专利名称：一种具有清理装置的电解槽的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及电解技术领域，尤其涉及一种具有清理装置的电解槽。
技术背景电解技术是当前非常成熟的工业制造技术之一，在电解过程中，溶解在电 解液中的金属离子在获得电子后，会析出成金属并沉积在电解液槽中的阴极表面 上。但并不是所有的固体都会沉积在阴极表面，比如电解液中的金属和固体杂质， 随着电解的进行，必定会在电解槽底部形成沉积物，这些固体必须不断地从电解 槽中除去，否则不仅会浪费其中含有的有价金属还会对电解阴极纯度造成不良影响。另外，在有些电解过程中，阴极产生的是海绵状金属，如Cd、 Bi等，这些 海绵状金属也会大量沉积在电解槽底部，若不及时清理，则会发生金属在电解液 中的再溶解过程，影响电解生产效率及电流效率。一般而言，要去除前述沉积在电解槽底部的固体杂质就必须停止整个工艺， 然后将大量的电解液从电解槽中排出，再通itA工对排空后的电解槽进行清洗, 清洗过程中往往还需要更换电极或重新安排电极，最后，再将排出的电解液灌回 电解槽中。现有技术主要存在以下缺陷首先，停下整个工艺来清理必定会降低电解 的生产率，增加企业的生产成本；其次，将电解液排出电解槽再将其灌回电解槽 的整个过程通常会产生对电解液的质量造成负面影响；最后，这种技术还会增加大量的额外工作，不必要的加大了劳动量。 实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种具有清理装置的电解槽，可 以方便、快捷的清理大量沉积在电解槽底部的固体杂质。为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是 提供一种具有清理装置的电解槽，它包括槽体和设置在该槽体内的电极， 在所述槽体的底部设有一可紧贴该槽体底部来回滑动的清扫板，且在该槽体底部 至少 一端设有凹槽，在该凹槽内设置了可移离所述槽体的杂物储存器。采用这样的结构以后，可以控制清扫板紧贴在电解槽的槽体底部来回滑动， 从而可以方便的将沉积在槽体底部的固体杂物刮入杂物储存器中，然后将该杂物 储存器移离槽体即可完成电解槽底部固体杂物的清理工作。免去了将电解液排出 电解槽外，再将其灌回的工作，而且在清理过程中也无需停止电解工艺，提高了 电解的效率、避免了对电解液质量造成不良影响，还使得清理工作变得方便和快 捷。
图l是本实用新型提供的一较佳实施例的结构示意图； 图2是本实用新型提供的另一较佳实施例的结构示意图； 图3是本实用新型提供的第三个较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及优点更加清楚明白，
以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例^U又用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。如图1至3所示的电解槽的较佳实施例，它包括槽体1和设置在该槽体1 内的电极，电极包括阳极2和阴极3，槽体1中充有电解液4，在槽体l的底部 5设有一可紧贴该槽体1底部5来回滑动的清扫板9，且在该槽体1底部5至少 一端设有凹槽12，在该凹槽12内设置了可移离所述槽体1的杂物储存器10,并 可在该杂物储存器IO上端开口。在清理时，可以控制清扫板9紧贴在电解槽的 槽体1底部5来回滑动，从而可以方便的将沉积在槽体1底部5的固体杂物6 刮入杂物储存器10中，然后将该杂物储存器IO移离槽体1即可完成电解槽底部 5固体杂物6的清理工作。免去了将电解液4排出电解槽外，再将其灌回的工作， 而且在清理过程中也无需停止电解工艺，提高了电解的效率、避免了对电解液4 质量造成不良影响，还使得清理工作变得方便和快捷。具体实施时，清扫板9可以制作成活塞状，以提高清扫效果；前述凹槽12 与槽体1底部5的其它部分之间还有一弧形过渡部13，这可以尽可能的将清扫 板9清刮出的固体杂物6排入杂物储存器10,提高清理的效果；槽体1内还设 有带孔隔板15,电极和凹槽12分别位于该带孔隔板15的两侧，使得用于清理 固体杂物6的部分和用于电解的部分相对隔离。如图1至图3所示，槽体1的底部5侧壁上设有导轨7，该导轨7 —直铺设 到前述的弧形过渡部13为止，清扫板9安装在该导轨7上，从而可以紧贴槽体 1底部5来回滑动。控制清扫板9在该导轨7上滑动的方式可以从各种现有技术 中选择，本实施例中，是在槽体l内设置滑轮机构，通过该滑轮机构实现对清扫板9的控制。