微弧氧化方法与流程

文档序号:14030940阅读:867来源:国知局

本发明涉及一种表面处理方法。



背景技术:

金属表面如果有致密的陶瓷层,则能形成致密的保护层,但现有致密陶瓷层需要复杂的表面处理工艺。



技术实现要素:

本发明针对现有技术的不足,提出一种能通过简单的表面处理工艺就能形成致密陶瓷层的微弧氧化方法。

本发明通过下述技术方案实现技术目标。

微弧氧化方法,其改进之处在于:将阀性金属旋转在特定的电解液中,并施加高电压,使金属表面产生大量的微波电弧,通过电化反应,在金属表面生成高硬度陶瓷耐磨层,即微弧氧化陶瓷层。

本发明与现有技术相比,具有以下积极效果:通过简单的表面处理工艺就能形成致密陶瓷层。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步说明。

实施例:

微弧氧化方法,将阀性金属旋转在特定的电解液中,并施加高电压,使金属表面产生大量的微波电弧,通过电化反应,在金属表面生成高硬度陶瓷耐磨层,即微弧氧化陶瓷层。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种微弧氧化方法,将阀性金属旋转在特定的电解液中,并施加高电压,使金属表面产生大量的微波电弧,通过电化反应,在金属表面生成高硬度陶瓷耐磨层,即微弧氧化陶瓷层。本发明通过简单的表面处理工艺就能形成致密陶瓷层。

技术研发人员:郭新
受保护的技术使用者:郭新
技术研发日:2017.10.22
技术公布日:2018.03.27
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