专利名称：失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及蚀刻液再生铜资源回收领域，具体是失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置。
背景技术：
在印刷电路板(PCB)生产过程中产生大量的失效蚀刻液，失效蚀刻液中含有铜 (铜含量约为120 140g/L)、氨及氯化铵，对于这些失效蚀刻液，传统的处理方法是以其为原料生产硫酸铜产品，但其中大量含铵液体得不到有效的利用，从而造成了环境污染和资源浪费。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供了一种能减少资源浪费、降低环境污染，并使失效蚀刻液能循环再生利用的失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置。本实用新型的目的主要通过以下技术方案实现失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，包括通过管道依次连接的印制电路板蚀刻机、过滤器、萃取槽、调配罐、以及吸附过滤器，所述吸附过滤器与印制电路板蚀刻机通过管道连接。所述萃取槽通过管道依次连接有水洗槽、反萃取槽、以及分离槽，所述分离槽与萃取槽连接。所述反萃取槽设有反萃取混合槽、反萃取分层槽和第二搅拌机。所述反萃取槽连接有电解槽。所述的电解槽连接有循环槽，所述循环槽与反萃取槽连接。所述循环槽内设有冷水机。所述的循环槽设有循环槽与电解槽连接管道接口的循环槽电解液进口，以及循环槽与反萃取槽连接管道接口的循环槽电解液出口。所述的水洗槽连接有洗水罐，且洗水罐与水洗槽之间连接有两根管道。所述的萃取槽设有萃取混合槽、萃取分层槽、第一搅拌机、失效蚀刻液进口、萃取剂进口、含铜萃取剂出口、以及蚀刻液出口 ；所述失效蚀刻液进口为萃取槽与过滤器连接管道的接口，所述蚀刻液出口为萃取槽与调配罐连接管道的接口。本实用新型与现有技术相比具有以下优点和有益效果(1)本实用新型通过管道依次连接的印制电路板蚀刻机、过滤器、萃取槽、调配罐、以及吸附过滤器，且吸附过滤器与印制电路板蚀刻机通过管道连接，失效蚀刻液在印制电路板蚀刻机收集后输送到过滤器过滤，过滤后的失效蚀刻液经过萃取槽萃取后输入调配罐，通过向调配罐添加添加剂后输送到吸附过滤器，吸附过滤器处理后的刻蚀液又回到印制电路板蚀刻机，由此构成失效蚀刻液循环再生机构，达到资源的有效利用。(2)本实用新型的萃取槽通过管道依次连接有水洗槽、反萃取槽、以及分离槽，且分离槽与萃取槽连接，含铜萃取剂经过水洗槽清洗，反萃取槽处理，并经分离槽分离出夹带的含铜电解液，产生的萃取剂输送到萃取槽中，再次达到资源的重复利用。(3)本实用新型的反萃取槽连接有电解槽，电解槽连接有循环槽，而循环槽还与反萃取槽连接，这样从电解槽未电解完成的低浓度的含铜电解液经过循环槽传输到反萃取槽中，这样能降低环境污染，达到资源的有效利用。
图1为本实用新型的结构示意图；图2为本实用新型萃取槽的侧视结构示意图；图3为本实用新型电解槽和循环槽的俯视结构示意图。附图中所对应的附图标记为1、过滤器，2、萃取槽，3、水洗槽，4、反萃取槽，5、分离槽，6、电解槽，7、循环槽，8、冷水机，9、洗水罐，10、调配罐，11、吸附过滤器，12、印制电路板蚀刻机，201、萃取混合槽，202萃取分层槽，203、第一搅拌机，204、失效蚀刻液进口，205、萃取剂进口，206、含铜萃取剂出口，207、蚀刻液出口，701、循环槽电解液进口，702、循环槽电
解液出口。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。实施例如图1、图2、及图3所示，本实用新型主要由依次连接的印制电路板蚀刻机12、过滤器1、萃取槽2、调配罐10、以及吸附过滤器11组成，且吸附过滤器11与印制电路板蚀刻机12连接，这样从印制电路板蚀刻机12收集的失效蚀刻液可经过过滤器1和萃取槽2处理后，通过向调配罐10中加入添加剂，并经过吸附过滤器11处理生成可用的蚀刻液，再输送到印制电路板蚀刻机12，此工作过程可简述为萃取后的蚀刻液通过组分调整，添加部分蚀刻所需的添加剂，回用到印制电路板蚀刻机12继续使用，形成循环再生装置系统，从而达到资源的有效利用。本实用新型所述的连接为通过管道连接。本实用新型的萃取槽2设有萃取混合槽201、萃取分层槽202、第一搅拌机203、失效蚀刻液进口 204、萃取剂进口 205、含铜萃取剂出口 206、以及蚀刻液出口 207。萃取槽2 通过管道依次连接有水洗槽3、反萃取槽4、以及分离槽5，分离槽5与萃取槽2连接，失效蚀刻液进口 204为萃取槽2与过滤器1连接管道的接口，蚀刻液出口 207为萃取槽2与调配罐10连接管道的接口，萃取剂进口 205用于向萃取槽2中加入萃取剂，萃取剂将失效印制电路板蚀刻液的铜萃取出，含铜萃取剂出口 206为萃取槽2与水洗槽3连接管道的接口。 萃取剂在分离槽5中分离出夹带的含铜电解液，且将萃取剂循环到萃取槽2，由此构成萃取循环机构。