一种光学胶用过滤装置的制作方法

文档序号:37563686发布日期:2024-04-18 11:29阅读:9来源:国知局
一种光学胶用过滤装置的制作方法

本技术涉及化工加工,具体是一种光学胶用过滤装置。


背景技术:

1、光学胶是一种用于胶结透明光学元件的特种胶粘剂,具有无色透明、高透光率、高粘着力、低收缩率等特点,光学胶的种类有很多,如天然树脂光学胶、合成树脂光学胶、液态光学胶等,光学胶主要用于触摸屏、显示器、镜头、滤光器等光学元件的贴合和封装。

2、光学胶在生产加工的过程中,会存在不溶于光学胶的固体微粒,固体微粒可以来自原材料本身或者外部尘埃被带入其中,固体微粒会影响光学胶的纯度和稳定性。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种光学胶用过滤装置,旨在解决上述背景技术中所提到的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:所述光学胶用过滤装置,包括过滤罐以及压力泵,所述过滤罐具有进液端口和出液端口,所述压力泵具有泵入端口和泵出端口,所述压力泵的泵出端口与过滤罐的进液端口通过输送管连接,所述过滤罐的内部设置有两个阶梯槽,两个阶梯槽上均放置有过滤网,进液端口的水平高度高于上方过滤网的水平高度,出液端口的水平高度低于下方过滤网的水平高度且位于过滤罐的最底部,位于上方过滤网的目数小于位于下方过滤网的目数,还包括用于支撑过滤罐并将出液端口远离地面的支撑台。

3、优选的,所述过滤罐的上端开口,所述过滤罐的上端开口处设置有密封盖,过滤罐与密封盖之间通过螺栓连接。

4、优选的,所述密封盖与过滤罐之间设置有密封垫。

5、优选的,所述过滤罐的包括上罐体和下罐体,阶梯槽与过滤网均位于上罐体的内部,上罐体与下罐体的横截面均为圆形且上罐体的外径大于下罐体的外径,所述支撑台包括环形圈以及支撑脚,所述环形圈套设在下罐体的外表面并与上罐体的下端抵接。

6、优选的,所述下罐体的下端内表面为圆弧形,出液端口的一端与下罐体圆弧形的最低处贯通连接。

7、本实用新型的有益效果是:

8、1、该种光学胶用过滤装置,通过设置的过滤网能够实现对光学胶的过滤,便于去除光学胶内部的不溶于光学胶的固体微粒,提高光学胶的纯度以及使用稳定性。

9、2、通过设置的两层目数不同的过滤网,还能够减轻单一过滤网的过滤压力,使得两个过滤网的通过性均有所加强,减少过滤网的更换频率,有利于提高工作效率。



技术特征:

1.一种光学胶用过滤装置,其特征是,包括过滤罐(1)以及压力泵(2),所述过滤罐(1)具有进液端口(3)和出液端口(4),所述压力泵(2)具有泵入端口(5)和泵出端口(6),所述压力泵(2)的泵出端口(6)与过滤罐(1)的进液端口(3)通过输送管(7)连接,所述过滤罐(1)的内部设置有两个阶梯槽,两个阶梯槽上均放置有过滤网(8),进液端口(3)的水平高度高于上方过滤网(8)的水平高度,出液端口(4)的水平高度低于下方过滤网(8)的水平高度且位于过滤罐(1)的最底部,位于上方过滤网(8)的目数小于位于下方过滤网(8)的目数,还包括用于支撑过滤罐(1)并将出液端口(4)远离地面的支撑台(9)。

2.根据权利要求1所述的光学胶用过滤装置,其特征是,所述过滤罐(1)的上端开口,所述过滤罐(1)的上端开口处设置有密封盖(10),过滤罐(1)与密封盖(10)之间通过螺栓连接。

3.根据权利要求2所述的光学胶用过滤装置,其特征是,所述密封盖(10)与过滤罐(1)之间设置有密封垫(11)。

4.根据权利要求1所述的光学胶用过滤装置,其特征是,所述过滤罐(1)的包括上罐体(101)和下罐体(102),阶梯槽与过滤网(8)均位于上罐体(101)的内部,上罐体(101)与下罐体(102)的横截面均为圆形且上罐体(101)的外径大于下罐体(102)的外径,所述支撑台(9)包括环形圈(901)以及支撑脚(902),所述环形圈(901)套设在下罐体(102)的外表面并与上罐体(101)的下端抵接。

5.根据权利要求4所述的光学胶用过滤装置,其特征是,所述下罐体(102)的下端内表面为圆弧形,出液端口(4)的一端与下罐体(102)圆弧形的最低处贯通连接。


技术总结
本技术提供一种光学胶用过滤装置,涉及化工加工技术领域,该光学胶用过滤装置包括过滤罐、压力泵、进液端口、出液端口、泵入端口、泵出端口、输送管、阶梯槽、过滤网,出液端口的水平高度低于下方过滤网的水平高度,位于上方过滤网的目数小于位于下方过滤网的目数,还包括用于支撑过滤罐并将出液端口远离地面的支撑台,该种光学胶用过滤装置,通过设置的过滤网能够实现对光学胶的过滤,便于去除光学胶内部的不溶于光学胶的固体微粒,提高光学胶的纯度以及使用稳定性,同时,通过设置的两层目数不同的过滤网,还能够减轻单一过滤网的过滤压力,使得两个过滤网的通过性均有所加强,减少过滤网的更换频率,有利于提高工作效率。

技术研发人员:余鹏,李伟博
受保护的技术使用者:嘉兴市海睿新材料有限公司
技术研发日:20230829
技术公布日:2024/4/17
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