一种反应釜用的简约型分布器的制作方法

本技术涉及化工设备领域，更具体地说，涉及一种反应釜用的简约型分布器。

背景技术：

1、解析塔，一种用于气体或蒸汽（气相）在溶剂（液相）中分离溶质的一部分，在气液两相制中，使溶质组分的气相分离压力低于溶剂中组分的气液平衡分压，发生溶质组分从液相向气相的质量转移的设备，这一过程称为解析塔解析或蒸发。解析塔的作用主要在于回收尾气生产过程中排出的废气、净化生产过程中排出的废气、在化工生产中制取半成品或成品。

2、解析塔一般采用逆流操作，液体在塔内从上到下流动，气体自下而上通过，塔体外部的气体进入塔体后，经分布器进入填料层，填料层上被喷淋有液体，并在填料上形成一层液膜，气体流经填料空隙时，解析塔与填料液膜接触并进行吸收或中和反应，气体继续向上行走，经过几次吸收或中和的气体经除雾器收集后，由出风口排出塔外，填料层上液膜余下的液体经液体收集器回收至指定地点。

3、在盐酸解析过程中，31-33％浓盐酸在解析塔体与通过再沸器加温的高温氯化氢与水蒸气开展持续接触逆流传质、传热的过程，浓盐酸靠重力沿填料表面下降，与上升的气体接触，进而使上升气体中氯化氢含量持续提升，在塔顶获得含饱和水的氯化氢气体，经常温冷却水一级冷却与氯化钙或是乙二醇深冷二级冷却得到99.9%以上的氯化氢气体，在解析塔塔底获得恒沸酸（盐酸浓度20-22%）。

4、基于此，一款适合的分布器是保证产品质量的关键因素。现有的分布器采用石墨材质制成，如图6-9所示，一级分布器a为内部中空的长方体，一级分布器a上端安装有液体导流件，一级分布器a内部腔体为集液槽c，同时一级分布器a底部开有供液体通过的液体通道e,二级分布器b位于一级分布器a的下方，二级分布器b为圆柱形，二级分布器b圆柱形的底部外围均匀分布有数个支撑，二级分布器b上端不封顶、中部中空、底面端面处向上被数个气体通道d和数个液体通道e贯穿，极大地增加了成本和组件安装拆卸的复杂度；使用时，如图9所示，液体物料从上方的进料管f中下降至一级分布器a中，从一级分布器a中的集液槽c通过液体通道e溢流到二级分布器b中，再经由二级分布器b底端的数个液体通道e继续下降，气体从分布器的下方通过气体通道d上升，传统分布器气体通道和液体通道分离，存在组成部件多、结构复杂，密封泄露点面多、易损坏、容渣量小，且清洁频率频繁、清洁难度大的问题。

技术实现思路

1、1.要解决的技术问题

2、针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种反应釜用的简约型分布器，它通过集液槽和溢流口的位置关系配合设计，实现即便液体中的杂物渣大量储存于集液槽中，也不影响本产品的各项性能的目的。

3、技术方案

4、为解决上述问题，本实用新型采取如下的技术方案。

5、一种反应釜用的简约型分布器，包括密封底板、分布管和集液槽。

6、所述密封底板位于分布器的下端，所述密封底板为圆柱形，所述密封底板上设有若干个圆柱形的分布管，所述分布管内部中空、上端封顶且下端不封底，所述分布管与密封底板可自锁地滑动连接，使得若干个所述分布管贯穿密封底板并向上延伸，具体延伸长度可根据加工过程中的实际反应情况进行调整；所述分布管下端同样延伸出密封底板底部用于加强密封性和稳定性；

7、所述分布管顶端外壁处均开有至少一个溢流孔，溢流孔的下沿均位于同一高度上；所述分布管内部中空处为气液通道，气液通道使得气体和液体在此处充分并均匀的接触，所述溢流孔连通气液通道；

