一种纯锡电镀方法与流程

文档序号:11380979阅读:664来源:国知局

本发明涉及纯锡电镀技术领域,尤其涉及一种纯锡电镀方法。



背景技术:

锡铅合金作为可焊性镀层已有多年历史,其可以在较低温度下焊接,不产生晶须,焊接强度高,因而广泛应用于电子封装和电子线路板行业。但随着近年来人们对环境问题越来越重视,铅的危害性也逐渐为大众所了解。因而世界各国不断颁布日趋严格的法令来限制电子产品中铅的应用,欧盟和日本都已经严格限制了铅的使用年限。

为了紧跟国际电子行业无铅化技术发展趋势,我国出台了《电子信息产品污染防治管理办法》,并且制定了无铅化的目标,争取在2006年7月1日前实现我国出口的主要电子产品全部无铅化。

国内外大力开发了替代锡铅电镀的无铅电镀工艺。可能的替代工艺有:纯锡工艺,锡铜工艺,锡银工艺,锡铋工艺等。纯锡工艺具有镀层成分单一,与各种无铅焊料易于匹配,适用范围广等优点,且电镀液相对简单,有利于维护和管理,成本也较低,便于推广应用;国外知名公司也已推出了相关的产品,并在电子行业得到普遍认可。

纯锡电镀工艺中存在镀层均匀性不易控制、易氧化的问题需要进一步改进。



技术实现要素:

本发明目的就是为了弥补已有技术的缺陷,提供一种纯锡电镀方法。

本发明是通过以下技术方案实现的:

一种纯锡电镀方法,电镀槽包括主槽和循环槽,主槽中加入分散剂、防烧焦剂、晶粒控制剂、抗氧化剂、甲基磺酸,将甲磺酸亚锡与多孔聚苯乙烯微球混合均匀,加入循环槽中,再加入絮凝剂,循环槽与电镀槽相互连通,在通道上设置滤膜,滤膜的孔径为400-950nm。

电镀槽中甲基磺酸的浓度为120-160g/l,甲磺酸亚锡浓度为10-11g/l。

所述甲磺酸亚锡与多孔聚苯乙烯微球按体积比为1:2-3混合。

所述絮凝剂为聚丙烯酰胺。

所述抗氧化剂为邻苯二酚。

所述分散剂的浓度为1-1.3g/l、防烧焦剂的浓度为2-2.5g/l、晶粒控制剂的浓度为0.6-0.8g/l、抗氧化剂浓度为2.5-3g/l。

本发明的优点是:本发明用多孔聚苯乙烯微球吸附甲磺酸亚锡,能够缓慢释放甲磺酸亚锡,提高了电镀液的均匀性,用絮凝剂络合sn4+,防止锡氧化;用滤膜过滤,防止絮凝剂和多孔聚苯乙烯微球沉积,提高电镀层的均匀性。

具体实施方式

一种纯锡电镀方法,电镀槽包括主槽和循环槽,主槽中加入分散剂、防烧焦剂、晶粒控制剂、抗氧化剂、甲基磺酸,将甲磺酸亚锡与多孔聚苯乙烯微球混合均匀,加入循环槽中,再加入絮凝剂,循环槽与电镀槽相互连通,在通道上设置滤膜,滤膜的孔径为600-900nm。

电镀槽中甲基磺酸的浓度为150g/l,甲磺酸亚锡浓度为10g/l。

所述甲磺酸亚锡与多孔聚苯乙烯微球按体积比为1:2混合。

所述絮凝剂为聚丙烯酰胺。

所述抗氧化剂为邻苯二酚。

所述分散剂的浓度为1.1g/l、防烧焦剂的浓度为2.3g/l、晶粒控制剂的浓度为0.7g/l、抗氧化剂浓度为2.7g/l。



技术特征:

技术总结
本发明提供一种纯锡电镀方法,电镀槽包括主槽和循环槽,主槽中加入分散剂、防烧焦剂、晶粒控制剂、抗氧化剂、甲基磺酸,将甲磺酸亚锡与多孔聚苯乙烯微球混合均匀,加入循环槽中,再加入絮凝剂,循环槽与电镀槽相互连通,在通道上设置滤膜,滤膜的孔径为400‑950nm。本发明用多孔聚苯乙烯微球吸附甲磺酸亚锡,能够缓慢释放甲磺酸亚锡,提高了电镀液的均匀性,用絮凝剂络合Sn4+,防止锡氧化;用滤膜过滤,防止絮凝剂和多孔聚苯乙烯微球沉积,提高电镀层的均匀性。

技术研发人员:何晓俊;吴长青;王威;刘宗林
受保护的技术使用者:安徽长青电子机械(集团)有限公司
技术研发日:2017.05.08
技术公布日:2017.09.05
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