双侧照胶固化装置的制作方法

文档序号:34503951发布日期:2023-06-18 01:17阅读:36来源:国知局
双侧照胶固化装置的制作方法

本技术涉及光学加工设备领域,尤其涉及一种双侧照胶固化装置。


背景技术:

1、在光学器件加工过程中,一般需要通过光胶对光学器件的位置进行固定,而光胶则一般都需要通过照射特点的光来进行光固化,以实现器件的装配固定。

2、现有的光固化操作一般采用人工照射操作,在一些光学器件需要在整个周向上进行照射,因此在人工加工情况下,一只手握持光学器件,另一只手则控制照射模块,在此情况下,一方面照射角度无法周全,且另一方面照射时长也无法稳定,同时外界光也会对加工作业干扰影响,从而大大影响到光学器件的良品率。


技术实现思路

1、本实用新型的目的是提供一种操作简便且加工效率高的双侧照胶固化装置。

2、为了实现本实用新型目的,本实用新型提供一种双侧照胶固化装置,包括照射组件和进料组件,照射组件包括遮蔽壳和两个照射模块,遮蔽壳包括顶板、两个侧板、后板和前板,两个侧板、后板和前板设置在顶板的下方并围成照射空间,后板连接在两个侧板之间,前板连接在两个侧板之间,遮蔽壳的下方呈敞口布置,前板沿水平方向贯穿设置有连通口,连通口与敞口连通,一个照射模块设置在一个侧板上;进料组件包括沿竖直方向延伸的支撑架和沿水平方向延伸的放置架,放置架连接在支撑架的上端,放置架沿竖直方向贯穿设置有放置孔,支撑架和放置架可穿过连通口移动至照射空间内,两个照射模块分别位于放置孔的水平两侧并朝向放置孔。

3、更进一步的方案是,放置孔包括沿竖直方向连通的第一孔段和第二孔段,第一孔段的孔径大于第二孔段的孔径,第一孔段位于第二孔段的上方。

4、更进一步的方案是,遮蔽壳在敞口的两侧分别设置有底板,一个底板与一侧的侧板连接。

5、更进一步的方案是,放置架沿放置孔的径向贯穿设置有过槽,过槽与放置孔连通。

6、更进一步的方案是,进料组件还包括遮挡块,遮挡块与放置架连接,遮挡块可移动至连通口处并盖合连通口。

7、更进一步的方案是,后板设置有避让槽,连通口和避让槽位于同一水平方向上;进料组件包括两个支撑架,两个支撑架分别连接在放置架的水平两端,一个支撑架位于避让槽处,一个支撑架位于连通口处。

8、更进一步的方案是,进料组件还包括滑轨和滑块,滑轨沿水平方向布置,滑块设置在滑轨上并可沿滑轨移动,支撑架的下端与滑块固定连接;双侧照胶固化装置还包括触发模块,触发模块设置在遮蔽壳的下方,滑块或支撑架与触发模块邻接。

9、更进一步的方案是,侧板沿水平方向贯穿设置有安装槽,照射模块穿过安装槽地与侧板连接。

10、更进一步的方案是,照射组件还包括调节支架和调节螺钉,调节支架沿水平方向设置有调节滑槽,调节螺钉穿过调节滑槽与照射模块连接。

11、更进一步的方案是,调节支架沿竖直方向延伸,调节支架与侧板的外侧壁固定连接。

12、本实用新型的有益效果是,通过遮蔽壳围成照射空间,遮蔽壳的下方呈敞口布置,使得待加工器件具有尾纤或线缆时,尾纤或线缆可穿过放置孔,待加工器件放置在放置架上,随后可被移动穿过连通口送入至照射空间,尾纤或线缆则穿过于敞口,随后通过两侧的照射模块可朝向待加工器件照射固化,不仅照射角度周全且位置固定,以及操作简便效率高,再利用相对密闭的照射空间可以避免环境光的干扰,以更进一步提高良品率,还避免照射光外露对人员起保护作用。在通过调节支架可对调节支架水平位置调节,继而适配不同的待加工器件,以及通过与触发模块邻接并触发启动信号,以方便照射加工启动使用。



技术特征:

1.双侧照胶固化装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的双侧照胶固化装置,其特征在于:

3.根据权利要求1所述的双侧照胶固化装置,其特征在于:

4.根据权利要求1所述的双侧照胶固化装置,其特征在于:

5.根据权利要求1所述的双侧照胶固化装置,其特征在于:

6.根据权利要求1所述的双侧照胶固化装置,其特征在于:

7.根据权利要求1所述的双侧照胶固化装置,其特征在于:

8.根据权利要求1至7任一项所述的双侧照胶固化装置,其特征在于:

9.根据权利要求8所述的双侧照胶固化装置,其特征在于:

10.根据权利要求9所述的双侧照胶固化装置,其特征在于:


技术总结
本技术提供一种双侧照胶固化装置,包括照射组件和进料组件,照射组件包括遮蔽壳和两个照射模块,遮蔽壳沿水平方向贯穿设置有连通口,照射模块设置在遮蔽壳的侧板上,进料组件包括沿竖直方向延伸的支撑架和沿水平方向延伸的放置架,放置架连接在支撑架的上端,放置架沿竖直方向贯穿设置有放置孔,支撑架和放置架可穿过连通口移动至照射空间内,两个照射模块分别位于放置孔的水平两侧并朝向放置孔。通过两侧的照射模块可朝向待加工器件照射固化,不仅照射角度周全且位置固定,以及操作简便效率高,再利用相对密闭的照射空间可以避免环境光的干扰,以更进一步提高良品率,还避免照射光外露对人员起保护作用。

技术研发人员:肖新亮,张获,张大龙
受保护的技术使用者:珠海光库科技股份有限公司
技术研发日:20221226
技术公布日:2024/1/12
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