专利名称：旋转阳极x射线管黑铬镀层制造工艺的制作方法
技术领域：
本发明属于对金属材料的镀覆领域，具体指的是一种旋转阳极x射线管黑铬镀层
的制造工艺。
背景技术：
旋转阳极X射线管是一个高真空电真空器件，其工作原理是在X射线管正负极二 端加上高电压(一般为125 150kV)，阴极发射的电子束在高真空高压电场作用下，向阳极 靶面进行电子轰击(靶面材料一般为钨)产生X射线，但X射线只占电子能量1X左右，而 99 %则转换成热量。由于X射线管是一个真空器件，其管内热传导相当不理想。
为使旋转阳极X射线管工作时产生的大量热量及时传导到真空管外绝缘介质油 层中去，故采用在阳极转子表面镀黑铬工艺。黑铬镀层可用于武器、光学仪器、照相器材上， 起到遮光、防眩目作用，也可用于金笔、自行车零件、音响、微波炉等轻工家电产品作为表面 装饰。常见黑铬镀层使用条件一般为常温，仅起到表面装饰及遮光等作用，不适用旋转阳极 X射线管阳极转子镀黑铬层所需耐高温及真空工作状态的使用要求。 由于阳极转子表面工作温度可达600 70(TC，故对黑铬镀层提出相对一般用途 更高技术要求，即镀层必须耐高温(约600 70(TC);在高真空条件下，镀层必须与阳极转 子基体结合力牢固不脱落。
发明内容
本发明的目的是根据上述现有技术的不足之处，提供一种旋转阳极X射线管黑铬 镀层的制造工艺，。 本发明的实现由以下技术方案完成 —种旋转阳极X射线管黑铬镀层的制造工艺，配制镀液，通过电镀直接在所述旋 转阳极X射线管转子基体上沉淀黑铬镀层，无须中间过渡镀层。 上述镀液由以下各组份按其重量比配制而成三氧化铬200 400克，碳酸钡2 4克，硼酸15 25克，硝酸钠5 15克，氟硅酸0. 05 0. 15毫升以及1000毫升离子水。
上述镀液的配制工艺如下 1)将三氧化铬加入盛有离子水的容器中并搅拌至溶解；
2)将碳酸钡慢慢地加入步骤1)生成的溶液中并不断搅拌，使之完全溶解；
3)将硼酸先完全溶解在热的离子水中，再倒入步骤2)生成的溶液中；
4)将硝酸钠先完全溶解在热的离子水中，再倒入步骤3)生成的溶液中；
5)在步骤4)生成的溶液中，再加入氟硅酸，生成镀液。 本发明的优点是，与现有技术相比，黑铬镀层不需要中间过渡镀层，可直接镀在转 子基体上；黑铬镀层适用于真空状态下；黑铬镀层具有良好耐高温性，可耐温600 70(TC， 不起泡，不起皱；黑铬镀层具有牢固结合力，不脱落。
具体实施例方式
以下通过实施例对本发明特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业 技术人员的理解 本发明的旋转阳极X射线管黑铬镀层的制造工艺，属于电镀工艺，先配制镀液，通 过电镀直接在旋转阳极X射线管转子基体上沉淀一层黑铬镀层，无须现有技术中的中间过 渡镀层。 本发明黑铬镀层的配方采用在一般装饰黑铬配方基础上改进和调整，调整了硼酸 和硝酸钠的配比，此二种化学物同时加入配方液中，并在电镀过程中根据被镀工件的镀层 质量，及时控制电镀液的比重或调整氟硅酸的添加量，以确保电镀工件电镀后在后道高温 工艺过程中及X射线管今后高温状态工作中有牢固的结合力并保证黑铬色泽以达到良好 的热传导作用。配方主要成分包括三氧化铬、碳酸钡、硼酸、硝酸钠、氟硅酸等。镀液由以下 各组份按其重量比配制而成三氧化铬200 400克，碳酸钡2 4克，硼酸15 25克，硝 酸钠5 15克，氟硅酸0. 05 0. 15毫升以及1000毫升离子水。
镀液制备工艺如下 ①按配方要求，将三氧化铬加入盛有水的容器中并搅拌至溶解。
②将碳酸钡慢慢地加入上述溶液中并不断搅拌，使之完全溶解。
③将硼酸先完全溶解在热的离子水中，再倒入上述溶液。
④将硝酸钠先完全溶解在热的离子水中，再倒入上述溶液
⑤再加入适量氟硅酸。 配制与使用期间需注意测镀液成分并及时做出调整。
实施例1 : ①用量杯量取6000ml离子水倒入电镀槽。 ②用药物天平称取Cr03 6 5 00g，并慢慢放入电镀槽并搅拌至完全溶解。
