一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置及其制备工艺的制作方法

本发明涉及cmp抛光液过滤，尤其是涉及一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置及其制备工艺。

背景技术：

1、公知的，cmp技术是用来去除晶圆表面的氧化层、硅化物、金属残留物等杂质，以保证晶体管等器件的性能和稳定性，在cmp抛光液制备中对cmp抛光液进行过滤是一重要步骤，正常过滤时，cmp抛光液流速过慢，过滤效率低，滤网长期使会出现堵塞，滤网堵塞不仅影响过滤效率，而且滤网堵塞会导致滤网受压过大，滤网受压过大容易导致滤网破裂，另外滤网长期使液会出现破损，滤网破损不易发现，滤网破损不及时更换会影响过滤出cmp抛光液的品质，为此，我们提出了一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置及其制备工艺。

技术实现思路

1、为了克服背景技术中的不足，本发明公开了一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置及其制备工艺，使用时通过进料装置进行供料，通过过滤缸体内的过滤组件进行过滤，通过加压装置对过滤缸体内进行加压，通过出料装置把过滤好的cmp抛光液进行排除，通过收集装置对被过滤下的杂质进行收集，以此来达到对cmp抛光液进行过滤的目的。

2、为了实现所述发明目的，本发明采用如下技术方案

3、一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，包括过滤缸体、加压装置、进料装置、过滤组件、出料装置和收集装置，过滤缸体上设有加压装置、收集装置和进料装置，过滤缸体内设有过滤组件，过滤组件上设有出料装置，过滤组件由第二固定板、第一固定块、固定支架和过滤网构成，第二固定板上设有第一固定块和固定支架，固定支架上设有过滤网，固定支架与出料装置和加压装置相连通。

4、所述过滤缸体的上部面上设有加压装置，过滤缸体的下部面上设有收集装置，过滤缸体一侧的外壁上设有进料装置，过滤缸体内设有过滤组件，过滤缸体的另一侧在靠近下部面的一侧上设有出料装置。

5、所述过滤缸体上设有压力表，压力表与过滤缸体内部相连通。

6、所述加压装置由第一固定板、气泵和排气管构成，第一固定板固定在过滤缸体上，第一固定板上部面的中间位置上设有气泵，气泵下部面的中间位置上设有排气孔，排气孔贯穿第一固定板，排气孔至少设置一个，排气孔有序排列在第一固定板上，气泵的下部面在设有排气孔的位置的两侧上均设有排气管，排气管贯穿第一固定板。

7、所述收集装置由漏斗、第一电动阀门和收集盒构成，漏斗的一端与过滤缸体相连通，漏斗的另一端上设有第一电动阀门，第一电动阀门上设有收集盒，收集盒与漏斗通过第一电动阀门相连通，收集盒与第一电动阀门活动连接。

8、所述进料装置由进料管、第二法兰盘和第三电动阀门构成，进料管的一端与过滤缸体内部相连通，进料管的另一端上设有第二法兰盘，第二法兰盘上设有第三电动阀门。

9、所述第二固定板的两端外壁均设有第一固定块，第一固定块的一端与第二固定板相连接，第一固定块的另一端与过滤缸体内壁相连接，第二固定板的上部面上设有第二固定孔，第二固定孔成对设置，第二固定孔贯穿第二固定板，第二固定板上的第二固定孔内设有固定支架，第二固定板的上部面在第二固定孔的外围设置第一固定孔，第一固定孔贯穿第二固定板，第一固定孔至少设置一个，第一固定孔有序的排列在第二固定板上。

10、所述固定支架的两端上均设有第三固定板，固定支架的外壁上设有过滤网，第三固定板上部面的中间位置上设有第三固定孔，第三固定孔贯穿第三固定板与固定支架，固定支架上部面的第三固定板上的第三固定孔与排气管相连通，固定支架下部面的第三固定板上的第三固定孔内设有出料装置。

