一种稳定滴加的硅烷涂敷装置的制作方法

本技术涉及电解铜箔生产设备领域，尤其涉及一种硅烷涂敷装置。

背景技术：

1、电解铜箔主要生产工艺为溶铜---生箔---后处理---分切--包装---入库，后处理工艺一般包括粗化、固化、耐热（灰化、黑化）、防氧化、硅烷涂敷等工序。硅烷偶联剂可以用于处理铜箔表面，以提升其物理性能和耐腐蚀性能。硅烷偶联剂可以形成一层保护性的硅氧化物覆盖层，有效防止铜与环境中的氧气、水分和其他化学物质接触，从而减少铜表面的腐蚀和氧化。在硅烷涂敷环节对铜箔m面（粗糙面）进行处理，可提升铜箔的抗剥离强度和抗氧化性能，提升效果取决于硅烷液的浓度以及涂敷在铜箔表面的均匀性。当后处理槽中硅烷液的浓度随着使用消耗降低时，会影响铜箔的抗氧化性能和抗剥离强度;当硅烷液浓度过高时，形成不均匀的覆盖层：过高浓度的硅烷偶联剂在涂覆过程中可能不易均匀分布在铜箔表面，导致形成不均匀的覆盖层。这可能会使表面的保护效果不一致，某些区域的防护性能较差，容易受到腐蚀和氧化。出现堆积和结块：高浓度的硅烷偶联剂可能会在铜箔表面出现堆积和结块的现象。这些堆积和结块可能导致表面粗糙度的增加，并且可能在一些区域形成较厚的覆盖层，从而影响铜箔的平整度和表面质量。与此同时，硅烷的喷涂方式也直接影响着涂敷效果，当喷涂不均匀时，也会产生上述情况。因此，在实际后处理环节中，需要维持槽内硅烷液浓度的相对稳定，并保证喷涂流量和方式的合理，使得硅烷液均匀涂敷在铜箔毛面上。

2、中国实用新型专利公开号cn203540800u介绍了一种偶联剂的喷涂装置，其用于对电子铜箔的毛面喷涂偶联剂。该偶联剂的喷涂装置包括储存偶联剂的供液罐、供液泵、过滤器、换热器、阀门、硅烷喷淋管和回液罐。供液罐上设有溢流口，供液罐、供液泵、过滤器、换热器、阀门、硅烷喷淋管和回液罐依次首尾相接。本实用新型涉增强了喷涂效果、解决了流量的控制问题，并让喷涂后多余的偶联剂能循环利用，大大节约成本。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的问题是现有的铜箔在浸泡涂敷硅烷偶联剂没有涉及到关于浓度控制以及确保喷涂均匀性，为此提供一种稳定滴加的硅烷涂敷装置

2、本实用新型的技术方案是：一种稳定滴加的硅烷涂敷装置，包括：滴加罐，所述滴加罐用于存储硅烷液；供液罐，所述供液罐的顶部与滴加罐的底部通过调节阀和流量计连通；换热器，所述换热器的入口通过离心泵与供液罐连通；过滤器，所述过滤器的入口与换热器的出口连通；槽体，所述槽体底部与过滤器的出口连通；喷淋管，所述喷淋管水平分布在槽体内；v型开口，所述v型开口沿喷淋管的长度方向间隔分布；导管，所述导管连通在喷淋管与过滤器的出口之间；喷淋阀，所述喷淋阀设在导管上。

3、上述方案的改进是所述喷淋管内设有与喷淋管同心的内管体，所述内管体的一端设有伸出喷淋管外的凸台，所述内管体沿轴向开设有开口，所述内管体与喷淋管滑动配合。

4、上述方案的进一步改进是所述槽体的侧壁通过溢流管道与供液罐的顶部连通。

5、上述方案中所述喷淋管有两个，关于槽体的中轴线对称分布。

6、上述方案的更进一步改进是所述过滤器的出口与槽体的底部之间接入有供液阀。

7、上述方案中所述v型开口的夹角为60°。

8、本实用新型的有益效果是v型开口的设计使得喷出的硅烷液呈现扇形区域，保证了喷涂均匀型，滴加罐包括流量计、调节阀、罐体，可向槽内稳定补加硅烷液，维持浓度稳定。保证了硅烷涂敷工艺的稳定性，大大提高了电解铜箔生产的后处理环节的制程能力；通过转动凸台可以调节内管体的开口与v型开口的重合程度，进而控制v型开口的垂直方向的开口程度，控制硅烷液喷淋覆盖面积。

技术特征：

1.一种稳定滴加的硅烷涂敷装置，其特征是：包括：滴加罐，所述滴加罐用于存储硅烷液；供液罐，所述供液罐的顶部与滴加罐的底部通过调节阀和流量计连通；换热器，所述换热器的入口通过离心泵与供液罐连通；过滤器，所述过滤器的入口与换热器的出口连通；槽体，所述槽体底部与过滤器的出口连通；喷淋管，所述喷淋管水平分布在槽体内；v型开口，所述v型开口沿喷淋管的长度方向间隔分布；导管，所述导管连通在喷淋管与过滤器的出口之间；喷淋阀，所述喷淋阀设在导管上。

2.如权利要求1所述的一种稳定滴加的硅烷涂敷装置，其特征是：所述喷淋管内设有与喷淋管同心的内管体，所述内管体的一端设有伸出喷淋管外的凸台，所述内管体沿轴向开设有开口，所述内管体与喷淋管滑动配合。

3.如权利要求1所述的一种稳定滴加的硅烷涂敷装置，其特征是：所述槽体的侧壁通过溢流管道与供液罐的顶部连通。

4.如权利要求1所述的一种稳定滴加的硅烷涂敷装置，其特征是：所述喷淋管有两个，关于槽体的中轴线对称分布。

5.如权利要求1所述的一种稳定滴加的硅烷涂敷装置，其特征是：所述过滤器的出口与槽体的底部之间接入有供液阀。

6.如权利要求1所述的一种稳定滴加的硅烷涂敷装置，其特征是：所述v型开口的夹角为60°。

技术总结
本技术公开了一种稳定滴加的硅烷涂敷装置，包括：滴加罐，所述滴加罐用于存储硅烷液；供液罐，所述供液罐的顶部与滴加罐的底部通过调节阀和流量计连通；换热器，所述换热器的入口通过离心泵与供液罐连通；过滤器，所述过滤器的入口与换热器的出口连通；槽体，所述槽体底部与过滤器的出口连通；喷淋管，所述喷淋管水平分布在槽体内；V型开口，所述V型开口沿喷淋管的长度方向间隔分布；导管，所述导管连通在喷淋管与过滤器的出口之间；喷淋阀，所述喷淋阀设在导管上。本技术的有益效果是V型开口的设计使得喷出的硅烷液呈现扇形区域，保证了喷涂均匀型，滴加罐包括流量计、调节阀、罐体，可向槽内稳定补加硅烷液，维持浓度稳定。

技术研发人员：黄全乾,曹盛强,李杰,耿城杰,李纯枝,黄林
受保护的技术使用者：广西华创新材铜箔有限公司
技术研发日：20230704
技术公布日：2024/1/15