③再缓慢加入BaC03 55g。 ④用药物天平称取H3B03 4 20g倒入烧杯中，加入3000ml离子水，放在燃气灶上加 热溶化，然后再倒入电镀槽。 ⑤用药物天平称取NaN03 220g倒入烧杯中，加入3000ml离子水，放在燃气灶上加
热溶化，然后再倒入电镀槽。 ⑥用量杯量取2ml H2SiFe倒入电镀槽。 ⑦最后加9000ml离子水搅拌均匀。 实施例2 : ①用量杯量取6000ml离子水倒入电镀槽。 ②用药物天平称取Cr03 S000g，并慢慢放入电镀槽并搅拌至完全溶解。
③再缓慢加入BaC03 80g。 ④用药物天平称取H3B03 550g倒入烧杯中，加入3000ml离子水，放在燃气灶上加 热溶化，然后再倒入电镀槽。 ⑤用药物天平称取NaN03 300g倒入烧杯中，加入3000ml离子水，放在燃气灶上加
热溶化，然后再倒入电镀槽。 ⑥用量杯量取3ml H2SiFe倒入电镀槽。
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⑦最后加9000ml离子水搅拌均匀。 将实施例1、2采用上述镀黑铬工艺制成的X射线管在高真空状态下，经过600 70(TC高温工作状态试验，然后解剖取出阳极转子，随机选样进行黑铬镀层附着强度及镀层 厚度检测。经检测，符合GB/T 5270-2005《金属基体上的金属覆盖层电沉积和化学沉积层附 着强度试验方法的评述》标准，表面覆盖层未见有剥落现象，黑铬镀层厚度约为0. 8 ii m(依 据GB/T 6462-2005《金属和氧化物覆盖层厚度测量显微镜法》)。
权利要求
一种旋转阳极X射线管黑铬镀层的制造工艺，其特征在于配制镀液，通过电镀直接在所述旋转阳极X射线管转子基体上沉淀黑铬镀层，无须中间过渡镀层。
2. 根据权利要求1所述的旋转阳极X射线管黑铬镀层的制造工艺，其特征在于所述镀 液由以下各组份按其重量比配制而成三氧化铬200 400克，碳酸钡2 4克，硼酸15 25克，硝酸钠5 15克，氟硅酸0. 05 0. 15毫升以及1000毫升离子水。
3. 根据权利要求1或2所述的旋转阳极X射线管黑铬镀层的制造工艺，其特征在于所 述镀液的配制工艺如下1) 将三氧化铬加入盛有离子水的容器中并搅拌至溶解；2) 将碳酸钡慢慢地加入步骤1)生成的溶液中并不断搅拌，使之完全溶解；3) 将硼酸先完全溶解在热的离子水中，再倒入步骤2)生成的溶液中；4) 将硝酸钠先完全溶解在热的离子水中，再倒入步骤3)生成的溶液中；5) 在步骤4)生成的溶液中，再加入氟硅酸，生成镀液。
4. 根据权利要求3所述的旋转阳极X射线管黑铬镀层的制造工艺，其特征在于制备镀 液及电镀期间测镀液成分并及时调整，确保镀液成分达配比要求。
5. 根据权利要求2所述的旋转阳极X射线管黑铬镀层的制造工艺，其特征在于所述镀 液由以下各组份按其重量比配制而成三氧化铬6500克，碳酸钡55克，硼酸420克，硝酸钠 220克，氟硅酸2毫升以及21000毫升离子水。
6. 根据权利要求2所述的旋转阳极X射线管黑铬镀层的制造工艺，其特征在于由以下 各组份按其重量比配制而成三氧化铬8000克，碳酸钡80克，硼酸550克，硝酸钠300克， 氟硅酸3毫升以及21000毫升离子水。
全文摘要
本发明属于对金属材料的镀覆领域，具体指的是一种旋转阳极X射线管黑铬镀层的制造工艺。配制镀液，通过电镀直接在所述旋转阳极X射线管转子基体上沉淀黑铬镀层，无须中间过渡镀层。镀液由以下各组份按其重量比配制而成三氧化铬200～400克，碳酸钡2～4克，硼酸15～25克，硝酸钠5～15克，氟硅酸0.05～0.15毫升以及1000毫升离子水。本发明的优点是，与现有技术相比，黑铬镀层不需要中间过渡镀层，可直接镀在转子基体上；黑铬镀层适用于真空状态下；黑铬镀层具有良好耐高温性，可耐温600～700℃，不起泡，不起皱；黑铬镀层具有牢固结合力，不脱落。
文档编号C25D3/08GK101768764SQ20091024776
公开日2010年7月7日 申请日期2009年12月30日 优先权日2009年12月30日
发明者张小英, 沈成晔, 谢青 申请人:上海医疗器械九厂