11、所述出料装置由第一出料管、第二出料管、第二电动阀门、第一法兰盘和流速表构成，第一出料管的一端设在过滤缸体内部，第一出料管位于过滤缸体内部的一端上设有第二出料管，第二出料管成对设置，第二出料管的一端与第三固定板上的第三固定孔相连通，第二出料管的另一端与第一出料管相连通，第一出料管的另一端设在过滤缸体外部，第一出料管设在过滤缸体外部的一端上设有第一法兰盘和流速表，流速表与第一出料管相连通。

12、所述cmp抛光液制备用溶液过滤工艺：

13、s1：通过进料装置向过滤缸体内注入要过滤cmp抛光液；

14、s2：通过加压装置对过滤缸体内进行加压；

15、s3：通过在过滤缸体内设置过滤组件，过滤组件分为两个过滤构件；

16、s4：通过出料装置上的第二电动阀门控制要使用的过滤构件；

17、s5：通过过滤缸上的压力表对过滤缸体内的压力进行检测，当压力表检测到过滤缸体内压力过大时，表示该过滤构件上的过滤网被堵塞，打开备用过滤构件所对应的出料装置上的第二电动阀门，关闭之前工作的过滤构件相对应的第二电动阀门，打开该过滤构件相对应的排气管，通过气泵喷出的气对该过滤构件上的过滤网进行反冲；

18、s6：受重力的影响被过滤下的杂质落在过滤缸体的下方，通过收集装置对被过滤下的杂质进行收集。

19、由于采用了上述技术方案，本发明具有如下有益效果：

20、本发明所述的一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置及其制备工艺，使用时通过进料装置进行供料，通过过滤缸体内的过滤组件进行过滤，通过加压装置对过滤缸体内进行加压，通过出料装置把过滤好的cmp抛光液进行排除，通过收集装置对被过滤下的杂质进行收集，以此来达到对cmp抛光液进行过滤的目的；本发明结构合理实用，操作简单，不仅便于对过滤缸体内进行加压，提高了cmp抛光液的过滤效率，而且便于对堵塞的滤网进行检测，同时对堵塞的滤网进行反冲，另外对被过滤下的杂质进行收集。

技术特征：

1.一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，包括过滤缸体（1）、加压装置（4）、进料装置（3）、过滤组件（2）、出料装置（6）和收集装置（7），过滤缸体（1）上设有加压装置（4）、收集装置（7）和进料装置（3），过滤缸体（1）内设有过滤组件（2），过滤组件（2）上设有出料装置（6），其特征是：过滤组件（2）由第二固定板（17）、第一固定块（19）、固定支架（21）和过滤网（20）构成，第二固定板（17）上设有第一固定块（19）和固定支架（21），固定支架（21）上设有过滤网（20），固定支架（21）与出料装置（6）和加压装置（4）相连通。

2.根据权利要求1所述的一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，其特征是：所述过滤缸体（1）的上部面上设有加压装置（4），过滤缸体（1）的下部面上设有收集装置（7），过滤缸体（1）一侧的外壁上设有进料装置（3），过滤缸体（1）内设有过滤组件（2），过滤缸体（1）的另一侧在靠近下部面的一侧上设有出料装置（6）。

3.根据权利要求2所述的一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，其特征是：所述过滤缸体（1）上设有压力表（5），压力表（5）与过滤缸体（1）内部相连通。

4.根据权利要求1~3任一项所述的一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，其特征是：所述加压装置（4）由第一固定板（9）、气泵（8）和排气管（11）构成，第一固定板（9）固定在过滤缸体（1）上，第一固定板（9）上部面的中间位置上设有气泵（8），气泵（8）下部面的中间位置上设有排气孔（10），排气孔（10）贯穿第一固定板（9），排气孔（10）至少设置一个，排气孔（10）有序排列在第一固定板（9）上，气泵（8）的下部面在设有排气孔（10）的位置的两侧上均设有排气管（11），排气管（11）贯穿第一固定板（9）。

