1.一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：包括机架、控制单元，
模板，模板为透明质模板，在模板外侧固定有模板托架，模板托架与机架固定，在模板底部设有纳米结构；
下压机构，设于模板上方并与机架滑动连接，用于压紧模板；
承压机构，设于模板下方，承压机构上设有基板，基板上涂抹有压印胶，基板与模板配合完成压印；
固胶单元，对压印胶进行固化，将纳米结构固定在基板上；
压力检测单元，安装于下压机构上，用于检测下压机构与模板之间压力状态并将压力信息反馈给控制单元；
位移检测单元，固定于模板托架上，用于检测模板与承压机构之间位移状态并将位移量反馈给控制单元；
多个升降机构及微调机构，微调机构设于升降机构顶端与升降机构连接，微调机构设于承压机构底端并与承压机构固定，升降机构可同时升降或单独升降；
下压机构、固胶单元、压力检测单元、位移检测单元、升降机构以及微调机构均与控制单元电连接。
2.根据权利要求1所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：所述下压机构包括与机架滑动连接的托台，所述托台中间固定有透明的加压板，还包括与托台连接的、可驱动托台上下移动的直驱式伺服电机缸。
3.根据权利要求2所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：固胶单元设于加压板上，固胶单元为可透过模板及加压板的紫外线照射灯，压印胶采用紫外线固化压印胶。
4.根据权利要求1所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：所述承压机构包括承压板，基板设于承压板中间位置，在承压板侧面固定有三块支撑板，所述支撑板上设有凹槽，微调机构设于承压板下方并与承压板连接。
5.根据权利要求4所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：所述固胶单元设于承压板上，并设置在基板正下方，所述固胶单元为加热器。
6.根据权利要求1所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：压力检测单元为具有检测头的压力传感器。
7.根据权利要求1所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：位移检测单元为具有检测头的直线位移传感器，直线位移传感器上的检测头与支撑板上的凹槽适配。
8.根据权利要求1所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：升降机构为气缸或直驱式伺服电机缸。
9.根据权利要求4所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：微调机构为三轴平移台，微调机构可实现承压板前、后、左、右、上、下方向的微调。
10.根据权利要求1所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，其特征在于：所述控制单元为PLC控制器。