本技术属于玻片支撑装置,具体涉及一种玻片支架。
背景技术:
1、免疫组织化学利用抗体和抗原之间的结合具有高度的特异性,选用目标抗体进行免疫组化实验,使抗体锚定在抗原所在位置。由于抗原与抗体的复合物是无色的,因此还必须借助于组织化学的方法将抗原抗体结合的部位显示出来,以期达到对组织或细胞中的抗原进行定性,定位或定量的研究。
2、免疫荧光实验原理:免疫荧光技术是根据抗原抗体反应的原理,先将已知的抗原或抗体标记上荧光素,制成荧光抗体,再用这种荧光抗体或抗原作为探针检测组织或细胞内的相应抗原或抗体。在组织或细胞内形成的抗原抗体复合物上载有标记的荧光素,利用荧光显微镜观察标本,荧光素受外来激发光的照射而发生明亮的荧光,可以看见荧光所在的组织细胞,从而确定抗原或抗体的性质、定位,以及利用定量技术测定含量。
3、免疫组化实验和免疫荧光实验时,需要用一个支架将组织切片固定,以便进行清洗和液体孵育组织切片的步骤,免疫组化和免疫荧光实验常用的支架是玻片支架,常用的玻片支架是垂直组织切片架,用于垂直放置组织切片,玻片支架是一体的,相邻组织切片的卡槽间距很小,因此组织切片与组织切片间距小,在组织切片反复的拿取过程中,容易造成组织的损伤;且在垂直的组织切片清洗完成之后,需要将组织切片取出,放置为水平的模式进行孵育,使得组织切片的清洗和孵育需要分开进行,耗费时间,实验效率低。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题,即垂直组织切片与组织切片间距过窄,容易造成组织的损伤。本实用新型提供如下技术方案:
2、一种玻片支架,包括底板、承托板和支撑肋板,所述支撑肋板底端固定于底板上,支撑肋板顶端固定于承托板下方,所述承托板包括载板、侧板和顶板,载板设置于支撑肋板上,侧板设置于载板两端,顶板设置于侧板上,载板、侧板和顶板构成一个容纳槽,容纳槽用于固定玻片,一个玻片支架的底板能固定于另一个玻片支架的顶板上。
3、进一步地,所述底板上表面沿水平方向设置,支撑肋板垂直于底板,载板下表面水平设置于支撑肋板上方,顶板上表面与载板上表面平行。
4、进一步地,所述容纳槽的高度与玻片厚度相适应,容纳槽的长度与玻片宽度相适应。
5、进一步地,所述顶板中部为缺口结构。
6、进一步地,所述缺口结构的长度小于玻片的宽度,大于玻片上组织切片的最大直径。
7、进一步地,所述承托板为一体成型,承托板左端为c型,承托板右端与左端对称。
8、进一步地,所述顶板上表面设置定位槽,所述底板下表面与定位槽对应位置设置定位柱,一个玻片支架的定位槽能够与另一个玻片支架的定位柱嵌合。
9、进一步地,所述顶板上表面设置定位柱,所述底板下表面与定位柱对应位置设置定位槽,一个玻片支架的定位槽能够与另一个玻片支架的定位柱嵌合。
10、进一步地,所述玻片支架适用温度为20摄氏度至122摄氏度。
11、与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
12、本实用新型的玻片支架包括底板、承托板和支撑肋板,所述支撑肋板底端设固定于底板上,支撑肋板顶端固定于承托板下方,即玻片支架为工字型结构,所述承托板包括载板、侧板和顶板,载板设置于支撑肋板上,侧板设置于载板两端,顶板设置于侧板上,载板、侧板和顶板构成一个容纳槽,容纳槽中固定玻片,且一个玻片支架的底板能固定于与另一个玻片支架的顶板上,因此本实用新型的连续的玻片支架是由单个能够放置玻片的玻片支架构成,组织切片之间的间距为一个玻片支架的高度,间距大,取放组织切片时,不容易刮伤其他组织切片;此外载板为水平方向设置,玻片也为水平放置,因此组织切片的清洗和孵育,能够在原位连续进行,不需要移动组织切片,减少组织损伤。
1.一种玻片支架,其特征在于:包括底板、承托板和支撑肋板,所述支撑肋板底端固定于底板上,支撑肋板顶端固定于承托板下方,所述承托板包括载板、侧板和顶板,载板固定于支撑肋板上,侧板设置于载板两端,顶板设置于侧板上,载板、侧板和顶板构成一个容纳槽,容纳槽用于固定玻片,一个玻片支架的底板能固定于另一个玻片支架的顶板上。
2.根据权利要求1所述的玻片支架,其特征在于:所述底板上表面沿水平方向设置,支撑肋板垂直于底板,载板下表面水平设置于支撑肋板上方,顶板上表面与载板上表面平行。
3.根据权利要求1所述的玻片支架,其特征在于:所述容纳槽的高度与玻片厚度相适应,容纳槽的长度与玻片宽度相适应。
4.根据权利要求1所述的玻片支架,其特征在于:所述顶板中部为缺口结构。
5.根据权利要求4所述的玻片支架,其特征在于:所述缺口结构的长度小于玻片的宽度,大于玻片上组织切片的最大直径。
6.根据权利要求1-5任一项所述的玻片支架,其特征在于:所述承托板为一体成型,承托板左端为c型,承托板右端与左端对称。
7.根据权利要求6所述的玻片支架,其特征在于:所述顶板上表面设置定位槽,所述底板下表面与定位槽对应位置设置定位柱,一个玻片支架的定位槽能够与另一个玻片支架的定位柱嵌合。
8.根据权利要求6所述的玻片支架,其特征在于:所述顶板上表面设置定位柱,所述底板下表面与定位柱对应位置设置定位槽,一个玻片支架的定位槽能够与另一个玻片支架的定位柱嵌合。
9.根据权利要求7所述的玻片支架,其特征在于:所述玻片支架适用温度为20摄氏度至122摄氏度。