本技术涉及光刻胶生产设备,具体是指一种光阻剂烘干装置。
背景技术:
1、光阻剂是一个用在许多工业制程上的光敏材料,光阻有两种,正向光阻和负向光阻,很多半导体生产过程中需要在其表面均匀的喷涂光阻液,将光阻液烘干后形成电阻层;现有的光阻烘箱,大多是采用热光对产品表面进行烘烤,但产品的正面和背面经常由于烘烤时受热时间的差异和次序的不同导致表面电阻层有缺陷,不能满足使用需求。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题,本实用新型提供的技术方案为:一种光阻剂烘干装置,包括烘干箱以及传送带,所述传送带上部贯穿烘干箱,底部位于烘干箱底部,所述传送带上间隔设置有数个零件放置槽;所述烘干箱两侧分别设置有供传送带进出的通口,所述烘干箱内部位于传送带上部、下部的部位上分别设置有可移动烘干灯组件,所述烘干箱顶部、底部上分别设置有向传送带表面设置的吹风装置,所述烘干箱两侧的通口处还分别设置有升降保温门;所述可移动烘干灯组件包括分别设置于传送带上下两侧的移动烘干灯板,所述移动烘干灯板一顶角之间贯穿设置有双向传动螺杆,另外三顶角之间贯穿设置有导向杆,所述双向传动螺杆两端转动连接于烘干箱上,且其一端连接驱动电机,所述导向杆两端固定于烘干箱上
2、本实用新型与现有技术相比的优点在于:本实用新型通过分别设置传送带上部、下部的可移动烘干灯组件、吹风装置可以对零件上下表面进行烘干,同时烘干灯组件的高度可以上下调节,使其能够更好的进行烘干,且烘干箱两侧设置升降保温门,使对零件进行烘干时,可以对烘干箱进行一定程度的封闭,进一步增加烘干效果。
1.一种光阻剂烘干装置,其特征在于,包括烘干箱以及传送带,所述传送带上部贯穿烘干箱,底部位于烘干箱底部,所述传送带上间隔设置有数个零件放置槽;所述烘干箱两侧分别设置有供传送带进出的通口,所述烘干箱内部位于传送带上部、下部的部位上分别设置有可移动烘干灯组件,所述烘干箱顶部、底部上分别设置有向传送带表面设置的吹风装置,所述烘干箱两侧的通口处还分别设置有升降保温门。
2.根据权利要求1所述的一种光阻剂烘干装置,其特征在于,所述可移动烘干灯组件包括分别设置于传送带上下两侧的移动烘干灯板,所述移动烘干灯板一顶角之间贯穿设置有双向传动螺杆,另外三顶角之间贯穿设置有导向杆,所述双向传动螺杆两端转动连接于烘干箱上,且其一端连接驱动电机,所述导向杆两端固定于烘干箱上。
3.根据权利要求2所述的一种光阻剂烘干装置,其特征在于,所述移动烘干灯板底部间隔设置有数个烘干灯条,所述烘干灯条之间的移动烘干灯板上贯穿设置有导风通道。
4.根据权利要求1所述的一种光阻剂烘干装置,其特征在于,所述零件放置槽为倒锥形槽孔,所述零件放置槽内由上至下凸出设置有数层零件卡圈。
5.根据权利要求1所述的一种光阻剂烘干装置,其特征在于,所述零件卡圈为透风网架。
6.根据权利要求1所述的一种光阻剂烘干装置,其特征在于,所述升降保温门包括覆盖通口的保温门体,所述保温门体顶部两侧分别通过升降气缸与烘干箱顶部连接。