一种废气洗涤塔的制作方法

文档序号:35597466发布日期:2023-09-27 19:48阅读:29来源:国知局
一种废气洗涤塔的制作方法

本技术涉及洗涤塔,更具体地说,它涉及一种废气洗涤塔。


背景技术:

1、废气洗涤塔是一种常用的废气处理设备,利用吸收液与废气接触,通过传质作用,将废气中的污染物拦截到吸收液中,降低废气中的污染物浓度。

2、现有的洗涤塔通常采用整体一体设计,其体积较大,重量也较大,其在运输安装时都较为不便。

3、因此亟需一种新的技术方案来解决上述技术问题。


技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种废气洗涤塔。

2、本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种废气洗涤塔,包括进气管与出气管,所述进气管与出气管之间设置有若干洗涤管,相邻的进气管、出气管与洗涤管之间通过定位组件可拆卸固定连接,所述洗涤管的内部均设置有过滤层与雾化喷头。

3、本实用新型进一步设置为:所述进气管、出气管与洗涤管的连接处均设置有定位沿,所述定位组件包括沿着定位沿设置的若干定位件,所述定位件包括下定位块与上定位块,所述下定位块与上定位块分别抵接于相邻定位沿的表面,并通过螺杆固定连接。

4、本实用新型进一步设置为:所述定位沿的表面沿其圆周开设有圆形凹槽,所述上定位块包括抵接于定位沿表面的上抵接部,所述上抵接部的表面设置有插设于圆形凹槽内的上定位块,所述定位沿侧壁开设有贯穿其表面的限位槽,所述上定位块还包括设置于上抵接部一侧的上连接部,所述上连接部的侧壁设置有滑动连接于限位槽内的上限位块。

5、本实用新型进一步设置为:所述下定位块包括抵接于定位沿表面的下抵接部,所述下抵接部的表现设置有插设于圆形凹槽内的下定位块,所述下定位块还包括设置于下抵接部一侧的下连接部,所述下连接部的侧壁设置有滑动连接于限位槽内的下限位块。

6、本实用新型进一步设置为:所述上连接部的下表面设置有抵接于下连接部的定位部,所述定位部的表面设置有第一橡胶垫。

7、本实用新型进一步设置为:所述上限位块与下限位块朝向限位槽底部的表面设置有第二橡胶垫。

8、本实用新型进一步设置为:所述上连接部开设有供螺杆穿设的通槽,所述下连接部开设有供螺杆螺纹连接的螺纹槽。

9、本实用新型具有以下有益效果:通过定位组件可对进气管、出气管与洗涤管进行拆卸安装,便于运输安装的同时,可根据实际生产环境调节洗涤管的数量。

10、附图说明

11、图1为本实施例的剖面结构示意图;

12、图2为本实施例定位件与定位沿的剖面结构示意图;

13、图3为本实施例定位沿的部分剖面结构示意图;

14、图4为本实施例上定位块的剖面结构示意图;

15、图5为本实施例下定位块的剖面结构示意图。



技术特征:

1.一种废气洗涤塔,其特征在于:包括进气管与出气管,所述进气管与出气管之间设置有若干洗涤管,相邻的进气管、出气管与洗涤管之间通过定位组件可拆卸固定连接,所述洗涤管的内部均设置有过滤层与雾化喷头。

2.根据权利要求1所述的一种废气洗涤塔,其特征在于:所述进气管、出气管与洗涤管的连接处均设置有定位沿,所述定位组件包括沿着定位沿设置的若干定位件,所述定位件包括下定位块与上定位块,所述下定位块与上定位块分别抵接于相邻定位沿的表面,并通过螺杆固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种废气洗涤塔,其特征在于:所述定位沿的表面沿其圆周开设有圆形凹槽,所述上定位块包括抵接于定位沿表面的上抵接部,所述上抵接部的表面设置有插设于圆形凹槽内的上插块,所述定位沿侧壁开设有贯穿其表面的限位槽,所述上定位块还包括设置于上抵接部一侧的上连接部,所述上连接部的侧壁设置有滑动连接于限位槽内的上限位块。

4.根据权利要求3所述的一种废气洗涤塔,其特征在于:所述下定位块包括抵接于定位沿表面的下抵接部,所述下抵接部的表现设置有插设于圆形凹槽内的下插块,所述下定位块还包括设置于下抵接部一侧的下连接部,所述下连接部的侧壁设置有滑动连接于限位槽内的下限位块。

5.根据权利要求4所述的一种废气洗涤塔,其特征在于:所述上连接部的下表面设置有抵接于下连接部的定位部,所述定位部的表面设置有第一橡胶垫。

6.根据权利要求4所述的一种废气洗涤塔,其特征在于:所述上限位块与下限位块朝向限位槽底部的表面设置有第二橡胶垫。

7.根据权利要求4所述的一种废气洗涤塔,其特征在于:所述上连接部开设有供螺杆穿设的通槽,所述下连接部开设有供螺杆螺纹连接的螺纹槽。


技术总结
本技术公开了一种废气洗涤塔,涉及洗涤塔技术领域,旨在解决运输安装不便的技术问题。其技术方案要点是:包括进气管与出气管,所述进气管与出气管之间设置有若干洗涤管,相邻的进气管、出气管与洗涤管之间通过定位组件可拆卸固定连接,所述洗涤管的内部均设置有过滤层与雾化喷头。本技术的目的在于提供一种废气洗涤塔。

技术研发人员:梁献伟,吴宇翔,彭孟龙
受保护的技术使用者:嘉芯迦能半导体设备科技(浙江)有限公司
技术研发日:20230515
技术公布日:2024/1/14
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