本实用新型的反萃取槽4设有反萃取混合槽、反萃取分层槽和第二搅拌机，反萃取槽4的主要作用是用硫酸将萃取剂中铜反萃取出而得到富含铜的电解液，铜离子浓度在 2(T40g/L之间。反萃取槽4连接有电解槽6，当电解槽6中的含铜量达到30g/L时，依次放入阳极板和阴极覆铜板然后开启整流器，电流由小到大，根据铜离子量，调整整流器的电流大小，从而电解出纯度较高的紫铜板。电解槽6连接有循环槽7，循环槽7与反萃取槽4连接，循环槽7设有循环槽7与电解槽6连接管道接口的循环槽电解液进口 701，以及循环槽 7与反萃取槽4连接管道接口的循环槽电解液出口 702，循环槽7还设有对其内液体进行冷却的冷水机8，循环槽7内的低浓度的含铜电解液传输到反萃取槽4中再次循环作用，从而节约资源。本实用新型的水洗槽3连接有洗水罐9，且洗水罐9与水洗槽3之间连接有两根管道，一根管道使传输含铜萃取剂从水洗槽3输送到洗水罐9中，另一根管道将洗水罐9水洗后的含铜萃取剂输送到水洗槽3中。本实用新型传输液体动力不足之处可由液压泵来提供，如印制电路板蚀刻机12 到过滤器1的传输管道、吸附过滤器11到印制电路板蚀刻机12的传输管道、调配罐10到吸附过滤器11的传输管道、洗水罐9到水洗槽3的传输管道、分离槽5到萃取槽2的传输管道、电解槽6到循环槽7的传输管道、以及循环槽7到时反萃取槽4的传输管道均设置有液压泵。本实用新型能连续运行控制，解决了硫酸根和氯离子大量夹带问题，保证了再生蚀刻液的质量，防止了腐蚀电极，萃取系统操作简单方便，萃取出来的铜由电解法生产高纯度的紫铜板，萃取后的残液中铵(NH4C1、(NH4)2HCO3)损失很少，可再生后返回蚀刻系统循环使用，并可减少夹带有机相造成萃取剂损失的问题，能降低萃取剂的消耗。如上所述，则能很好的实现本实用新型。
权利要求1.失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，其特征在于包括通过管道依次连接的印制电路板蚀刻机(12)、过滤器(1)、萃取槽(2)、调配罐(10)、以及吸附过滤器(11)，所述吸附过滤器(11)与印制电路板蚀刻机(12)通过管道连接。
2.根据权利要求1所述的失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，其特征在于所述萃取槽(2)通过管道依次连接有水洗槽(3)、反萃取槽(4)、以及分离槽(5)，所述分离槽(5) 与萃取槽(2)连接。
3.根据权利要求2所述的失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，其特征在于所述反萃取槽(4)设有反萃取混合槽、反萃取分层槽和第二搅拌机。
4.根据权利要求2所述的失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，其特征在于所述反萃取槽(4 )连接有电解槽(6 )。
5.根据权利要求4所述的失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，其特征在于所述的电解槽(6 )连接有循环槽(7 )，所述循环槽(7 )与反萃取槽(4 )连接。
6.根据权利要求5所述的失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，其特征在于所述循环槽(7)内设有冷水机(8)。
7.根据权利要求6所述的失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，其特征在于所述的循环槽(7)设有循环槽(7)与电解槽(6)连接管道接口的循环槽电解液进口(701)，以及循环槽(7)与反萃取槽(4)连接管道接口的循环槽电解液出口(702)。
8.根据权利要求2所述的失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，其特征在于所述的水洗槽(3 )连接有洗水罐(9 )，且洗水罐(9 )与水洗槽(3 )之间连接有两根管道。
9.根据权利要求1 8任一项所述的失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，其特征在于所述的萃取槽(2)设有萃取混合槽(201)、萃取分层槽(202)、第一搅拌机(203)、失效蚀刻液进口(204)、萃取剂进口(205)、含铜萃取剂出口(206)、以及蚀刻液出口(207)；所述失效蚀刻液进口(204)为萃取槽(2)与过滤器(1)连接管道的接口，所述蚀刻液出口(207) 为萃取槽(2)与调配罐(10)连接管道的接口。
专利摘要本实用新型公开了一种失效蚀刻液循环再生-萃取-电解铜装置，包括通过管道依次连接的印制电路板蚀刻机(12)、过滤器(1)、萃取槽(2)、调配罐(10)、以及吸附过滤器(11)，吸附过滤器(11)与印制电路板蚀刻机(12)通过管道连接。本实用新型采用上述结构，失效蚀刻液能得到再次利用，减少生成成本，节约资源。
文档编号C25C1/12GK201971895SQ20112004838
公开日2011年9月14日 申请日期2011年2月26日 优先权日2011年2月26日
发明者郑传勇, 钟春红 申请人:郑传勇