8、位于溢流孔与密封底板之间的分布管外侧空间为集液槽，液体在所述集液槽中堆积至最低液面没过溢流孔的最下端时，超出部分的液体经由溢流孔进入气液通道内。

9、进一步的，所述密封底板的外径大于反应釜的内径，以安装在反应釜的法兰之间，且密封底板的上下面均与对应的法兰面密封抵接。

10、进一步的，所述分布管与密封底板之间保持密封配合。

11、进一步的，相邻所述分布管之间的间距均相同，以使气液接触均匀。

12、进一步的，所述密封底板上表面为平面，以均匀积累酸渣。

13、进一步的，若干个所述分布管在横向的水平方向上，分布管数量呈“少-多-少”并中心对称的趋势分布，且由上至横向中轴的数量分别为7根、9根、11根、11根、13根和13根，此种分布方式既保证了分布器放置平稳、重力分布均衡，同时也有利于分布器整体的安装和拆卸。

14、进一步的，若干个所述分布管于密封底板上的面积密度占比分布为23.1％-28.9％，优选26.6％，过密易导致集液槽堵塞、液体向下的流量过大，过疏易导致液体向下的流量过小，从而影响于气体与液体接触并进行反应的效果。

15、有益效果

16、相比于现有技术，本实用新型的优点在于：

17、（1）本实用新型的组成部件少、结构简单，从而减轻了工艺要求，进一步降低了成本和安装拆卸难度。

18、（2）本实用新型的材质采用钢衬ptfe，相比传统分布器，本产品更耐高温、耐真空、耐高压、抗渗透，适用的场合更为丰富。

19、（3）本实用新型仅需一个密封底板即可完成密封操作，减少密封面的同时不影响其密封性能，进而使得本实用新型易于拆洗清洁。

20、（4）本实用新型通过集液槽的位置和溢流口的位置关系配合设计，可实现即便液体中的杂物渣大量储存于集液槽中，也不影响本产品的各项性能。

技术特征：

1.一种反应釜用的简约型分布器，其特征在于：包括密封底板（1）、分布管（2）和集液槽（5）；所述密封底板（1）位于分布器的下端；若干个分布管（2）贯穿密封底板（1）并向上延伸；所述分布管（2）内部中空；所述分布管（2）的顶端外壁处均开有至少一个溢流孔（3）；溢流孔（3）的下沿均位于同一高度上；所述分布管（2）内部中空处为气液通道（4）；所述溢流孔（3）连通气液通道（4）；位于溢流孔（3）与密封底板（1）之间的分布管（2）外侧空间为集液槽（5）。

2.根据权利要求1所述的一种反应釜用的简约型分布器，其特征在于：密封底板（1）的外径大于反应釜的内径，以安装在反应釜的法兰之间，且密封底板（1）的上下面均与对应的法兰面密封抵接。

3.根据权利要求1所述的一种反应釜用的简约型分布器，其特征在于：所述分布管（2）呈上端封顶、下端不封底的圆柱形；分布管（2）与密封底板（1）可自锁地滑动连接，以使所述分布管（2）向上延伸出密封底板（1）的长度可调节。

4.根据权利要求3所述的一种反应釜用的简约型分布器，其特征在于：分布管（2）与密封底板（1）之间保持密封配合。

5.根据权利要求1所述的一种反应釜用的简约型分布器，其特征在于：相邻分布管（2）之间的间距均相同，以使气液接触均匀。

6.根据权利要求1所述的一种反应釜用的简约型分布器，其特征在于：所述简约型分布器的材质采用钢衬ptfe。

7.根据权利要求1所述的一种反应釜用的简约型分布器，其特征在于：所述分布管（2）下端延伸出密封底板（1）底端。

8.根据权利要求1所述的一种反应釜用的简约型分布器，其特征在于：密封底板（1）上表面为平面，以均匀积累酸渣。

技术总结
本技术涉及化工设备领域，更具体地说，涉及一种反应釜用的简约型分布器，包括密封底板、分布管和集液槽。分布管的顶端设有溢流孔，分布管的内部设有气液通道，密封底板和分布管之间的区域形成由于积液的集液槽，液体在集液槽中堆积至最高液面超过溢流孔最低处时，液体经由溢流孔进入气液通道内和气体进行充分均匀完善的接触。同时由于集液槽和溢流口的位置关系配合，规避了液体中的杂物渣堆积时影响分布器性能的情况，同时该项设计能够实现大量集渣，减少了清洁处理杂物渣的频率。

技术研发人员：邵向东,王鑫鑫,吉兰平,徐齐,田春
受保护的技术使用者：衢州科峰新材料有限公司
技术研发日：20230526
技术公布日：2024/1/15