一种原料研磨设备的制作方法

本技术涉及研磨，尤其涉及一种原料研磨设备。

背景技术：

1、研磨是利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。

2、现有技术中，如中国专利cn216296606u公开了一种化工原料研磨设备，包括：机箱；固定板，固定板设置于机箱的内部研磨斗，研磨斗设置于固定板的顶部；电机，电机设置于机箱的顶部；研磨装置，研磨装置设置于电机输出轴的一端，且位于研磨斗的内部；盛装盒，盛装盒设置于机箱内部的底部。

3、但现有技术中，在研磨原料的时候，如果部分原料体积过大或者是硬度较高，在研磨一开始磨具与原料之间发生摩擦的时候，容易出现原料蹦出的情况，飞溅的原料会落到装置的外部，导致实际的研磨量与预期的研磨量产生一定的差异。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的原料体积过大或者是硬度较高，容易出现原料蹦出的情况的问题，而提出的一种原料研磨设备。

2、为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种原料研磨设备，包括研磨设备主体，所述研磨设备主体的底部活动连接有支撑框架，所述支撑框架与研磨设备主体的交接处活动安装有覆盖装置；

3、所述覆盖装置包括半开口支撑台、活动滑台和封闭面板，所述活动滑台滑动连接在半开口支撑台的上表面，所述活动滑台的两侧均固定安装有支撑侧板，两个所述支撑侧板的内部均滑动连接有传动杆，所述封闭面板固定安装在传动杆的一端，所述封闭面板位于研磨设备主体的开口处。

4、优选的，所述支撑侧板的两端均固定安装有引导杆，所述活动滑台与引导杆之间滑动连接。

5、优选的，所述半开口支撑台与活动滑台的交接处开设有限位滑槽，所述活动滑台与支撑侧板连接处的形状与限位滑槽的形状相适配。

6、优选的，所述支撑框架与研磨设备主体的交接处开设有定位孔，所述定位孔位于半开口支撑台的开口处。

7、优选的，所述活动滑台的中心处开设有通孔，所述研磨设备主体通过设置的通孔贯穿活动滑台。

8、优选的，所述封闭面板的一端固定安装有磁吸块，所述封闭面板的另一端开设有容纳凹槽。

9、优选的，两个所述封闭面板通过设置的磁吸块和容纳凹槽拼接在一起。

10、与现有技术相比，本实用新型的优点和积极效果在于：

11、1、本实用新型中，通过在研磨设备主体的外壁加装支撑框架，同时将覆盖装置安装到支撑框架的顶部，使用时可以将封闭面板移动到研磨设备主体的开口处，完成对开口处的封闭处理，在保证研磨可以正常进行的同时，防止原料飞溅到外部环境中，让原料始终集中在研磨设备主体的内部，以保证最终研磨出的总量与预期的总量相符合。

12、2、本实用新型中，通过引导杆和传动杆同时限制封闭面板的移动路线，提升封闭面板移动时的稳定性，并且活动滑台也可以随时从半开口支撑台上取下，以避免影响到研磨设备主体的正常使用。

技术特征：

1.一种原料研磨设备，包括研磨设备主体(1)，其特征在于：所述研磨设备主体(1)的底部活动连接有支撑框架(2)，所述支撑框架(2)与研磨设备主体(1)的交接处活动安装有覆盖装置(3)；

2.根据权利要求1所述的一种原料研磨设备，其特征在于：所述支撑侧板(34)的两端均固定安装有引导杆(35)，所述活动滑台(32)与引导杆(35)之间滑动连接。

3.根据权利要求1所述的一种原料研磨设备，其特征在于：所述半开口支撑台(31)与活动滑台(32)的交接处开设有限位滑槽(33)，所述活动滑台(32)与支撑侧板(34)连接处的形状与限位滑槽(33)的形状相适配。

4.根据权利要求1所述的一种原料研磨设备，其特征在于：所述支撑框架(2)与研磨设备主体(1)的交接处开设有定位孔(4)，所述定位孔(4)位于半开口支撑台(31)的开口处。

5.根据权利要求1所述的一种原料研磨设备，其特征在于：所述活动滑台(32)的中心处开设有通孔(38)，所述研磨设备主体(1)通过设置的通孔(38)贯穿活动滑台(32)。

6.根据权利要求1所述的一种原料研磨设备，其特征在于：所述封闭面板(37)的一端固定安装有磁吸块(39)，所述封闭面板(37)的另一端开设有容纳凹槽(310)。

7.根据权利要求1所述的一种原料研磨设备，其特征在于：两个所述封闭面板(37)通过设置的磁吸块(39)和容纳凹槽(310)拼接在一起。

技术总结
本技术公开了一种原料研磨设备，涉及研磨技术领域，包括研磨设备主体，所述研磨设备主体的底部活动连接有支撑框架，所述支撑框架与研磨设备主体的交接处活动安装有覆盖装置，所述覆盖装置包括半开口支撑台、活动滑台和封闭面板，所述活动滑台滑动连接在半开口支撑台的上表面，所述活动滑台的两侧均固定安装有支撑侧板，本技术在研磨设备主体的外壁加装支撑框架，同时将覆盖装置装到支撑框架的顶部，使用时可以将封闭面板移动到研磨设备主体的开口处，完成对开口处的封闭处理，在保证研磨可以正常进行的同时，防止原料飞溅到外部环境中，让原料始终集中在研磨设备主体的内部，以保证最终研磨出的总量与预期的总量相符合。

技术研发人员：李光明,李斌
受保护的技术使用者：常熟国和新材料有限公司
技术研发日：20230816
技术公布日：2024/3/17