杂质去除装置的制作方法

文档序号:34800258发布日期:2023-07-18 18:37阅读:54来源:国知局
杂质去除装置的制作方法

本技术涉及湿法冶金,具体而言,涉及一种杂质去除装置。


背景技术:

1、目前,从粉煤灰中回收提取氧化铝的方法主要有三种,分别是酸法、碱法以及酸碱联合法。采用盐酸法从粉煤灰中提取氧化铝时,粉煤灰中除含有氧化铝,还含有钾、钠、铁、钙和镁等杂质,在酸浸出氧化铝的同时,粉煤灰中的钾、钠、钙和镁等碱金属杂质也会进入料浆中,最终影响氧化铝品质。

2、现有工业化装置采用树脂除铁、除钙,其他杂质采用淋洗结晶氯化铝去除。除铁树脂及系统较成熟,且投资低,但是除钙树脂为专有技术,价格较高,导致投资成本过高;钾钠等杂质采用盐酸淋洗,导致部分结晶氯化铝溶解,降低系统产能。


技术实现思路

1、本实用新型的主要目的在于提供一种杂质去除装置,以解决现有技术中制备氧化铝的过程中杂质不易去除的问题。

2、为了实现上述目的,本实用新型提供了一种杂质去除装置,包括:反应组件,反应组件包括反应腔室,用于物料进行化学反应;过滤组件,过滤组件包括滤液腔室,滤液腔室上设置有第一入口、第一出口和第二出口,滤液腔室的第一入口与反应腔室的出口端连通,滤液腔室的第一出口与反应腔室的入口端连通;沉降组件,沉降组件包括沉降腔室和反应罐,滤液腔室的第二出口与反应罐连通,反应罐与沉降腔室连通;沉降腔室包括位于顶部的第一溢流出口和位于底部的第一沉降出口,沉降腔室的第一溢流出口与反应腔室连通,沉降腔室内的沉降物质通过第一沉降出口排出。

3、进一步地,反应腔室包括:第一水溶反应腔;第二水溶反应腔,第一水溶反应腔的排出口和第二水溶反应腔的排出口均与过滤组件连接;沉降腔室的第一溢流出口与第一水溶反应腔和第二水溶反应腔均连通。

4、进一步地,反应组件还包括:第一排出支路,与第一水溶反应腔连通,第一排出支路上设置有第一开关阀;第二排出支路,与第二水溶反应腔连通,第二排出支路上设置有第二开关阀;汇流通道,第一排出支路和第二排出支路均与汇流通道连通,汇流通道上设置有第一泵体,汇流通道与滤液腔室连通。

5、进一步地,反应组件还包括:搅拌部件,搅拌部件的位置可移动地设置在反应腔室内,通过搅拌部件对反应腔室内的物料进行搅拌。

6、进一步地,过滤组件还包括:水力旋流器,水力旋流器上设置有物料入口、第二溢流出口和第二沉降出口,反应腔室的出口端与水力旋流器的物料入口连通,水力旋流器的第二溢流出口与滤液腔室连通;过滤器,水力旋流器的第二沉降出口与过滤器连通。

7、进一步地,滤液腔室包括:溶液过滤腔,溶液过滤腔的进入口与水力旋流器的第二溢流出口连通;滤饼腔,过滤器的出口端与滤饼腔连通,滤饼腔上还设置有进液口,用于连通过滤母液,滤饼腔的排出口与反应罐连通。

8、进一步地,溶液过滤腔包括第一流出口和第二流出口,第一流出口与反应腔室连通,第二流出口与废水处理组件连通。

9、进一步地,反应罐为多个,多个反应罐沿物料的流通方向串联设置,多个反应罐包括进料反应罐和出料反应罐,滤饼腔与进料反应罐连通,出料反应罐与沉降腔室连通。

10、进一步地,沉降组件还包括:自蒸发器,设置在出料反应罐与沉降腔室之间,自蒸发器的两端分别与出料反应罐和沉降腔室连通。

11、进一步地,反应组件还包括:提升机,用于传输物料;存储仓,与提升机对接,通过提升机将物料传输至存储仓内;称重运输机,设置在存储仓的下方,通过称重运输机对存储仓内下落的物料进行承重并运输至反应腔室内。

12、应用本实用新型的技术方案,杂质去除装置包括反应组件、过滤组件和沉降组件,反应组件包括反应腔室,用于物料进行化学反应;过滤组件包括滤液腔室,滤液腔室上设置有第一入口、第一出口和第二出口,滤液腔室的第一入口与反应腔室的出口端连通,滤液腔室的第一出口与反应腔室的入口端连通;沉降组件包括沉降腔室和反应罐,滤液腔室的第二出口与反应罐连通,反应罐与沉降腔室连通;沉降腔室包括位于顶部的第一溢流出口和位于底部的第一沉降出口,沉降腔室的第一溢流出口与反应腔室连通,沉降腔室内的沉降物质通过第一沉降出口排出。这样物料在反应腔室进行反应之后,通过过滤组件进行过滤,过滤完后的母液和滤液均进入滤液腔室内,滤液腔室内的工艺液体一部分返回反应腔室内配料,多余液体送往工艺废水处理部e处,另一部分滤饼送往沉降组件的沉降腔室内,经沉降后的滤液溢流送回至反应腔室内进行配料,底流送往成品过滤工序f处过滤洗涤,在此过程中,无定形氧化铝中的钾、钠、钙、镁等杂质离子进入液相,实现与氧化铝的分离除杂,解决了现有技术中制备氧化铝的过程中杂质不易去除的问题。



技术特征:

1.一种杂质去除装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1上所述的杂质去除装置,其特征在于,所述反应腔室(10)包括:

3.根据权利要求2所述的杂质去除装置,其特征在于,所述反应组件(1)还包括:

4.根据权利要求1所述的杂质去除装置,其特征在于,所述反应组件(1)还包括:

5.根据权利要求1所述的杂质去除装置,其特征在于,所述过滤组件(2)还包括:

6.根据权利要求5所述的杂质去除装置,其特征在于,所述滤液腔室(20)包括:

7.根据权利要求6所述的杂质去除装置,其特征在于,所述溶液过滤腔(201)包括第一流出口(2011)和第二流出口(2022),所述第一流出口(2011)与所述反应腔室(10)连通,所述第二流出口(2022)与废水处理组件连通。

8.根据权利要求6所述的杂质去除装置,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的杂质去除装置,其特征在于,所述沉降组件(3)还包括:

10.根据权利要求1所述的杂质去除装置,其特征在于,所述反应组件(1)还包括:


技术总结
本技术提供了一种杂质去除装置,包括:反应组件,反应组件包括反应腔室,用于物料进行化学反应;过滤组件,过滤组件包括滤液腔室,滤液腔室上设置有第一入口、第一出口和第二出口,滤液腔室的第一入口与反应腔室的出口端连通,滤液腔室的第一出口与反应腔室的入口端连通;沉降组件,沉降组件包括沉降腔室和反应罐,滤液腔室的第二出口与反应罐连通,反应罐与沉降腔室连通;沉降腔室包括位于顶部的第一溢流出口和位于底部的第一沉降出口,沉降腔室的第一溢流出口与反应腔室连通,沉降腔室内的沉降物质通过第一沉降出口排出。本技术解决了现有技术中制备氧化铝的过程中杂质不易去除的问题。

技术研发人员:杜善周,王瑞,孟祥田,黄涌波,吕剑铎,吕建伟,王连蒙,高桂梅,周永利
受保护的技术使用者:神华准能资源综合开发有限公司
技术研发日:20220927
技术公布日:2024/1/13
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