具体的，滑轮才几构包括四个滑轮8，其中两个设置在槽体1的上方 并对称安装，另两个则设置在槽体1的下方亦对称安装，连接绳套设在该四个滑 轮8上并与清扫板9相连接。杂物储存器IO上开设有小孔，在本实施例中制作成篮子状，以快速过滤。 具体实施时，在该杂物^f诸存器IO上连接有一绳索11,通过该强索可以实现将其 移离槽体l的目的。为了进一步提高过滤效果，还可在杂物储存器10内设置过 滤布。虽然杂物储存器10可以将绝大多数的固体杂物6储存并运走，但在长期 运行过程中，仍有可能存在部分细小固体杂物6的外漏，堆积在凹槽12底部5， 因此，还可以在凹槽12底部5还开设细小杂物排出口 14。对于电解过程中会大量产生固体杂物6的工艺，如电解生成海绵镉、海绵 铋等金属时，固体杂物6产生速度较快，相应的，需要清除量也在增加，为了进 一步提高清除的效率，如图2或图3所示，在槽体1底部5的两端均开设有凹槽 12,这样一来，清扫板9在向右移动时会将固体杂物6刮向右端凹槽12的杂物 储存器10，而返回过程即向左的过程中，则会反向将前次未刮干净及新产生的 固体杂物6推向左端凹槽12中的杂物储存器10。在某些情况下，从电解槽中清理出来的固体杂物6粒度可能较细，自然过 滤将花费太长的时间，为了实现快速过滤，如图3所示的实施例，在槽体l上部 还固定有可与所述的杂物储存器IO相互挤压的顶杆16。在将杂物储存器10移 离槽体1时，通过绳索11用力，即可使杂物储存器10与顶杆16之间的相互挤 压，实现对杂物储存器10中的固体杂物6进行压滤的目的，从而有效的加快了 过滤过程。如图3所示的电解槽，对其进行清理工作时，可以通过连接绳拉动清扫板9在轨道上滑动，分别将槽体1底部5的固体杂物6刮入两端的杂物储存器10; 反复数次后，利用绳索ll分别将两个杂物储存器10提至槽体1内电解液4的液 面，才艮据情况进行自然过滤或利用顶杆16实施压滤，实现固液分离，残留的一 些细小固体杂物6则可以通过细小杂物排出口 14来清理；将固体杂物6取出后， 又将杂物储存器IO放回凹槽12中，继续清理工作。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型， 凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包 含在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1、一种具有清理装置的电解槽，它包括槽体和设置在该槽体内的电极，其特征在于在所述槽体的底部设有一可紧贴该槽体底部来回滑动的清扫板，且在该槽体底部至少一端设有凹槽，在该凹槽内设置了可移离所述槽体的杂物储存器。
2、 根据权利要求1所述的具有清理装置的电解槽，其特征在于所述的杂 物储存器上端开口。
3、 根据权利要求2所述的具有清理装置的电解槽，其特征在于所述槽体 的底部侧壁上设有导轨，所述的清扫板活动安装在该导轨上。
4、 根据权利要求3所述的具有清理装置的电解槽，其特征在于所述的槽 体内设有滑轮机构，所述的清扫板通过该滑轮机构安装在导轨上。
5、 根据权利要求1所述的具有清理装置的电解槽，其特征在于所述的槽 体内还设有带孔隔板，所述的电极和凹槽分别位于该带孔隔板的两侧。
6、 根据权利要求1所述的具有清理装置的电解槽，其特征在于在所述的 杂物储存器上设有小孔。
7、 根据权利要求6所述的具有清理装置的电解槽，其特征在于在所述杂 物储存器内还设有过滤布。
8、 根据权利要求1所述的具有清理装置的电解槽，其特征在于所述凹槽 底部还设有细小杂物排出口 。
9、 根据权利要求l所述的具有清理装置的电解槽，其特征在于所述的槽 体上部还固定有可与所述的杂物储存器相互4齐压的顶杆。
10、 根据权利要求1至9任一权利要求所述的具有清理装置的电解槽，其特征在于所述槽体底部的两端均开设有凹槽。
专利摘要本实用新型涉及电解技术领域，尤其涉及一种具有清理装置的电解槽。它包括槽体和设置在该槽体内的电极，在槽体的底部设有一可紧贴该槽体底部来回滑动的清扫板，且在该槽体底部至少一端设有凹槽，在该凹槽内设置了可移离所述槽体的杂物储存器。采用这样的结构以后，免去了将电解液排出电解槽外，再将其灌回的工作，而且在清理过程中也无需停止电解工艺，提高了电解的效率、避免了对电解液质量造成不良影响，还使得清理工作变得方便和快捷。
文档编号C25C7/00GK201092587SQ20072012225
公开日2008年7月30日 申请日期2007年8月13日 优先权日2007年8月13日
发明者周文会 申请人:比亚迪股份有限公司