专利名称：变间距电镀槽套件的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种变间距电镀槽套件，尤其涉及一种可调节靶材架与样品架之间距离的电镀槽。
背景技术：
目前的电镀槽在半导体行业中广泛被工程师应用，但是没有可以准确知道靶材和样品之间距离的电镀槽，导致不能对样品的电镀获取更准确的信息，无法获取更精确的电锻结果。
实用新型内容
件可调节靶材架与样品架之间距离，更精确的对样品进行电镀。为了达到上述的发明目的，本实用新型采用了如下的技术方案一种变间距电镀槽套件，包括电镀槽箱体、靶材架和样品架，其特征在于所述的电镀槽箱体上设置有调节靶材架与样品架之间距离的位置标记；所述的位置标记为刻度、凹槽或凸台。进一步地，所述靶材架设置有与电镀槽箱体位置标记固定配合的第一夹持装置；具体的，所述第一夹持装置为偏心夹持装置、螺旋夹持装置和卡槽夹持装置中任意一种。进一步地，所述样品架设置有与电镀槽箱体位置标记固定配合的第二夹持装置；具体的，所述第二夹持装置为偏心夹持装置、螺旋夹持装置和卡槽夹持装置中的任意一种。当在对样品进行电镀时，通过改变靶材架和样品架与电镀槽箱体上的位置标记之间的夹持位置，实现读取靶材架和样品架之间的距离并进行调节。本实用新型的优点在于I、该变间距电镀槽套件通过靶材架和样品架的夹持装置与电镀槽箱体位置标记固定配合，调节靶材架与样品架之间距离，更精确的对样品进行电镀；2、该变间距电镀槽套件结构简单，通用性强，操作简便。
图I为本实用新型的电镀槽箱体的结构正视图；图2为本实用新型的电镀槽箱体的结构俯视图；图3为本实用新型的靶材架的结构正视图；图4为本实用新型的样品架的结构正视图；图中各附图标记的含义为1、电镀槽箱体，2、位置标记，3、靶材架，4、第一夹持装置，5、样品架,6、第二夹持装置。
具体实施方式
[0017]以下结合一较佳实施例及附图对本实用新型的技术方案作进一步的说明。如图I、图2、图3和图4所示，一种变间距电镀槽套件，该变间距电镀槽套件包括电镀槽箱体I、靶材架3和样品架5，所述的电镀槽箱体I上设置有调节靶材架3与样品架5之间距离的位置标记2 ;所述的位置标记2为刻度、凹槽或凸台。进一步地，所述靶材架3设置有与电镀槽箱体位置标记2固定配合的第一夹持装置4 ;具体的，所述第一夹持装置4为偏心夹持装置、螺旋夹持装置和卡 槽夹持装置中任意一种。进一步地，所述样品架5设置有与电镀槽箱体位置标记2固定配合的第二夹持装置6 ;具体的，所述第二夹持装置6为偏心夹持装置、螺旋夹持装置和卡槽夹持装置中的任意一种。当在对样品进行电镀时，通过改变靶材架和样品架与电镀槽箱体上的位置标记之间的夹持位置，实现读取靶材架和样品架之间的距离并进行调节，可以更准确的获取电镀信息。例如，在相同的电镀距离以及不同的电镀液的情况下，测试电镀相同厚度所需的时间；在相同的电镀液以及不同的电镀距离的情况下，测试电镀相同厚度所需的时间；在相同的电镀距离以及相同的电镀液的情况下，测试电镀不同厚度所需的时间；为相关的科研工作以及生产作业提供数据分析。以上述依据本实用新型的理想实施为启示，通过上述的说明内容，本领域的普通技术人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改，而这些改变和变形都应属于本实用新型权利要求的保护范围。
权利要求1.一种变间距电镀槽套件，包括电镀槽箱体、靶材架和样品架，其特征在于所述的电镀槽箱体上设置有调节靶材架与样品架之间距离的位置标记。
2.根据权利要求I所述的变间距电镀槽套件，其特征在于所述的位置标记为刻度、凹槽或凸台。
3.根据权利要求I所述的变间距电镀槽套件，其特征在于所述靶材架设置有与电镀槽箱体位置标记固定配合的第一夹持装置。
4.根据权利要求3所述的变间距电镀槽套件，其特征在于所述第一夹持装置为偏心夹持装置、螺旋夹持装置或卡槽夹持装置。
5.根据权利要求I所述的变间距电镀槽套件，其特征在于所述样品架设置有与电镀槽箱体位置标记固定配合的第二夹持装置。
6.根据权利要求5所述的变间距电镀槽套件，其特征在于所述第二夹持装置为偏心·夹持装置、螺旋夹持装置或卡槽夹持装置。
专利摘要本实用新型涉及一种变间距电镀槽套件，包括电镀槽箱体、靶材架和样品架，所述的电镀槽箱体上设置有可精确调节和量测靶材架与样品架之间距离的位置标记；该变间距电镀槽套件通过靶材架和样品架的夹持装置与电镀槽箱体位置标记固定配合，可精确调节和量测靶材架与样品架之间距离，更精确的对样品进行电镀。
文档编号C25D17/00GK202688491SQ201220306380
公开日2013年1月23日 申请日期2012年6月28日 优先权日2012年6月28日
发明者孙云飞, 王懋, 吴东岷 申请人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所