风驱动清洁装置、离子发生装置和空调系统的制作方法

文档序号:33816431发布日期:2023-04-19 16:54阅读:22来源:国知局
风驱动清洁装置、离子发生装置和空调系统的制作方法

本发明涉及离子发生装置领域,更具体地,本发明涉及用于清洁离子发生装置的碳纤维刷的风驱动清洁装置以及具有其的空调系统。


背景技术:

1、离子发生装置一般包括正极板和负极板,正极板和负极板上设置有碳纤维刷,碳纤维刷在通电时产生带有负电荷的负离子,其能够吸附空气中的粉尘等物质,使其聚集而掉落,由此净化空气。但由于静电作用,粉尘常积聚于碳纤维刷上,这将会影响碳纤维刷的工作,由此降低其效率。

2、离子发生装置可安装在空调系统的风机盘管单元中,此时,如需对其中的碳纤维刷进行清洁将是困难的。


技术实现思路

1、本发明的目的在于解决或缓解现有技术中所存在的问题。

2、一方面,提供了一种用于离子发生器装置的风驱动清洁装置,其包括:

3、可沿枢转轴枢转的叶片;

4、与所述枢转轴传动连接的传动机构;以及

5、与所述传动机构传动连接的清洁件;

6、其中,所述叶片设置在风路中,使得在无风状态下,所述叶片处于自由状态,并且在有风状态下,所述叶片在风力驱动下枢转并且通过所述传动机构带动所述清洁件移动,以刮拭离子发生器装置的极板上的碳纤维刷。

7、可选地,在所述的风驱动清洁装置中,所述传动机构将所述叶片的枢转运动转化成所述清洁件的线性运动。

8、可选地,在所述的风驱动清洁装置中,所述清洁件包括支杆轴和从所述支杆轴向两侧延伸的清洁臂。

9、可选地,在所述的风驱动清洁装置中,所述传动机构驱动所述清洁件的支杆轴所在轴线线性移动,使得所述清洁臂的端部在经过所述碳纤维刷时刮拭所述碳纤维刷。

10、可选地,在所述的风驱动清洁装置中,所述传动机构设置成使得所述清洁件的在轴上的运动距离与所述叶片的枢转角度相对应。

11、可选地,在所述的风驱动清洁装置中,所述传动机构包括与所述枢转轴连接的第一齿轮,与所述第一齿轮啮合的第二齿轮,以及与所述第二齿轮连接丝杆,所述清洁件的一端设置有套设在所述丝杆上的螺母。

12、可选地,在所述的风驱动清洁装置中,所述支杆轴所在轴线与所述叶片的枢转轴平行。

13、另一方面,提供了一种离子发生装置,其包括:

14、极板,所述极板上设置有碳纤维刷;以及

15、根据各个实施例的风驱动清洁装置,所述风驱动清洁装置的叶片在风力驱动下枢转并且通过所述传动机构带动所述清洁件移动,以刮拭所述离子发生器装置的极板上的碳纤维刷。

16、另一方面,提供了一种空调系统,所述空调系统的风机盘管单元中设置有根据各个实施例的离子发生装置。

17、可选地,在所述风机盘管单元的风机启动或停止时,所述清洁件刮拭一次离子发生器装置的极板上的碳纤维刷。

18、根据本发明的实施例的装置可防止在离子发生装置的碳纤维刷上积尘。



技术特征:

1.一种用于离子发生器装置的风驱动清洁装置,其包括:

2.根据权利要求1所述的风驱动清洁装置,其特征在于,所述传动机构将所述叶片的枢转运动转化成所述清洁件的线性运动。

3.根据权利要求1或2所述的风驱动清洁装置,其特征在于,所述清洁件包括支杆轴和从所述支杆轴向两侧延伸的清洁臂。

4.根据权利要求3所述的风驱动清洁装置,其特征在于,所述传动机构驱动所述清洁件沿所述支杆轴所在轴线线性移动,使得所述清洁臂的端部在经过所述碳纤维刷时刮拭所述碳纤维刷。

5.根据权利要求4所述的风驱动清洁装置,其特征在于,所述传动机构设置成使得所述清洁件在轴上的运动距离与所述叶片的枢转角度相对应。

6.根据权利要求4所述的风驱动清洁装置,其特征在于,所述传动机构包括与所述枢转轴连接的第一齿轮,与所述第一齿轮啮合的第二齿轮,以及与所述第二齿轮连接丝杆,所述清洁件的一端设置有套设在所述丝杆上的螺母。

7.根据权利要求4所述的风驱动清洁装置,其特征在于,所述支杆轴所在轴线与所述叶片的枢转轴平行。

8.一种离子发生装置,其特征在于,包括:

9.一种空调系统,其特征在于,所述空调系统的风机盘管单元中设置有如权利要求8所述离子发生装置。

10.根据权利要求9所述的空调系统,其特征在于,在所述风机盘管单元的风机启动或停止时,所述清洁件刮拭一次离子发生器装置的极板上的碳纤维刷。


技术总结
本发明提供了一种风驱动清洁装置、离子发生装置和空调系统。用于离子发生器装置的风驱动清洁装置,其包括:可沿枢转轴枢转的叶片;与所述枢转轴传动连接的传动机构;以及与所述传动机构传动连接的清洁件;其中,所述叶片设置在风路中,使得在无风状态下,所述叶片处于自由状态,并且在有风状态下,所述叶片在风力驱动下枢转并且通过所述传动机构带动所述清洁件移动,以刮拭离子发生器装置的极板上的碳纤维刷。根据本发明的实施例的装置可防止在离子发生装置的碳纤维刷上积尘。

技术研发人员:于彦,张曙光,李华南,李虎,余泽杭,郭志旺
受保护的技术使用者:开利公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/13
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