本发明涉及催化剂处理,尤其是涉及一种用于催化剂的处理装置。
背景技术:
1、相关技术中,浸渍法是工业制备固体催化剂最常见的制备方法,催化剂浸渍方式主要有过饱和浸渍与等体积浸渍法,浸渍法可以使得金属组分在催化剂上分布均匀,减少活性组分的用量,并提高了活性组分的利用率。但现有的催化剂浸渍装置一般采用间歇式浸渍方法,将催化剂浸渍到浸渍液储槽中,浸渍完成后将催化剂取出,浸渍均匀性差,且不能连续浸渍,影响生产效率,并且需要专门回收剩余的浸渍液,导致浸渍成本较高。
技术实现思路
1、本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种用于催化剂的处理装置,能够达到连续对催化剂进行喷射物质浸渍的效果,从而能够提升生产效率,还能够使得催化剂均匀吸收物质,也无多余物质残留于处理装置,并且处理装置结构简单、易于维护,进而能够降低催化剂的处理成本。
2、根据本发明实施例的用于催化剂的处理装置,包括:外壳,外壳限定出安装空间,安装空间的侧壁形成有进料口和出料口,进料口和出料口均与安装空间连通;喷射机构,喷射机构设于外壳且用于向安装空间内喷射物质;输料机构,输料机构设于安装空间内,输料机构用于将从进料口进入安装空间内的催化剂在安装空间内运送以使喷射机构向催化剂喷射物质,且输料机构还用于使输料机构上的催化剂掉落至安装空间。
3、根据本发明实施例的用于催化剂的处理装置,通过输料机构用于将从进料口进入安装空间内的催化剂在安装空间内运送以使喷射机构向催化剂喷射物质,且输料机构还用于使输料机构上的催化剂掉落至安装空间,能够达到连续对催化剂进行喷射物质浸渍的效果,从而能够提升生产效率,还能够使得催化剂均匀吸收物质,也无多余物质残留于处理装置,并且处理装置结构简单、易于维护,进而能够降低催化剂的处理成本。
4、根据本发明的一些实施例中,喷射机构设于安装空间的顶壁,沿处理装置的高度方向,输料机构和喷射机构对应设置,输料机构用于朝向喷射机构运送催化剂。
5、根据本发明的一些实施例中,输料机构构造为螺旋盘结构,螺旋盘结构可转动地设于外壳。
6、根据本发明的一些实施例中,处理装置还包括:驱动机构,驱动机构与输料机构传动连接,驱动机构用于驱动输料机构转动。
7、根据本发明的一些实施例中,螺旋盘结构的转动速度为v,满足关系式:10rpm/min≤v≤30rpm/min。
8、根据本发明的一些实施例中,安装空间的部分构造为出料缓冲空间,出料缓冲空间沿处理装置的周向围绕输料机构设置,出料缓冲空间与出料口连通,输料机构用于使输料机构上的催化剂掉落至出料缓冲空间。
9、根据本发明的一些实施例中,出料缓冲空间内设有导向壁,导向壁沿处理装置的周向围绕输料机构设置,导向壁的至少部分构造为倾斜壁,倾斜壁的高度最低处与出料口对应设置。
10、根据本发明的一些实施例中,导向壁和安装空间的底壁间隔开以在导向壁和安装空间的底壁之间形成进料通道,进料口位于导向壁的高度最高处下方,从进料口进入安装空间内的催化剂通过进料通道向输料机构运动。
11、根据本发明的一些实施例中,喷射机构包括:多个喷头,多个喷头沿安装空间的周向排布。
12、根据本发明的一些实施例中,进料口和出料口位于输料机构的相对两侧,且进料口的设置高度和出料口的设置高度相同。
13、根据本发明的一些实施例中,进料口和出料口均设有第一开闭阀门。
14、根据本发明的一些实施例中,安装空间的侧壁还形成有检修孔,检修孔与安装空间连通,检修孔设有第二开闭阀门。
15、根据本发明的一些实施例中,处理装置,还包括:支架,外壳设于支架的上表面。
16、本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
1.一种用于催化剂的处理装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,所述喷射机构设于所述安装空间的顶壁,沿所述处理装置的高度方向,所述输料机构和所述喷射机构对应设置,所述输料机构用于朝向所述喷射机构运送催化剂。
3.根据权利要求2所述的处理装置,其特征在于,所述输料机构构造为螺旋盘结构,所述螺旋盘结构可转动地设于所述外壳。
4.根据权利要求3所述的处理装置,其特征在于,还包括:驱动机构,所述驱动机构与所述输料机构传动连接,所述驱动机构用于驱动所述输料机构转动。
5.根据权利要求3所述的处理装置,其特征在于,所述螺旋盘结构的转动速度为v,满足关系式:10rpm/min≤v≤30rpm/min。
6.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,所述安装空间的部分构造为出料缓冲空间,所述出料缓冲空间沿所述处理装置的周向围绕所述输料机构设置,所述出料缓冲空间与所述出料口连通,所述输料机构用于使所述输料机构上的催化剂掉落至所述出料缓冲空间。
7.根据权利要求6所述的处理装置,其特征在于,所述出料缓冲空间内设有导向壁,所述导向壁沿所述处理装置的周向围绕所述输料机构设置,所述导向壁的至少部分构造为倾斜壁,所述倾斜壁的高度最低处与所述出料口对应设置。
8.根据权利要求7所述的处理装置,其特征在于,所述导向壁和所述安装空间的底壁间隔开以在所述导向壁和所述安装空间的底壁之间形成进料通道,所述进料口位于所述导向壁的高度最高处下方,从所述进料口进入所述安装空间内的催化剂通过所述进料通道向所述输料机构运动。
9.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,所述喷射机构包括:多个喷头,多个所述喷头沿所述安装空间的周向排布。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的处理装置,其特征在于,所述进料口和所述出料口位于所述输料机构的相对两侧,且所述进料口的设置高度和所述出料口的设置高度相同。
11.根据权利要求1-9中任一项所述的处理装置,其特征在于,所述进料口和所述出料口均设有第一开闭阀门。
12.根据权利要求1-9中任一项所述的处理装置,其特征在于,所述安装空间的侧壁还形成有检修孔,所述检修孔与所述安装空间连通,所述检修孔设有第二开闭阀门。
13.根据权利要求1-9中任一项所述的处理装置,其特征在于,还包括:支架,所述外壳设于所述支架的上表面。