5.根据权利要求4所述的一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，其特征是：所述收集装置（7）由漏斗（13）、第一电动阀门（14）和收集盒（15）构成，漏斗（13）的一端与过滤缸体（1）相连通，漏斗（13）的另一端上设有第一电动阀门（14），第一电动阀门（14）上设有收集盒（15），收集盒（15）与漏斗（13）通过第一电动阀门（14）相连通，收集盒（15）与第一电动阀门（14）活动连接。

6.根据权利要求5所述的一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，其特征是：所述进料装置（3）由进料管（30）、第二法兰盘（29）和第三电动阀门（28）构成，进料管（30）的一端与过滤缸体（1）内部相连通，进料管（30）的另一端上设有第二法兰盘（29），第二法兰盘（29）上设有第三电动阀门（28）。

7.根据权利要求6所述的一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，其特征是：所述第二固定板（17）的两端外壁均设有第一固定块（19），第一固定块（19）的一端与第二固定板（17）相连接，第一固定块（19）的另一端与过滤缸体（1）内壁相连接，第二固定板（17）的上部面上设有第二固定孔（18），第二固定孔（18）成对设置，第二固定孔（18）贯穿第二固定板（17），第二固定板（17）上的第二固定孔（18）内设有固定支架（21），第二固定板（17）的上部面在第二固定孔（18）的外围设置第一固定孔（16），第一固定孔（16）贯穿第二固定板（17），第一固定孔（16）至少设置一个，第一固定孔（16）有序的排列在第二固定板（17）上。

8.根据权利要求7所述的一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，其特征是：所述固定支架（21）的两端上均设有第三固定板（12），固定支架（21）的外壁上设有过滤网（20），第三固定板（12）上部面的中间位置上设有第三固定孔（22），第三固定孔（22）贯穿第三固定板（12）与固定支架（21），固定支架（21）上部面的第三固定板（12）上的第三固定孔（22）与排气管（11）相连通，固定支架（21）下部面的第三固定板（12）上的第三固定孔（22）内设有出料装置（6）。

9.根据权利要求8所述的一种cmp抛光液制备用溶液过滤装置，其特征是：所述出料装置（6）由第一出料管（23）、第二出料管（27）、第二电动阀门（26）、第一法兰盘（24）和流速表（25）构成，第一出料管（23）的一端设在过滤缸体（1）内部，第一出料管（23）位于过滤缸体（1）内部的一端上设有第二出料管（27），第二出料管（27）成对设置，第二出料管（27）的一端与第三固定板（12）上的第三固定孔（22）相连通，第二出料管（27）的另一端与第一出料管（23）相连通，第一出料管（23）的另一端设在过滤缸体（1）外部，第一出料管（23）设在过滤缸体（1）外部的一端上设有第一法兰盘（24）和流速表（25），流速表（25）与第一出料管（23）相连通。

10.根据权利要求1-9所述cmp抛光液制备用溶液过滤工艺，其特征在于：包括如下步骤：

技术总结
一种CMP抛光液制备用溶液过滤装置及其制备工艺，涉及CMP抛光液过滤技术领域，包括过滤缸体、加压装置、进料装置、过滤组件、出料装置和收集装置，过滤缸体上设有加压装置、收集装置和进料装置，过滤缸体内设有过滤组件，过滤组件上设有出料装置，过滤组件由第二固定板、第一固定块、固定支架和过滤网构成，第二固定板上设有第一固定块和固定支架，固定支架上设有过滤网，固定支架与出料装置和加压装置相连通；本发明结构合理实用，操作简单，不仅便于对过滤缸体内进行加压，提高了CMP抛光液的过滤效率，而且便于对堵塞的滤网进行检测，同时对堵塞的滤网进行反冲，另外对被过滤下的杂质进行收。

技术研发人员：黎持荣,饶美情
受保护的技术使用者：东莞市粤成新材料有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15