本发明涉及一种金属溶液过滤装置，属于过滤装置技术领域。
背景技术：
金属制品行业包括结构性金属制品制造、金属工具制造、集装箱及金属包装容器制造、不锈钢及类似日用金属制品制造等。随着社会的进步和科技的发展，金属制品在工业、农业以及人们的生活各个领域的运用越来越广泛，也给社会创造越来越大的价值。金属制品在制作的过程中会产生大量的工业废水，不管排放还是再利用必须进行过滤步骤。现有技术中的金属溶液过滤装置过滤效果不佳，溶液中杂质去除效果差，不符合需求。
因此，应该提供一种新的技术方案解决上述问题。
技术实现要素：
本发明提供一种金属溶液过滤装置。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：
一种金属溶液过滤装置，包括过滤腔室，过滤箱体包括一级过滤箱体、二级过滤箱体、三级过滤箱体和四级过滤箱体，一级过滤箱体、二级过滤箱体、三级过滤箱体和四级过滤箱体之间依次连接，一级过滤箱体内部为爆氧腔室，爆氧腔室顶部设有过滤筛网，过滤筛网顶部设有入料口，爆氧腔室一侧设有入氧口，二级过滤箱体内部为磁棒腔室，磁棒腔室内部设有磁棒，磁棒通过上磁棒转轮和下磁棒转轮运转，上磁棒转轮通过固定架固定，上磁棒转轮通过电机带动运转，三级过滤箱体内部为真空过滤腔室，四级过滤箱体内部为无纺布过滤腔室，无纺布过滤腔室内设有无纺布，无纺布通过上无纺布转轮和下无纺布转轮运转，无纺布过滤腔室一侧设有出料口。
上述技术方案的有关内容解释如下：
上述技术方案中，滤筛网顶部和入料口之间设有铜网。
进一步的技术方案，入氧口连接入氧通道顶部，入氧通道底部设于爆氧腔室底部。
优选的，无纺布过滤腔室的溶液入口位于顶部。
优选的，无纺布过滤腔室一侧设有无纺布收集转轮，无纺布收集转轮设于四级过滤箱体外部一侧。
优选的，无纺布收集转轮外侧设有外壳套。
由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
为分体式结构，便于拆装更换，过滤效果好，使用寿命长，为企业实现节支增效和污染零排放的清洁生产提供了有力的保证。
附图说明
附图1为本发明示意图。
以上附图中：1、一级过滤箱体；2、二级过滤箱体；3、三级过滤箱体；4、四级过滤箱体；5、爆氧腔室；6、过滤筛网；7、入料口；8、铜网；9、入氧口；10、磁棒腔室；11、磁棒；12、上磁棒转轮；13、下磁棒转轮；14、固定架；15、电机；16、真空过滤腔室；17、无纺布过滤腔室；18、无纺布；19、上无纺布转轮；20、下无纺布转轮；21、出料口；22、入氧通道；23、无纺布收集转轮；24、外壳套。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述：
实施例一：
如图1所示，本发明的一种金属溶液过滤装置，包括过滤腔室，过滤箱体包括一级过滤箱体1、二级过滤箱体2、三级过滤箱体3和四级过滤箱体4，一级过滤箱体1、二级过滤箱体2、三级过滤箱体3和四级过滤箱体4之间依次连接，一级过滤箱体1内部为爆氧腔室5，爆氧腔室5顶部设有过滤筛网6，过滤筛网6顶部设有入料口7，过滤筛网6顶部和入料口7之间设有铜网8，爆氧腔室5一侧设有入氧口9，入氧口9连接入氧通道22顶部，入氧通道22底部设于爆氧腔室5底部，二级过滤箱体2内部为磁棒腔室10，磁棒腔室10内部设有磁棒11，磁棒11通过上磁棒转轮12和下磁棒转轮13运转，上磁棒转轮12通过固定架14固定，上磁棒转轮12通过电机15带动运转，三级过滤箱体3内部为真空过滤腔室16，四级过滤箱体4内部为无纺布过滤腔室17，无纺布过滤腔室17内设有无纺布18，无纺布18通过上无纺布转轮19和下无纺布转轮20运转，无纺布过滤腔室17一侧设有出料口21，无纺布过滤腔室17的溶液入口位于顶部，无纺布过滤腔室17一侧设有无纺布收集转轮23，无纺布收集转轮23设于四级过滤箱体4外部一侧，无纺布收集转轮23外侧设有外壳套24，防止使用过得无纺布发生滴落现象。
铜网和过滤筛网滤去初级的物质；爆氧长时间最大化氧量供给，氧气和金属溶液中物质进行反应除杂；磁棒主要是用来过滤各种细小粉末和液体，半液体中的含铁杂质和其他带能带磁性的物质，目前广泛应用于化工、食品、废品回收、炭黑等领域；空过滤法是利用大气压力与所产生的真空之间形成的压差克服滤料层阻力，而进行水的过滤澄清工艺。常用于污泥干化处理；无纺布过滤棉由100％纯纤维以针刺方法形成高度蓬松的、具有立体深度的过滤层。其特点是纤维组织疏松，高空隙率增加了杂质的纳污量，属复式截留模式，可有效地清除固体及软性颗粒，较大的颗粒杂质被截留在纤维表面，而细微颗粒则被捕捉于滤材深层中。
为分体式结构，经铜网、平极过滤、爆氧、磁棒、真空过滤、无纺布，便于拆装更换，过滤效果好，使用寿命长，为企业实现节支增效和污染零排放的清洁生产提供了有力的保证。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。