成分的含量为0.1质量份~10质量份。

9、本发明的另一方式涉及一种树脂玻璃,具有由透明树脂构成的基材以及由上述方式的树脂玻璃用涂覆剂的固化物构成且被覆上述基材的表面的涂覆膜。

10、上述树脂玻璃用涂覆剂(以下称为“涂覆剂”)含有包含上述a成分~上述c成分的膜形成成分以及由光自由基聚合引发剂构成的d成分。上述a成分~上述c成分。因此,通过在基材上涂布上述涂覆剂后,对涂覆剂照射光使d成分产生自由基这种简便的方法,就能够使膜形成成分固化而形成涂覆膜。

11、使上述涂覆剂固化而成的涂覆膜具有各成分三维交联而成的网状结构。网状结构中导入有来自c成分的胶体二氧化硅。因此,使上述涂覆剂固化而成的涂覆膜具有优异的耐擦伤性。

12、因此,根据上述的方式,能够提供以简便的方法形成不易擦伤的涂覆膜的树脂玻璃用涂覆剂。



技术特征:

1.一种树脂玻璃用涂覆剂,含有膜形成成分和由光自由基聚合引发剂构成的d成分,

2.根据权利要求1所述的树脂玻璃用涂覆剂,其中,相对于合计为100质量份的所述膜形成成分,所述a成分的含量为3质量份~60质量份,所述b成分的含量为10质量份~50质量份,所述c成分的含量为1质量份~30质量份。

3.根据权利要求1或2所述的树脂玻璃用涂覆剂,其中,所述膜形成成分中进一步含有由(甲基)丙烯酸当量为80~200的多官能(甲基)丙烯酸酯构成的e成分。

4.根据权利要求3所述的树脂玻璃用涂覆剂,其中,相对于合计为100质量份的所述膜形成成分,所述e成分的含量为5质量份~50质量份。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的树脂玻璃用涂覆剂,其中,所述树脂玻璃用涂覆剂进一步含有由紫外线吸收剂构成的f成分,并且,相对于合计为100质量份的所述膜形成成分,所述f成分的含量为1质量份~12质量份。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的树脂玻璃用涂覆剂,其中,所述树脂玻璃用涂覆剂进一步含有由选自有机硅系表面调整剂和氟系表面调整剂中的任1种以上的化合物构成的g成分,并且,相对于合计为100质量份的所述膜形成成分,所述g成分的含量为0.01质量份~1.0质量份。

7.一种树脂玻璃,具有由透明树脂构成的基材,以及

8.根据权利要求7所述的树脂玻璃,其中,所述基材由作为所述透明树脂的聚碳酸酯构成。


技术总结
一种涂覆剂,含有膜形成成分和由光自由基聚合引发剂构成的D成分,所述膜形成成分含有:由具有异氰脲酸环骨架的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯构成的A成分,由具有异氰脲酸环骨架且不具有氨基甲酸酯键的三(甲基)丙烯酸酯构成的B成分,以及,由具备(甲基)丙烯酰基和碳原子数为3~13的烃基的胶体二氧化硅构成的C成分。并且,相对于合计为100质量份的膜形成成分,D成分的含量为0.1~10质量份。

技术研发人员:宗像秀典,矶部元成,野田谦,后藤宏太,上里直子
受保护的技术使用者:株式会社丰田自动织机
技术研发日:
技术公布日:2024/1/13
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