一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺的制作方法

文档序号:9258388阅读:743来源:国知局
一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺,特别是非晶纳米晶复合镀层、电极材料的制备技术。
【背景技术】
[0002]氢能源作为理想的二次能源自上世纪八十年代得到广泛关注和应用,美国、日本、德国和我国已经将氢能源应用于汽车行业,而获得氢气的主要制备方法是电解水制氢。但电解水制氢过程中,由于槽压高、能耗大、成本高限制了电解水制氢的应用与发展。因此寻找低能耗、低成本的电极材料成为本世纪科技工作者共同关注的热点,因为它对于氯碱工业、氢能源以及太阳能利用都非常重要。目前所研究的具有低析氢过电位和高催化活性的金属中,钯基材料因其价格昂贵而不能得以推广使用,由此过渡族金属元素具有的析氢活性引起科技者的共同关注。在所报道的具有低析氢过电位的金属-金属阴极材料中,N1-Mo二元合金表现为最低的析氢过电位和高的催化活性,这主要归因于材料较高的粗糙度因子、多孔结构及较高比例的表面原子(即比表面积大)并且表面能高等因素,这能有效地降低电极表面氢原子的吸附活化能,降低槽压和能耗。
[0003]用电沉积法在制备新材料方面具有独特的优势而得到广泛应用。纳米晶粒相当细小,晶界和晶格缺陷数量较多,形成的合金具有较高的表面自由能和较多的反应活性中心,具有极佳的材料性能。非晶态结构合金具有较多的活性中心,但其脆性较大、易转化影响了其使用性能。N1-Mo合金研究表明,酸性溶液条件下获得的N1-Mo合金内裂纹较多,与基底的结合力较弱,当沉积层中的Mo/Ni为0.35时,材料具有较好的表观活性;且当镀层中Mo含量大于25at.%时,合金为非晶态结构,表面形貌表观为“磨燕”或“细砂”状,比表面积相对较大。
[0004]为了解决酸性溶液条件下所存在的问题,充分利用非晶态结构的化学活性和纳米晶的小尺寸效应,解决非晶态合金和纳米晶合金存在的问题,保持合金电极良好的电催化性能和提高电极的抗停电能力,本发明在碱性环境中,采用电镀方法获得一种非晶纳米晶复合镀层电极。
发明创造内容
[0005]本发明的目的是制备一种非晶纳米晶Ni_Mo23.36复合镀层电极。当该电极在电解水、冶金工业、氯碱工业的电解槽中使用时,可有效降低槽压和电解能耗;降低原料成本;提闻电极的反应活性,有效提闻电解效率。
[0006]为达到上述效果,力求制备方法简单,性价比高,本发明主要采用简单易控的稳压直流电沉积技术,镀液温度为室温,控制制备工艺参数在允许的误差范围内,镀液pH值9.5-10.0,控制镀液离子浓度不变,实现非晶纳米晶N1-Mo复合镀层电极的电沉积。
[0007]优选的,力求方法简单,采用简单易控的电沉积技术;
[0008]优选的,采用电子分析天平称量碱式碳酸镍NiCO3.2Ni (OH)2.4H2048g.Γ1 (以Ni 计,彡 44.0 % ),钥酸钠 Na2MoO4.2H2012g.Li ^ 99.0 % ),醋酸钠Na3C6H507.H2050g.L—1 (彡 99.0% ),硼酸 H3B0318g.L—1 (彡 99.5% ),首先配置成溶液,力口热至温度60°C,连续搅拌48小时;
[0009]优选的,将上述溶液冷却至室温,添加十二烷基硫酸钠C12H25NaO4S0.3g.Γ1连续搅拌24小时,直至泡沫消失;
[0010]优选的,在上述溶液中添加抗坏血栓C6H8O6L Og.Γ1搅拌12小时;
[0011]优选的,在上述溶液中添加氯化铵NH4C15g.L—H ^ 99.5 % ),细化剂糖精2.4g.L-1O 99.0% ),连续搅拌 24 小时;
[0012]优选的,利用NaOH 14g.L—1+氨水NH3溶液将上述溶液调节pH值至9.5?10.0 ;
[0013]优选的,室温条件下,利用直流稳压电源控制电流密度5.0-6.0A.dm_2,开始施镀,可获得非晶纳米晶NJ-Mo23.36复合镀层电极。
【附图说明】
[0014]下面结合附图对本发明做进一步说明。
[0015]图1为本发明一种非晶纳米晶复合镀层电极表面扫描电镜图;
[0016]图2为该复合镀层的成分能谱图;
[0017]图3为该复合镀层的X射线衍射图谱;
[0018]图4为该复合镀层的透射电镜图。
[0019]具体分析过程
