外装品及其制造方法与流程

文档序号:41538458发布日期:2025-04-07 23:14阅读:8来源:国知局
外装品及其制造方法与流程

本发明涉及在金属基材的表面形成有阳极氧化被膜的外装品及其制造方法。


背景技术:

1、以往,作为在金属基材的表面形成有阳极氧化被膜的部件,有专利文献1的钟表部件。该钟表部件中,钛或钛合金所包含的结晶的粒径为7μm以上且3mm以下,各结晶的表面由镜面形成,各结晶的表面的法线方向形成为相互不同,并且在表面形成有阳极氧化被膜。

2、而且,在制造专利文献1的钟表部件时,在对钛或钛合金进行热处理而使多个结晶的粒径粗大化至7μm以上且3mm以下之后,实施蚀刻而使各结晶的表面镜面化并且使各结晶的表面的法线方向相互不同,在蚀刻工序之后对表面进行阳极氧化处理而形成阳极氧化被膜。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:日本专利第5971890号公报


技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、另外,在专利文献1的钟表部件的制造方法中,通过在实施了使表面镜面化且使各结晶的表面的法线方向不同的蚀刻之后形成阳极氧化被膜,从而能够赋予钟表部件的表面以特定颜色闪闪发光的金属光泽。然而,与此相反,难以形成没有金属光泽的黑色等暗色的外观。根据产品的不同,大多情况下也期望无金属光泽的暗色的外观,要求以高均匀性形成无金属光泽的黑色等暗色的外观的外装品。

3、本发明是鉴于上述课题而提出的,其目的在于提供一种能够以高均匀性形成无金属光泽的黑色等暗色的外观的外装品及其制造方法。

4、用于解决课题的手段

5、本发明的外装品的特征在于,在钛或钛合金的金属基材的表面将凸部的平均高度设为5nm~50μm而形成微细凹凸,以所述凸部的平均高度与所述凸部的平均宽度之比为0.25以上的方式形成所述凸部,以填埋所述微细凹凸的方式形成阳极氧化被膜。在金属基材的表面形成的微细凹凸的凸部的平均高度更优选为50nm~2000nm,进一步优选为50nm~1000nm。

6、由此,在使钛或钛合金的表面镜面化的情况下能够得到金属光泽,与此相对,通过形成金属基材的表面的微细凹凸,能够使光在金属基材的表面散射而低光泽化,能够得到无光泽质感的暗色的外观。进而,通过将凸部的平均高度设为5nm~50μm、将上述凸部的平均高度与凸部的平均宽度之比设为0.25以上而形成微细凹凸,能够以高均匀性可靠地形成没有金属光泽的黑色等暗色的外观。另外,通过以填埋微细凹凸的方式形成阳极氧化被膜,能够得到所期望调色的暗色的外观和外装品的耐腐蚀性。

7、本发明的外装品的特征在于,所述凸部的平均宽度为1500nm以下,更优选为1200nm以下。

8、由此,能够以高均匀性更可靠地形成没有金属光泽的黑色等暗色的外观。

9、本发明的外装品的特征在于,所述阳极氧化被膜的从所述凸部的顶部起的膜厚为500nm以下,更优选为10nm~500nm。

10、由此,通过将阳极氧化被膜的从凸部的顶部起的膜厚设为500nm以下,能够确保金属基材的暗色的视觉辨认性,更可靠地得到所期望调色的暗色的外观,并且能够更可靠地得到外装品的耐腐蚀性。

11、本发明的外装品的制造方法的特征在于,具备:第一工序,从钛或钛合金的金属基材的表面除去自然氧化膜;第二工序,对所述金属基材的表面实施蚀刻,在所述金属基材的表面以凸部的平均高度为5nm~50μm、所述凸部的平均高度与所述凸部的平均宽度之比为0.25以上的方式形成微细凹凸;及第三工序,以填埋所述微细凹凸的方式形成阳极氧化被膜。在金属基材的表面形成的微细凹凸的凸部的平均高度更优选为50nm~1000nm。

12、由此,在使钛或钛合金的表面镜面化的情况下能够得到金属光泽,与此相对,通过形成金属基材的表面的微细凹凸,能够使光在金属基材的表面散射而低光泽化,能够得到无光泽质感的暗色的外观。进而,通过将凸部的平均高度设为5nm~50μm、将上述凸部的平均高度与上述凸部的平均宽度之比设为0.25以上而形成微细凹凸,能够以高均匀性可靠地形成没有金属光泽的黑色等暗色的外观。另外,通过以填埋微细凹凸的方式形成阳极氧化被膜,能够得到所期望调色的暗色的外观和外装品的耐腐蚀性。另外,通过事先从金属基材的表面除去自然氧化膜,能够更可靠地得到均匀的暗色的外观。

13、发明效果

14、根据本发明,能够在外装品的表面以高均匀性形成没有金属光泽的黑色等暗色的外观。



技术特征:

1.一种外装品,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的外装品,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的外装品,其特征在于,

4.一种外装品的制造方法,其特征在于,具备:


技术总结
一种外装品(1),其特征在于,在钛或钛合金的金属基材(2)的表面将凸部(22)的平均高度(H)设为5nm~50μm而形成微细凹凸(21),以凸部(22)的平均高度与凸部(22)的平均宽度(W)之比为0.25以上的方式形成微细凹凸(21)的凸部(22),以填埋微细凹凸(21)的方式形成阳极氧化被膜(3)。能够以高均匀性形成没有金属光泽的黑色等暗色的外观。

技术研发人员:佐藤大辅,小林笑美加
受保护的技术使用者:三惠技研工业株式会社
技术研发日:
技术公布日:2025/4/6
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