一种电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐的制作方法

文档序号:31628325发布日期:2022-09-24 01:15阅读:51来源:国知局
一种电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐的制作方法

1.本实用新型属于电解铜箔技术领域,具体涉及一种电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐。


背景技术:

2.电解铜箔作为电子工业的基础原料,在电子行业的发展中起着非常重要的作用。电解铜箔是用电沉积技术得到的,在电沉积过程中需要添加各种添加剂以提高铜箔的质量。随着当前印刷电路板和锂离子电池的快速发展,电解铜箔也向着“密、薄、平”方向发展,这就对电解铜箔添加剂的质量提出了更高的要求。添加剂常用于铜箔生产过程中提高铜箔的平整性、光亮度和抗拉伸强度等性能,一般含有胶原蛋白、硫脲、纤维素等成分,按一定比例称量后混合而成。
3.传统的电解铜箔添加剂稀释的时候,是将添加剂和溶剂按照一定的比例在常压有氧稀释罐中进行搅拌均匀即可,这样会导致两方面影响:一方面,添加剂中的一些活性物质降解失效,不仅影响铜箔性能的提高,产生的一些絮状副产物也会堵塞系统管道或阀门;另一方面,搅拌过程中产生的微小气泡夹杂在溶液中,在电沉积过程中在铜箔表面破裂产生指甲印等缺陷,从而影响铜箔质量。


技术实现要素:

4.本实用新型提供了一种电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐,用于解决上述背景技术中所提出的电解铜箔添加剂在稀释过程中出现的氧化变质和活性失效等问题。
5.本实用新型的目的是这样实现的,
6.包括罐体1和上盖2,在上盖2顶部中央设有竖直向下的搅拌桨10,搅拌桨10延伸至罐体1底部,罐体1顶部安装有电机5,搅拌桨10的顶端与电机5转动连接,上盖2上还设有人孔口3、充气口4、抽气口9、第一加料口6、第二加料口7和气压表8。
7.所述上盖2与罐体1之间设置有密封圈。
8.所述的罐体1为不锈钢材质。
9.所述充气口4、抽气口9上设置有密封阀。
10.本实用新型通过添加剂稀释罐中真空抽气和惰性气体充入,有效地防止了添加剂有效成分的氧化失效,消除了搅拌过程中产生的微气泡,减少了添加剂损耗,提高了电解铜箔质量。
附图说明
11.图1为本实用新型的结构示意图;
12.图中:1-罐体、2-上盖、3-人孔口、4-充气口、5-电机、6-第一加料口、7-第二加料口、8-气压表、9-抽气口,10-搅拌桨。
具体实施方式
13.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明,但不以任何方式对本实用新型加以限制,基于本实用新型教导所作的任何变换或替换,均属于本实用新型的保护范围。
14.如图1所示:一种电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐,包括罐体1和上盖2,在上盖2顶部中央设有竖直向下的搅拌桨10,搅拌桨10延伸至罐体1底部,罐体1顶部安装有电机5,搅拌桨10的顶端与电机5转动连接,上盖2上还设有人孔口3、充气口4、抽气口9、第一加料口 6、第二加料口7和气压表8。该设备工作时先将上盖2与罐体1闭合,添加剂和稀释剂按照一定比例通过第一加料口6和第二加料口7注入罐体1中,启动电机5带动搅拌桨9进行搅拌,通过抽气口9进行真空抽气,减少罐体中的氧分和搅拌过程中产生的气泡,搅拌均匀后,关闭抽气口阀门,打开充气口阀门注入氩气或氮气等惰性气氛,防止添加剂氧化失效,整个操作过程可通过人孔口3进行观察。
15.以上对本实用新型的具体实施方式作了详细说明,但是本实用新型并不限于上述实施方式,在本领域普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本实用新型宗旨的前提下作出各种变化。


技术特征:
1.一种电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐,其特征在于包括罐体(1)和上盖(2),在上盖(2)顶部中央设有竖直向下的搅拌桨(10),搅拌桨(10)延伸至罐体(1)底部,罐体(1)顶部安装有电机(5),搅拌桨(10)的顶端与电机(5)转动连接,上盖(2)上还设有人孔口(3)、充气口(4)、抽气口(9)、第一加料口(6)、第二加料口(7)和气压表(8)。2.根据权利要求1所述的电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐,其特征在于所述上盖(2)与罐体(1)之间设置有密封圈。3.根据权利要求1所述的电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐,其特征在于所述的罐体(1)为不锈钢材质。4.根据权利要求1所述的电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐,其特征在于所述充气口(4)、抽气口(9)上设置有密封阀。

技术总结
本实用新型公开了一种电解铜箔生产过程中的防氧化稀释罐,包括罐体和上盖,在上盖顶部中央设有竖直向下的搅拌桨,搅拌桨延伸至罐体底部,罐体顶部安装有电机,搅拌桨的顶端与电机转动连接,上盖上还设有人孔口、充气口、抽气口、第一加料口、第二加料口和气压表。本实用新型通过添加剂稀释罐中真空抽气和惰性气体充入,有效地防止了添加剂有效成分的氧化失效,消除了搅拌过程中产生的微气泡,减少了添加剂损耗,提高了电解铜箔质量。提高了电解铜箔质量。提高了电解铜箔质量。


技术研发人员:姚耀春 张能涛 杨斌 李均平 徐宝强 蒋文龙
受保护的技术使用者:云南梓靖新材料有限公司
技术研发日:2022.06.30
技术公布日:2022/9/23
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