[0020]本发明一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺,采用电沉积技术获得了一种非晶纳米晶沉积层。由图1可以看出,沉积层的表面布满了大小分布相对均匀的“砂状”或“蘑菇状”细小颗粒,结合镀液成分和图2该镀层的电子成分能谱图可以看出,该沉积层成分为N1-Mo合金。根据能谱分析的结果可知,该镀层内Mo的原子成分含量约为23.36%。图3为该镀层的X射线衍射图谱。由图3可见,该镀层的衍射峰在2 Θ?45°附近有一强烈的衍射峰,其他位置无明显的晶态衍射峰;在2 Θ ^ 50°、2Θ 一 75。、2Θ ^ 91°均呈“馒头状”漫衍射状态,表明该镀层呈现非晶态结构,结合标准图谱分析,衍射图出现了 Ni的衍射峰,非晶态不具备晶体的基本特征,没有符合布拉格衍射的界面,不会形成衍射峰。图4为该复合镀层的透射电镜图。从明场像可以看出,镀层内为无规则的团簇结构和具有边界的块状结构组成,呈现明显的杂乱无章结构分布。右上角电镜衍射发现具有晶体亮点和环状结构特征,结合镀层的现代表征方式和现代测试结果表明,该镀层结构为非晶态与纳米晶复合结构。
【主权项】
1.一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺,本发明的组成为:碱式碳酸镍 NiCO3.2Ni (OH)2.4H2048g.L—H 以 Ni 计,彡 44.0 % ),钥酸钠Na2MoO4.2H2012g.L—1 (彡 99.0 % ),醋酸钠 Na3C6H5O7.H2050g.U1 ( ^ 99.0%),硼酸H3B0318g ^ 99.5% ),氯化铵 NH4Cl5g.Γ1 ( ^ 99.5% ),糖精 2.4g*L_1( ^ 99.0% ),十二烷基硫酸钠C12H25NaO4S0.3g.?Λ抗坏血栓C6H8O6L Og.L'工艺条件:ρΗ = 9.5?10.0,稳压直流电源控制电流密度为5.0-6.0A.dm_2,温度为室温,沉积时间为60min。2.如权利要求1所述的一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺,采用稳压直流电沉积技术进行制备。3.如权利要求1所述的一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺,其特征在于:碱式碳酸镍NiCO3.2Ni (OH)2.4H2048g.L—1 (以Ni计,彡44.0 % ),钥酸钠Na2MoO4.2H2012g.L—1 (彡 99.0 % ),醋酸钠 Na3C6H5O7.H2050g.U1 ( ^ 99.0%),硼酸H3B0318g.L-1O 99.5% ),首先配置成溶液,加热至温度60°C,连续搅拌48小时。4.如权利要求3所述的镀液,冷却至室温,添加十二烷基硫酸钠C12H25NaO4S0.3g -Γ1连续搅拌24小时,直至泡沫消失。5.如权利要求3和4所述的镀液,添加抗坏血栓C6H8O6LOg.Γ1搅拌12小时。6.如权利要求3和4和5所述的一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺,其特征在于:添加氯化铵NH4Cl5g.L—1 ( ^ 99.5% ),细化剂糖精2.4g.L-1 (彡99.0% ),连续搅拌24小时。7.如权利要求1所述的一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺,采用NaOH14g?Γ1+氨水NH3溶液调节pH值至9.5?10.0。8.如权利要求1所述的一种非晶纳米晶复合镀层电极的制备工艺,室温条件下,稳压直流电源控制电流密度5.0-6.0A.dm_2,开始施镀,可获得非晶纳米晶N1-Mo23.36复合镀层电极。
【专利摘要】本发明的目的是制备一种非晶纳米晶Ni-Mo复合镀层电极。当该镀层电极在电解水、冶金工业、氯碱工业中使用时,可有效降低槽压和电解能耗;降低原料成本;提高电极的反应活性,有效提高电解效率。为达到上述效果,力求制备方法简单,性价比高,本发明主要采用简单易控的电沉积技术,镀液温度为室温,镀液pH值9.5-10.0,控制制备工艺参数在允许的误差范围内,控制镀液离子浓度不变,实现非晶纳米晶Ni-Mo23.36复合镀层电极的电沉积。
【IPC分类】C25B11/04, C25D3/56
【公开号】CN104975313
【申请号】CN201410155252
【发明人】李凝, 陈卫增, 贺新升, 王晓明, 王琳琳, 高春甫, 徐洪, 徐灯
【申请人】浙江师范大学
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2014年4月8日
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