一种聚合物脱挥设备的制作方法

本技术涉及聚合物脱挥，具体为一种聚合物脱挥设备。

背景技术：

1、聚合物脱挥，即脱除聚合物中的小分子物质，聚合物脱挥是高分子材料加工生产过程中的重要工序。聚合物中挥发分含量高会影响聚合物加工、产品质量及生态环境。

2、目前工业上一般采用闪蒸器或蒸发釜进行聚合物脱挥设备，其原理一般是将需要脱挥的聚合物在热媒的作用下进行加热，使得饱和或过饱和的聚合物加热条件下送入闪蒸罐中，促使挥发分气化，将挥发分闪蒸出来，但是聚合物在闪蒸罐中下落太快会导致裸露面积有限，从而反应时间较长，进而会导致脱挥效率较低。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足，本实用新型目的是提供一种聚合物脱挥设备。

2、为了实现上述目的，本实用新型是技术方案如下：

3、一种聚合物脱挥设备，包括罐体和缓冲件，所述缓冲件设置在罐体内部，罐体输入聚合物至缓冲件一侧面上，缓冲件内部设有输送通道，且输送通道小于缓冲件截面面积一半，缓冲件水平向面积覆盖罐体内部截面，且输送通道导向聚合物从缓冲件一侧移动至缓冲件另一侧。

4、优选的，所述缓冲件设置为筛网，且筛网的孔径大于聚合物的粒径。

5、优选的，所述缓冲件设置为螺旋片，且螺旋片的高度小于罐体内部的高度。

6、优选的，所述缓冲件设置为双向漏斗，且双向漏斗的通孔设置为长条状的通孔。

7、优选的，还包括支撑架、驱动电机和套环，所述套环与罐体固定连接，套环一端与支撑架转动连接，套环另一端贯穿支撑架且与固定在支撑架上的驱动电机输出端相连。

8、与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：

9、1、本实用新型通过缓冲件延长聚合物沉底所需的时间，从而使聚合物整体的暴露面积增大，进而减少反应时间，提高反应效率；

10、2、本实用新型通过罐体翻转实现聚合物来回多次经过缓冲件的缓冲，从而使聚合物暴露面积大的同时增加暴露时长，进而进一步减少反应时间，提高反应效率。

技术特征：

1.一种聚合物脱挥设备，其特征在于：包括罐体(3)和缓冲件，所述缓冲件设置在所述罐体(3)内部，所述罐体(3)输入聚合物至所述缓冲件一侧面上；

2.根据权利要求1所述的一种聚合物脱挥设备，其特征在于：所述缓冲件设置为筛网(35)，且所述筛网(35)的孔径大于聚合物的粒径。

3.根据权利要求1所述的一种聚合物脱挥设备，其特征在于：所述缓冲件设置为螺旋片(34)，且所述螺旋片(34)的高度小于所述罐体(3)内部的高度。

4.根据权利要求1所述的一种聚合物脱挥设备，其特征在于：所述缓冲件设置为双向漏斗(36)，且所述双向漏斗(36)的通孔设置为长条状的通孔。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的一种聚合物脱挥设备，其特征在于：还包括支撑架(1)、驱动电机(2)和套环(4)，所述套环(4)与所述罐体(3)固定连接，所述套环(4)一端与所述支撑架(1)转动连接，所述套环(4)另一端贯穿所述支撑架(1)且与固定在所述支撑架(1)上的所述驱动电机(2)输出端相连。

技术总结
本技术是通过如下的技术方案来实现：一种聚合物脱挥设备，包括罐体和缓冲件，所述缓冲件设置在罐体内部，罐体输入聚合物至缓冲件一侧面上，缓冲件内部设有输送通道，且输送通道小于缓冲件截面面积一半，缓冲件水平向面积覆盖罐体内部截面，且输送通道导向聚合物从缓冲件一侧移动至缓冲件另一侧，还包括支撑架、驱动电机和套环，所述套环与罐体固定连接，套环一端与支撑架转动连接，套环另一端贯穿支撑架且与固定在支撑架上的驱动电机输出端相连。本技术优点在于，本技术通过缓冲件延长聚合物沉底所需的时间，从而使聚合物整体的暴露面积增大，进而减少反应时间，提高反应效率。

技术研发人员：李东生
受保护的技术使用者：南京创博机械设备有限公司
技术研发日：20230918
技术公布日：2024/5/6