本发明属于拉曼光谱,具体涉及一种基于dvd的高性能3d ag/pmma纳米树阵列基底的制备方法。
背景技术:
1、随着从1d(单纳米颗粒)到2d再到3d结构,sers基底在不断向前发展。相较于在一维和二维结构中由于空间限制而降低了检测灵敏度。3d sers结构在各个维度上具有更大的灵活性,激光利用效率更高,能提供更多的热点。目前,3d sers底物的常用制备方法包括自组装法、溶胶-凝胶法、模板法等方法。自组装法往往组装工艺复杂,成本较高。溶胶-凝胶法制备的3d sers基底虽然具有高度多孔的结构和良好的可控性,但是制备过程较为繁琐,需要控制溶胶-凝胶转换的速度和时间,同时需要优化热处理条件,而模板法制备成本较低,可以批量制备,模板可重复利用,能通过有序模板使衬底具有更好的表面结构,利于基底的均匀性。
技术实现思路
1、发明目的:为了解决现有技术的不足,本发明提供了一种基于dvd的高性能3d ag/pmma纳米树阵列基底的制备方法。
2、技术方案:一种基于dvd的高性能3d ag/pmma纳米树阵列基底的制备方法,包括如下步骤:
3、步骤一、依次使用乙醇和超纯水清洗dvd模板,各超声10min,洗干净后用氮气吹掉表面的水分;
4、步骤二、将聚二甲基硅氧烷(pdms)的预聚体和固化剂按照10:1的重量比例混合,用胶头滴管搅拌5min,接着脱气20min,将混合物滴入dvd模板表面,并进一步脱气30min,使pdms溶液能充分进入dvd模板的周期性条纹结构中,随后在60℃下固化4h,即可得到带有周期条纹结构的pdms;
5、步骤三、将聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)粉末与甲苯溶液按照7:100的重量比例混合,在70℃条件下搅拌30min,待pmma溶液冷却后,滴到刚得到的pdms上,常温放置24小时,揭开pmma,得到带有周期条纹结构的pmma;
6、步骤四、对带有周期条纹结构的pmma进行等离子体处理,将等离子清洗机功率设置为75w,用氧气等离子体处理30min,然后用氩气等离子体处理15min,重构pmma表面形貌,形成纳米树结构;
7、步骤五、在8×10-4pa的真空环境下,以的速率,通过热蒸发将ag沉积在得到的pmma载体上,沉积时长为50min;
8、步骤六、目标分子的检测:将染料分子滴在制备的ag/pmma基底,实现目标分子的快速检测。
9、有益效果:本发明中的sers基底制备方法以低成本的dvd为模板,采用等离子体处理技术,其制备工艺简单、无污染,成本低廉,得到的sers基底具有较高的灵敏度,可用于实际应用检测,使用方便,应用范围广。
1.一种基于dvd的高性能3d ag/pmma纳米树阵列基底的制备方法,其特征在于:包括如下步骤: